관련 장비가 입자 및 분자 오염 모두에 초점을 맞추는 이유는 무엇입니까?
포토리소그래피 공정은 결함에 매우 민감합니다. 웨이퍼 표면의 입자는 패턴 품질에 직접적인 영향을 미칠 수 있으며 특정 가스 분자 오염은 포토레지스트, 광학 구성 요소 또는 민감한 재료에도 영향을 미칠 수 있습니다. 입자 제어와 분자 오염 제어는 별도로 설계하고 검증해야 하는 두 가지 유형의 문제입니다.
공기 입자 수준은 적합하지만 분자 오염이 요구 사항을 충족한다는 것을 증명하지는 않습니다. 두 가지 유형의 오염을 함께 혼합하면 실제 위험을 놓칠 수 있습니다.
미립자와 분자 오염의 메커니즘은 다릅니다.
입자 오염은 웨이퍼 표면이나 광학 부품의 공기 중에 고체 입자가 침착되어 결함을 형성하는 것을 의미합니다. 입자의 출처에는 장비 먼지, 직원 활동, 재료 유입 및 필터 우회가 포함됩니다.
분자 오염(AMC)은 물질 방출, 공정 배기, 외부 환경 또는 세척제에서 발생할 수 있는 공기 중 가스 또는 증기 오염 물질을 의미합니다. 분자 오염은 화학 반응, 흡착 또는 응축을 통해 민감한 표면에 영향을 미칠 수 있습니다.
입자와 분자는 물리적 형태가 다르며 전파 및 제어 방식도 다릅니다. 필터는 입자를 걸러내지만 분자 오염에는 화학적 여과 또는 공기 공급 제어가 필요합니다.
공기 입자 수준은 분자 오염을 포함하지 않습니다.
청정도 수준은 공기 중의 입자 농도를 나타냅니다. 분자 오염은 일반적으로 다양한 지표인 특정 오염물질의 농도 또는 표면 잔류물로 측정됩니다.
공기 입자 수준이 허용 가능하더라도 분자 오염은 여전히 기준을 초과할 수 있습니다. 분자 오염이 요구 사항을 충족하는지 확인하려면 입자 데이터로 대체하기보다는 대상 오염 물질을 별도로 감지해야 합니다.
입자상 오염과 분자 오염의 제어 방법의 차이점은 다음을 참조하십시오. HEPA와 ULPA는 청결도 목표와 어떻게 일치합니까? , 먼저 필터의 기능적 경계를 이해하십시오.
리소그래피 장비의 민감한 물체
리소그래피 관련 장비 중 오염에 민감한 장비는 일반적으로 다음과 같습니다.
포토레지스트 및 고무 표면;
광학 렌즈 및 렌즈;
레티클 및 그래픽 표면;
정밀 모션 메커니즘 및 센서.
이러한 물체는 미립자 및 분자 오염에 대한 민감도가 다르므로 별도로 평가해야 합니다. 일부 재료는 특정 가스나 증기에 더 민감하므로 개별 확인이 필요합니다.
분자 오염의 일반적인 원인
분자 오염은 다음에서 발생할 수 있습니다.
장비 재료 및 윤활유 방출;
공정 배기 및 진공 시스템;
외부 대기;
세척제 및 용제 잔류물;
인사 활동 및 자료 반입.
분자 오염을 제어하려면 오염원 제어, 환기 제거, 화학적 여과 등 여러 측면에서 시작해야 합니다. 일부 공정에서는 특정 가스나 증기의 농도 제어도 필요합니다.
두 가지 유형의 컨트롤을 별도로 설계하고 검증합니다.
입자 제어와 분자 오염 제어는 별도로 설계해야 합니다.
입자 제어: 필터 등급, 공기 공급 방법, 밀봉 및 공기 흐름 구성;
분자 오염 제어: 화학 필터, 공기 공급, 배기 및 재료 관리.
확인도 별도로 수행해야 합니다.
두 가지 유형의 테스트는 샘플링 방법, 도구 및 판단 기준이 다르며 서로 대체할 수 없습니다. 샘플링 위치 선택은 다음을 참조하십시오. 샘플링 지점을 공기 공급 출구 바로 아래에 위치시킬 수 없는 이유는 무엇입니까? , 대표적인 레이아웃 아이디어를 이해합니다.
