Tại sao thiết bị liên quan tập trung vào cả ô nhiễm hạt và phân tử?

Quá trình quang khắc rất nhạy cảm với các khuyết tật. Các hạt trên bề mặt wafer có thể ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng mẫu, trong khi ô nhiễm phân tử khí nhất định cũng có thể ảnh hưởng đến chất quang dẫn, thành phần quang học hoặc vật liệu nhạy cảm. Kiểm soát hạt và kiểm soát ô nhiễm phân tử là hai loại vấn đề khác nhau cần được thiết kế và xác minh riêng biệt.

Mức độ hạt không khí đủ tiêu chuẩn, điều này không chứng tỏ ô nhiễm phân tử đáp ứng yêu cầu. Trộn hai loại ô nhiễm lại với nhau có thể bỏ lỡ rủi ro thực sự.

Các cơ chế ô nhiễm hạt và phân tử là khác nhau

Ô nhiễm hạt đề cập đến sự lắng đọng của các hạt rắn trong không khí trên bề mặt wafer hoặc các thành phần quang học, tạo thành các khuyết tật. Nguồn hạt bao gồm bụi thiết bị, hoạt động nhân sự, đưa vật liệu vào và bỏ qua bộ lọc.

Ô nhiễm phân tử (AMC) đề cập đến các chất gây ô nhiễm dạng khí hoặc hơi trong không khí có thể đến từ việc thải vật liệu, khí thải của quá trình, môi trường bên ngoài hoặc chất tẩy rửa. Ô nhiễm phân tử có thể ảnh hưởng đến các bề mặt nhạy cảm thông qua các phản ứng hóa học, hấp phụ hoặc ngưng tụ.

Các hạt và phân tử có dạng vật lý khác nhau, cũng như các phương thức lan truyền và điều khiển khác nhau. Bộ lọc bẫy các hạt, nhưng ô nhiễm phân tử đòi hỏi phải lọc bằng hóa chất hoặc kiểm soát nguồn cung cấp không khí.

Mức độ hạt không khí không bao gồm ô nhiễm phân tử

Mức độ sạch sẽ mô tả nồng độ của các hạt trong không khí. Ô nhiễm phân tử thường được đo bằng nồng độ hoặc dư lượng bề mặt của một chất gây ô nhiễm cụ thể, là các chỉ số khác nhau.

Ngay cả khi mức độ hạt trong không khí ở mức chấp nhận được thì ô nhiễm phân tử vẫn có thể vượt quá tiêu chuẩn. Để xác định xem ô nhiễm phân tử có đáp ứng yêu cầu hay không, các chất gây ô nhiễm mục tiêu phải được phát hiện riêng biệt thay vì thay thế bằng dữ liệu hạt.

Để biết sự khác biệt giữa các phương pháp kiểm soát ô nhiễm hạt và ô nhiễm phân tử, vui lòng tham khảo HEPA và ULPA phù hợp với mục tiêu sạch sẽ như thế nào? , trước tiên hãy hiểu ranh giới chức năng của bộ lọc.

Đối tượng nhạy cảm của thiết bị in thạch bản

Trong số các thiết bị liên quan đến in thạch bản, những thiết bị nhạy cảm với ô nhiễm thường bao gồm:

• Bề mặt quang điện và cao su;

• ống kính quang học và ống kính;

• mặt kẻ ô và bề mặt đồ họa;

• Cơ chế chuyển động chính xác và cảm biến.

Những vật thể này khác nhau về độ nhạy cảm với ô nhiễm hạt và phân tử và cần được đánh giá riêng biệt. Một số vật liệu nhạy cảm hơn với các loại khí hoặc hơi cụ thể và cần được xác nhận riêng lẻ.

Các nguồn ô nhiễm phân tử phổ biến

Ô nhiễm phân tử có thể đến từ:

• Giải phóng vật liệu thiết bị và chất bôi trơn;

• xử lý hệ thống xả và chân không;

• không khí xung quanh bên ngoài;

• Chất tẩy rửa và cặn dung môi;

• Các hoạt động nhân sự và vật liệu mang vào.

Để kiểm soát ô nhiễm phân tử, chúng ta cần bắt đầu từ một số khía cạnh: kiểm soát nguồn, loại bỏ thông gió và lọc hóa học. Một số quy trình cũng yêu cầu kiểm soát nồng độ của các loại khí hoặc hơi cụ thể.

Thiết kế và xác minh hai loại điều khiển riêng biệt

Kiểm soát hạt và kiểm soát ô nhiễm phân tử phải được thiết kế riêng biệt:

• Kiểm soát hạt: định mức bộ lọc, phương pháp cấp không khí, tổ chức bịt kín và luồng không khí;

• Kiểm soát ô nhiễm phân tử: bộ lọc hóa học, cung cấp không khí, quản lý khí thải và vật liệu.

