Почему соответствующее оборудование фокусируется как на частицах, так и на молекулярном загрязнении?

Процесс фотолитографии очень чувствителен к дефектам. Частицы на поверхности пластины могут напрямую влиять на качество рисунка, в то время как определенные газообразные молекулярные загрязнения могут также влиять на фоторезист, оптические компоненты или чувствительные материалы. Контроль частиц и контроль молекулярного загрязнения — это два разных типа проблем, которые необходимо разрабатывать и проверять отдельно.

Уровень частиц в воздухе квалифицирован, что не доказывает, что молекулярное загрязнение соответствует требованиям. Смешение двух типов загрязнения вместе может упустить реальный риск.

Механизмы дисперсного и молекулярного загрязнения различны.

Загрязнение частицами означает осаждение твердых частиц из воздуха на поверхность пластины или оптических компонентов, образуя дефекты. Источниками частиц являются пыль оборудования, деятельность персонала, внесение материалов и обход фильтров.

Молекулярное загрязнение (AMC) относится к газообразным или парообразным загрязнениям в воздухе, которые могут поступать из выбросов материалов, технологических выхлопов, внешней среды или чистящих средств. Молекулярное загрязнение может повлиять на чувствительные поверхности посредством химических реакций, адсорбции или конденсации.

Частицы и молекулы имеют разные физические формы, а также разные способы распространения и управления. Фильтры задерживают частицы, но молекулярное загрязнение требует химической фильтрации или контроля подачи воздуха.

Уровни частиц в воздухе не покрывают молекулярное загрязнение

Уровни чистоты описывают концентрацию частиц в воздухе. Молекулярное загрязнение обычно измеряется как концентрация или остаток на поверхности конкретного загрязнителя, которые являются разными показателями.

Даже если уровень частиц в воздухе является приемлемым, молекулярное загрязнение все равно может превышать стандарты. Чтобы определить, соответствует ли молекулярное загрязнение требованиям, целевые загрязнители следует обнаруживать отдельно, а не заменять данными о частицах.

О разнице между методами борьбы с твердыми и молекулярными загрязнениями см. Как HEPA и ULPA соответствуют целям обеспечения чистоты? , сначала поймите функциональные границы фильтра.

Чувствительные объекты литографического оборудования

Среди оборудования, связанного с литографией, к чувствительным к загрязнению обычно относятся:

• Фоторезист и прорезиненные поверхности;

• оптические линзы и линзы;

• сетки и графические поверхности;

• Прецизионные механизмы и датчики движения.

Эти объекты различаются по своей чувствительности к частицам и молекулярному загрязнению, и их необходимо оценивать отдельно. Некоторые материалы более чувствительны к определенным газам или парам и требуют индивидуального подтверждения.

Распространенные источники молекулярного загрязнения

Молекулярное загрязнение может происходить из-за:

• Выпуск материалов и смазочных материалов оборудования;

• технологические вытяжные и вакуумные системы;

• внешний окружающий воздух;

• Остатки очистителя и растворителя;

• Деятельность персонала и привлеченные материалы.

Чтобы контролировать молекулярное загрязнение, нам нужно начать с нескольких аспектов: контроль источников, устранение вентиляции и химическая фильтрация. Некоторые процессы также требуют контроля концентрации определенных газов или паров.

Разработайте и проверьте два типа средств управления отдельно

Контроль частиц и контроль молекулярного загрязнения должны разрабатываться отдельно:

• Контроль частиц: номинал фильтра, способ подачи воздуха, герметизация и организация воздушного потока;

• Контроль молекулярного загрязнения: химические фильтры, подача воздуха, вытяжка и управление материалами.

Верификацию также следует проводить отдельно:

• Обнаружение частиц: отбор проб в зависимости от размера, местоположения и состояния частиц;

• Обнаружение молекулярного загрязнения: отбор проб по целевому загрязнителю и методу.

Методы выборки, инструменты и стандарты оценки двух типов тестов различны и не могут быть заменены друг другом. Для выбора места отбора проб см. Почему нельзя расположить точку отбора проб прямо под отверстием подачи воздуха? , понять репрезентативные идеи макета.

Химическая фильтрация и устойчивость системы

При использовании химического фильтра в сочетании с фильтром твердых частиц необходимо проверить общее сопротивление и производительность вентилятора. Сопротивление химического фильтрующего материала влияет на рабочую точку системы, поэтому фильтры твердых частиц нельзя учитывать только при выборе.

Информацию о местной защите со стороны оборудования см. Блок вентиляторного фильтра на стороне оборудования EFU можно сконфигурировать в соответствии с выбором места и сопротивления. Фильтровать доступные продукты Фильтры HEPA и ULPA . Проверьте эффективность фильтрации частиц и герметичность установки. Если имеется поток воздуха в полости оборудования, см. Как спланировать подачу чистого воздуха в закрытые полости оборудования? , разобраться в организации внутреннего воздушного потока.

При проверке два типа данных записываются отдельно.

Протоколы поверки литографического оборудования должны включать:

• Данные о частицах: размер частиц, местоположение, концентрация;

• Данные о молекулярном загрязнении: целевые загрязнители, концентрации, методы;

• Рабочее состояние оборудования и технологические условия;

• Состояние фильтра и химического фильтрующего материала.

Эти два типа данных соответствуют соответствующим диапазонам оценки и не могут быть смешаны для принятия решения. Уровень чистоты должен указывать размер и состояние частиц. По конкретным причинам см. Почему в классе чистоты обязательно указывается размер частиц?。

Пример оценки проекта

Определенная станция фотолитографического оборудования прошла проверку на частицы, но в процессе все еще были дефекты. В ходе расследования выяснилось, что молекулярное загрязнение не входило в объем обнаружения. Метод настройки: Дополните обнаружение молекулярного загрязнения для подтверждения целевой концентрации загрязняющего вещества. После регулировки уточняется направление управления.

В другом проекте после добавления в оборудование химического фильтра сопротивление системы увеличилось, а объем воздуха уменьшился. Метод регулировки: проверьте общее сопротивление химического фильтра и фильтра твердых частиц и отрегулируйте рабочую точку вентилятора. После регулировки объем воздуха и эффект фильтрации удовлетворяются.

Эти две ситуации иллюстрируют, что контроль загрязнения литографического оборудования должен учитывать как частицы, так и молекулярное загрязнение, и оба типа контроля должны разрабатываться и проверяться отдельно.

Ключевые моменты при выборе и приемочном контроле

Поддержка промышленного оборудования Aili

Контроль загрязнения литографического оборудования включает в себя два типа целей: загрязнение частицами и молекулярное загрязнение. Aili Industrial имеет возможности совместной работы в области вентиляторов, двигателей, фильтров, систем управления и комплексных звеньев сборки машин. Он может проверять комбинированную конфигурацию фильтрации частиц и химической фильтрации, направление подачи воздуха и рабочую точку вентилятора в соответствии с чувствительными объектами оборудования, целевыми загрязнителями и сопротивлением системы, помогая внедрить два типа контроля в план оборудования соответственно, а не выбирать, основываясь исключительно на уровнях частиц. Поддержка со стороны устройства можно просмотреть Блок фильтра концевого вентилятора оборудования EFU , см. комплект фильтров. Фильтры HEPA и ULPA , см. подачу воздуха в помещение. Продукты FFU для обеспечения чистого воздуха。