화학적 여과 및 시스템 저항
케미컬 필터를 입자 필터와 함께 사용할 경우 총 저항과 팬 용량을 확인해야 합니다. 화학 필터 매체의 저항은 시스템 작동점에 영향을 미치므로 입자 필터는 선택할 때만 고려할 수 없습니다.
장비 측면의 부분적인 보호에 대해서는 다음을 참조하십시오. EFU 장비 끝단의 팬 필터 장치는 공간 및 저항 선택에 따라 구성할 수 있습니다. 사용 가능한 제품 필터링 HEPA 및 ULPA 필터 , 입자 여과 효율성 및 설치 밀봉을 확인합니다. 장비 공간의 공기 흐름이 관련된 경우 다음을 참조하십시오. 폐쇄된 장비 공간에 깨끗한 공기 공급을 계획하는 방법은 무엇입니까? , 내부 공기 흐름 조직을 이해합니다.
검증 시 두 가지 유형의 데이터가 별도로 기록됩니다.
리소그래피 장비에 대한 검증 기록에는 다음이 포함되어야 합니다.
두 가지 유형의 데이터는 각각의 평가 범위에 해당하며 판단을 위해 함께 혼합할 수 없습니다. 청정도 수준은 입자 크기와 상태를 나타내야 합니다. 구체적인 이유는 다음을 참조하세요. 청정도 등급에 입자 크기를 표시해야 하는 이유는 무엇입니까?。
프로젝트 판단 예시
특정 사진 평판 장비 스테이션이 이물 검사를 통과했지만 여전히 공정에 결함이 있었습니다. 조사 결과, 분자 오염은 탐지 범위에 포함되지 않은 것으로 나타났습니다. 조정방법: 분자오염 검출을 보완하여 목표 오염물질 농도를 확인합니다. 조정 후에는 제어 방향이 명확해집니다.
또 다른 프로젝트에서는 장비에 케미컬 필터를 추가한 후 시스템 저항이 증가하고 공기량이 감소했습니다. 조정 방법: 케미컬 필터와 입자 필터의 결합 저항을 확인하고 팬 작동점을 조정합니다. 조정 후 풍량과 여과 효과가 모두 만족됩니다.
이 두 가지 상황은 리소그래피 장비의 오염 제어가 입자 및 분자 오염을 모두 고려해야 하며 두 가지 유형의 제어를 별도로 설계하고 검증해야 함을 보여줍니다.
선정 및 합격심사 핵심사항
확인항목 |
핵심사항 확인 |
입자 지수 |
입자 크기 농도 결정 |
가스 표적 |
특정 오염 물질 목록 |
저항을 지지하다 |
팬 작동 지점을 확인하세요. |
확인 방법 |
테스트를 별도로 준비 |
민감한 개체 |
재료 및 표면 요구사항 확인 |
실행 상태 |
작업 및 프로세스 조건 문서화 |
수용 범위 |
미립자 오염과 분자 오염 구별 |
Aili 산업용 장비 지원 지원
리소그래피 장비의 오염 제어에는 입자 오염과 분자 오염이라는 두 가지 유형의 대상이 포함됩니다. Aili Industrial은 팬, 모터, 필터, 제어 시스템 및 전체 기계 조립 링크에 대한 협업 기능을 갖추고 있습니다. 장비의 민감한 대상, 대상 오염물질 및 시스템 저항에 따라 입자 여과와 화학 여과의 결합 구성, 공기 공급 방향 및 팬 작동 지점을 확인할 수 있어 입자 수준만을 기준으로 선택하는 것이 아니라 두 가지 유형의 제어를 각각 장비 계획에 구현하는 데 도움이 됩니다. 장비 패키지를 볼 수 있습니다. EFU 장비 엔드 팬 필터 장치는 필터 패키지를 참조하십시오. HEPA 및 ULPA 필터 , 실내 공기 공급을 참조하세요. FFU 청정 공기 공급 제품。