Việc xác minh cũng phải được thực hiện riêng biệt:

• Phát hiện hạt: lấy mẫu theo kích thước hạt, vị trí và trạng thái;

• Phát hiện ô nhiễm phân tử: lấy mẫu theo chất gây ô nhiễm mục tiêu và phương pháp.

Phương pháp lấy mẫu, dụng cụ và tiêu chuẩn đánh giá của hai loại xét nghiệm này là khác nhau và không thể thay thế cho nhau. Để lựa chọn vị trí lấy mẫu, vui lòng tham khảo Tại sao điểm lấy mẫu không thể được đặt ngay bên dưới cửa cấp khí? , hiểu ý tưởng bố cục đại diện.

Lọc hóa học và kháng hệ thống

Khi sử dụng bộ lọc hóa học kết hợp với bộ lọc hạt cần kiểm tra tổng điện trở và công suất quạt. Điện trở của vật liệu lọc hóa học sẽ ảnh hưởng đến điểm vận hành hệ thống, do đó không thể chỉ xem xét các bộ lọc hạt khi lựa chọn.

Để bảo vệ cục bộ về phía thiết bị, vui lòng tham khảo Bộ lọc quạt ở đầu thiết bị EFU có thể được cấu hình theo lựa chọn không gian và điện trở. Lọc sản phẩm có sẵn Bộ lọc HEPA và ULPA , kiểm tra hiệu quả lọc hạt và độ kín lắp đặt. Nếu có liên quan đến luồng không khí trong khoang thiết bị, vui lòng tham khảo Lập kế hoạch cung cấp không khí sạch cho các khoang thiết bị kín như thế nào? , hiểu tổ chức luồng không khí nội bộ.

Hai loại dữ liệu được ghi lại riêng biệt trong quá trình xác minh

Hồ sơ xác minh thiết bị in thạch bản phải bao gồm:

• Dữ liệu hạt: kích thước hạt, vị trí, nồng độ;

• Dữ liệu ô nhiễm phân tử: chất ô nhiễm mục tiêu, nồng độ, phương pháp;

• Tình trạng vận hành thiết bị và điều kiện quy trình;

• Trạng thái của bộ lọc và phương tiện lọc hóa học.

Hai loại dữ liệu tương ứng với phạm vi đánh giá tương ứng của chúng và không thể trộn lẫn với nhau để đánh giá. Mức độ sạch phải cho biết kích thước và trạng thái hạt. Vì lý do cụ thể, vui lòng tham khảo Tại sao kích thước hạt phải được chỉ định trong cấp độ sạch?。

Ví dụ về đánh giá dự án

Một trạm thiết bị quang khắc nào đó đã vượt qua cuộc kiểm tra hạt, nhưng quá trình này vẫn có sai sót. Cuộc điều tra cho thấy ô nhiễm phân tử không được đưa vào phạm vi phát hiện. Phương pháp điều chỉnh: Bổ sung khả năng phát hiện ô nhiễm phân tử để xác nhận nồng độ chất ô nhiễm mục tiêu. Sau khi điều chỉnh, hướng điều khiển được làm rõ.

Trong một dự án khác, sau khi thêm bộ lọc hóa học vào thiết bị, điện trở của hệ thống tăng lên và thể tích không khí giảm xuống. Phương pháp điều chỉnh: Kiểm tra điện trở kết hợp của bộ lọc hóa học và bộ lọc hạt, đồng thời điều chỉnh điểm làm việc của quạt. Sau khi điều chỉnh, lượng không khí và hiệu quả lọc đều đạt yêu cầu.

Hai tình huống này minh họa rằng việc kiểm soát ô nhiễm của thiết bị in thạch bản cần phải xem xét cả ô nhiễm hạt và ô nhiễm phân tử, đồng thời hai loại biện pháp kiểm soát này phải được thiết kế và xác minh riêng biệt.

Những điểm chính để lựa chọn và kiểm tra chấp nhận

Hỗ trợ hỗ trợ thiết bị công nghiệp Aili

Kiểm soát ô nhiễm của thiết bị in thạch bản liên quan đến hai loại mục tiêu: ô nhiễm hạt và phân tử. Aili Industrial có khả năng hợp tác về quạt, động cơ, bộ lọc, hệ thống điều khiển và các liên kết lắp ráp máy hoàn chỉnh. Nó có thể kiểm tra cấu hình kết hợp giữa lọc hạt và lọc hóa học, hướng cấp không khí và điểm làm việc của quạt theo các đối tượng nhạy cảm của thiết bị, các chất gây ô nhiễm mục tiêu và điện trở của hệ thống, giúp triển khai hai loại điều khiển này vào sơ đồ thiết bị, thay vì chỉ lựa chọn dựa trên mức độ hạt. Bạn có thể xem gói thiết bị Bộ lọc quạt cuối thiết bị EFU , vui lòng tham khảo gói bộ lọc. Bộ lọc HEPA và ULPA , vui lòng tham khảo nguồn cung cấp không khí trong phòng Sản phẩm cung cấp không khí sạch FFU。