¿Por qué los equipos relevantes se centran tanto en la contaminación por partículas como molecular?

El proceso de fotolitografía es muy sensible a los defectos. Las partículas en la superficie de la oblea pueden afectar directamente la calidad del patrón, mientras que cierta contaminación molecular gaseosa también puede afectar el fotorresistente, los componentes ópticos o los materiales sensibles. El control de partículas y el control de la contaminación molecular son dos tipos diferentes de problemas que deben diseñarse y verificarse por separado.

El nivel de partículas en el aire está calificado, lo que no prueba que la contaminación molecular cumpla con los requisitos. Mezclar los dos tipos de contaminación puede pasar por alto el riesgo real.

Los mecanismos de contaminación por partículas y moleculares son diferentes.

La contaminación por partículas se refiere a la deposición de partículas sólidas en el aire sobre la superficie de la oblea o los componentes ópticos, formando defectos. Las fuentes de partículas incluyen el polvo de los equipos, las actividades del personal, la introducción de materiales y la derivación del filtro.

La contaminación molecular (AMC) se refiere a contaminantes gaseosos o vaporosos en el aire que pueden provenir de emisiones de materiales, escapes de procesos, el ambiente externo o agentes de limpieza. La contaminación molecular puede afectar superficies sensibles a través de reacciones químicas, adsorción o condensación.

Las partículas y moléculas tienen diferentes formas físicas, así como diferentes modos de propagación y control. Los filtros atrapan partículas, pero la contaminación molecular requiere filtración química o control del suministro de aire.

Los niveles de partículas en el aire no cubren la contaminación molecular

Los niveles de limpieza describen la concentración de partículas en el aire. La contaminación molecular generalmente se mide como la concentración o residuo superficial de un contaminante específico, que son indicadores diferentes.

Incluso si los niveles de partículas en el aire son aceptables, la contaminación molecular aún puede exceder los estándares. Para determinar si la contaminación molecular cumple con los requisitos, los contaminantes objetivo deben detectarse por separado en lugar de reemplazarse por datos de partículas.

Para conocer la diferencia entre los métodos de control de la contaminación molecular y de partículas, consulte ¿Cómo coinciden HEPA y ULPA con los objetivos de limpieza? Primero, comprenda los límites funcionales del filtro.

Objetos sensibles de equipos de litografía.

Entre los equipos relacionados con la litografía, los que son sensibles a la contaminación suelen incluir:

• Superficies fotorresistentes y engomadas;

• lentes y lentes ópticas;

• retículas y superficies gráficas;

• Mecanismos y sensores de movimiento de precisión.

Estos objetos difieren en su sensibilidad a la contaminación molecular y de partículas y deben evaluarse por separado. Algunos materiales son más sensibles a gases o vapores específicos y requieren confirmación individual.

Fuentes comunes de contaminación molecular.

La contaminación molecular puede provenir de:

• Liberación de material y lubricante del equipo;

• sistemas de escape y vacío de procesos;

• aire ambiente externo;

• Residuos de limpiadores y disolventes;

• Actividades del personal y materiales traídos.

Para controlar la contaminación molecular, debemos partir de varios aspectos: control de fuentes, eliminación de ventilación y filtración química. Algunos procesos también requieren control de la concentración de gases o vapores específicos.

Diseñe y verifique dos tipos de controles por separado

El control de partículas y el control de la contaminación molecular deben diseñarse por separado:

• Control de partículas: clasificación del filtro, método de suministro de aire, sellado y organización del flujo de aire;

• Control de contaminación molecular: filtros químicos, suministro de aire, escape y gestión de materiales.

La verificación también debe realizarse por separado:

• Detección de partículas: muestreo según tamaño, ubicación y estado de las partículas;

• Detección de contaminación molecular: muestreo por contaminante objetivo y método.

Los métodos de muestreo, instrumentos y estándares de juicio de los dos tipos de pruebas son diferentes y no pueden sustituirse entre sí. Para la selección del lugar de muestreo, consulte ¿Por qué no se puede ubicar el punto de muestreo justo debajo de la salida del suministro de aire? , comprenda las ideas de diseño representativas.

Filtración química y resistencia del sistema.

Cuando se utiliza un filtro químico en combinación con un filtro de partículas, es necesario comprobar la resistencia total y la capacidad del ventilador. La resistencia del medio filtrante químico afectará el punto de funcionamiento del sistema, por lo que los filtros de partículas no se pueden considerar únicamente al seleccionar.

Para la protección local en el lado del equipo, consulte La unidad de filtrado del ventilador en el extremo del equipo EFU se puede configurar según la selección de espacio y resistencia. Filtrar productos disponibles Filtros HEPA y ULPA , comprobar eficacia de filtración de partículas y estanqueidad de la instalación. Si hay flujo de aire en la cavidad del equipo, consulte ¿Cómo planificar el suministro de aire limpio para las cavidades cerradas de los equipos? , comprender la organización interna del flujo de aire.

Dos tipos de datos se registran por separado durante la verificación.

Los registros de verificación de los equipos de litografía deben incluir:

• Datos de partículas: tamaño de partícula, ubicación, concentración;

• Datos de contaminación molecular: contaminantes objetivo, concentraciones, métodos;

• Estado operativo del equipo y condiciones del proceso;

• Estado del filtro y del medio filtrante químico.

Los dos tipos de datos corresponden a sus respectivos rangos de evaluación y no se pueden mezclar para realizar juicios. El nivel de limpieza debe indicar el tamaño y estado de las partículas. Por motivos específicos, consulte ¿Por qué se debe indicar el tamaño de las partículas en el grado de limpieza?。

Ejemplo de juicio de proyecto

Cierta estación de equipos de fotolitografía pasó la inspección de partículas, pero el proceso aún tenía defectos. La investigación encontró que la contaminación molecular no estaba incluida en el alcance de la detección. Método de ajuste: complemente la detección de contaminación molecular para confirmar la concentración de contaminantes objetivo. Después del ajuste, se aclara la dirección de control.

En otro proyecto, luego de agregar un filtro químico al equipo, la resistencia del sistema aumentó y el volumen de aire disminuyó. Método de ajuste: Verifique la resistencia combinada del filtro químico y del filtro de partículas, y ajuste el punto de trabajo del ventilador. Después del ajuste, se satisfacen tanto el volumen de aire como el efecto de filtración.

Estas dos situaciones ilustran que el control de la contaminación de los equipos de litografía debe considerar tanto la contaminación por partículas como la molecular, y los dos tipos de controles deben diseñarse y verificarse por separado.

Puntos clave para la inspección de selección y aceptación.

Soporte de soporte para equipos industriales de Aili.

El control de la contaminación de los equipos de litografía implica dos tipos de objetivos: contaminación por partículas y molecular. Aili Industrial tiene capacidades de colaboración en ventiladores, motores, filtros, sistemas de control y enlaces completos de ensamblaje de máquinas. Puede verificar la configuración combinada de filtración de partículas y filtración química, la dirección del suministro de aire y el punto de trabajo del ventilador en función de los objetos sensibles del equipo, los contaminantes objetivo y la resistencia del sistema, lo que ayuda a implementar los dos tipos de controles en el plan del equipo respectivamente, en lugar de seleccionar basándose únicamente en los niveles de partículas. Puedes ver el paquete de equipamiento. Unidad de filtro de ventilador final del equipo EFU , consulte el paquete de filtros. Filtros HEPA y ULPA , consulte el suministro de aire ambiente. Productos de suministro de aire limpio FFU。