Pourquoi les équipements pertinents se concentrent-ils à la fois sur la pollution particulaire et moléculaire ?

Le procédé de photolithographie est très sensible aux défauts. Les particules à la surface de la tranche peuvent affecter directement la qualité du motif, tandis que certaines contaminations moléculaires gazeuses peuvent également affecter la résine photosensible, les composants optiques ou les matériaux sensibles. Le contrôle des particules et le contrôle de la contamination moléculaire sont deux types de problèmes différents qui doivent être conçus et vérifiés séparément.

Le niveau de particules dans l'air est nuancé, ce qui ne prouve pas que la pollution moléculaire réponde aux exigences. Mélanger les deux types de pollution pourrait passer à côté du risque réel.

Les mécanismes de contamination particulaire et moléculaire sont différents

La contamination par des particules fait référence au dépôt de particules solides dans l'air sur la surface de la plaquette ou des composants optiques, formant des défauts. Les sources de particules comprennent la poussière des équipements, les activités du personnel, l'introduction des matériaux et le contournement du filtre.

La contamination moléculaire (AMC) fait référence aux contaminants gazeux ou vapeurs présents dans l'air qui peuvent provenir de rejets de matériaux, d'échappement de processus, de l'environnement externe ou d'agents de nettoyage. La contamination moléculaire peut affecter les surfaces sensibles par le biais de réactions chimiques, d'adsorption ou de condensation.

Les particules et les molécules ont des formes physiques différentes, ainsi que des modes de propagation et de contrôle différents. Les filtres retiennent les particules, mais la contamination moléculaire nécessite une filtration chimique ou un contrôle de l'alimentation en air.

Les niveaux de particules atmosphériques ne couvrent pas la pollution moléculaire

Les niveaux de propreté décrivent la concentration de particules dans l'air. La contamination moléculaire est généralement mesurée comme la concentration ou les résidus de surface d'un contaminant spécifique, qui sont des indicateurs différents.

Même si les niveaux de particules dans l’air sont acceptables, la contamination moléculaire peut encore dépasser les normes. Pour déterminer si la contamination moléculaire répond aux exigences, les contaminants cibles doivent être détectés séparément plutôt que remplacés par des données sur les particules.

Pour connaître la différence entre les méthodes de contrôle de la pollution particulaire et moléculaire, veuillez vous référer à Comment HEPA et ULPA correspondent-ils aux objectifs de propreté ? , comprenez d’abord les limites fonctionnelles du filtre.

Objets sensibles des équipements de lithographie

Parmi les équipements liés à la lithographie, ceux qui sont sensibles à la contamination comprennent généralement :

• Surfaces photorésistantes et caoutchoutées ;

• lentilles et lentilles optiques;

• réticules et surfaces graphiques ;

• Mécanismes et capteurs de mouvement de précision.

Ces objets diffèrent par leur sensibilité à la contamination particulaire et moléculaire et doivent être évalués séparément. Certains matériaux sont plus sensibles à des gaz ou vapeurs spécifiques et nécessitent une confirmation individuelle.

Sources courantes de contamination moléculaire

La contamination moléculaire peut provenir de :

• Libération de matériaux d’équipement et de lubrifiant ;

• systèmes d'échappement et de vide de processus ;

• air ambiant externe ;

• Résidus de nettoyants et de solvants ;

• Activités du personnel et matériel apporté.

Pour contrôler la pollution moléculaire, il faut partir de plusieurs aspects : le contrôle des sources, l’élimination de la ventilation et la filtration chimique. Certains procédés nécessitent également un contrôle de la concentration de gaz ou de vapeurs spécifiques.

Concevoir et vérifier deux types de contrôles séparément

Le contrôle des particules et le contrôle de la contamination moléculaire doivent être conçus séparément :

• Contrôle des particules : classement du filtre, mode d'alimentation en air, étanchéité et organisation du flux d'air ;

• Contrôle de la contamination moléculaire : filtres chimiques, alimentation en air, évacuation et gestion des matériaux.

La vérification doit également être effectuée séparément :

• Détection de particules : échantillonnage en fonction de la taille, de l'emplacement et de l'état des particules ;

• Détection de contamination moléculaire : échantillonnage par contaminant cible et méthode.

Les méthodes d'échantillonnage, les instruments et les normes de jugement des deux types de tests sont différents et ne peuvent se substituer l'un à l'autre. Pour la sélection du lieu d'échantillonnage, veuillez vous référer à Pourquoi le point de prélèvement ne peut-il pas être situé juste en dessous de la sortie d’alimentation en air ? , comprenez les idées de mise en page représentatives.

Filtration chimique et résistance du système

Lors de l'utilisation d'un filtre chimique en combinaison avec un filtre à particules, la résistance totale et la capacité du ventilateur doivent être vérifiées. La résistance du média filtrant chimique affectera le point de fonctionnement du système, de sorte que les filtres à particules ne peuvent pas être pris en compte uniquement lors de la sélection.

Pour une protection partielle côté équipement, veuillez vous référer à L'unité de filtre de ventilateur située à l'extrémité de l'équipement EFU peut être configurée en fonction de la sélection d'espace et de résistance. Filtrer les produits disponibles Filtres HEPA et ULPA , contrôlez l'efficacité de la filtration des particules et l'étanchéité de l'installation. Si le flux d'air dans la cavité de l'équipement est impliqué, veuillez vous référer à Comment planifier l’alimentation en air pur des cavités fermées des équipements ? , comprendre l’organisation interne du flux d’air.

Deux types de données sont enregistrés séparément lors de la vérification

Les dossiers de vérification des équipements de lithographie doivent inclure :

• Données sur les particules : taille des particules, emplacement, concentration ;

• Données de pollution moléculaire : polluants cibles, concentrations, méthodes ;

• État de fonctionnement de l'équipement et conditions du processus ;

• État du filtre et du média filtrant chimique.

Les deux types de données correspondent à leurs plages d’évaluation respectives et ne peuvent être mélangées à des fins de jugement. Le niveau de propreté doit indiquer la taille et l'état des particules. Pour des raisons spécifiques, veuillez vous référer à Pourquoi faut-il indiquer la taille des particules dans le degré de propreté ?。

Exemple de jugement de projet

Une certaine station d'équipement de photolithographie a réussi l'inspection des particules, mais le processus présentait toujours des défauts. L'enquête a révélé que la contamination moléculaire n'était pas incluse dans le champ de détection. Méthode d'ajustement : compléter la détection de la pollution moléculaire pour confirmer la concentration du polluant cible. Après réglage, le sens de commande est clarifié.

Dans un autre projet, après avoir ajouté un filtre chimique à l'équipement, la résistance du système a augmenté et le volume d'air a diminué. Méthode de réglage : vérifiez la résistance combinée du filtre chimique et du filtre à particules et ajustez le point de fonctionnement du ventilateur. Après réglage, le volume d'air et l'effet de filtration sont tous deux satisfaits.

Ces deux situations illustrent que le contrôle de la pollution des équipements de lithographie doit prendre en compte à la fois la pollution particulaire et moléculaire, et que les deux types de contrôle doivent être conçus et vérifiés séparément.

Points clés pour le contrôle de sélection et de réception

Support d'équipement industriel Aili

Le contrôle de la pollution des équipements de lithographie implique deux types de cibles : la contamination particulaire et moléculaire. Aili Industrial dispose de capacités de collaboration dans les domaines des ventilateurs, des moteurs, des filtres, des systèmes de contrôle et des liens complets d'assemblage de machines. Il peut vérifier la configuration combinée de la filtration des particules et de la filtration chimique, la direction de l'alimentation en air et le point de fonctionnement du ventilateur en fonction des objets sensibles de l'équipement, des polluants cibles et de la résistance du système, aidant ainsi à mettre en œuvre respectivement les deux types de contrôles dans le plan de l'équipement, plutôt que de sélectionner uniquement en fonction des niveaux de particules. Vous pouvez consulter le package d'équipement Unité de filtre de ventilateur d'extrémité d'équipement EFU , veuillez vous référer à l'emballage du filtre. Filtres HEPA et ULPA , veuillez vous référer à l'alimentation en air ambiant Produits d'alimentation en air pur FFU。