Comment coopérer avec la filtration chimique et la filtration des particules dans l'atelier LCD ?

Production d'écrans LCD - y compris les matrices TFT, la formation de boîtes, les modules et autres processus - les exigences en matière d'environnement propre se concentrent principalement sur le contrôle des particules. Les ateliers sont généralement équipés de sections de filtration à efficacité primaire, moyenne et élevée, et certains ont même des FFU partout au plafond. L'indice de particules est généralement contrôlé de manière relativement stable.

Mais si l’on contrôle uniquement les particules, certains problèmes surgiront quand même. Par exemple, certains procédés utilisent des solvants organiques, des photorésists et des agents de nettoyage. Ces matières s’évaporent dans l’air pour former une pollution gazeuse qui ne peut être stoppée par les filtres à particules. Au fil du temps, il peut s'accumuler dans les composants optiques des équipements, les surfaces des produits ou les conduits de ventilation. Par conséquent, le système de filtration de l'atelier LCD doit prendre en compte séparément le contrôle des particules et le contrôle de la pollution gazeuse, puis les coordonner dans le système. Pour une logique spécifique de division du travail, veuillez vous référer à Discussion sur la différence entre les filtres chimiques et les filtres HEPA .

Identifier les charges par processus

Les objets polluants produits par différents processus dans l'atelier LCD sont différents et les méthodes de coordination doivent être examinées séparément.

Processus de tableau. Implique la photolithographie, la gravure, le dépôt de film et d’autres étapes. La résine photosensible, le révélateur et le gaz de gravure peuvent libérer des vapeurs organiques ou des composants acides. Les exigences en matière de contrôle des particules sont élevées et la pollution gazeuse mérite également une attention particulière.

Processus de boxe. Gouttes de cristaux liquides, colle de scellement de cadre, pressage d'alignement et autres opérations. Les adhésifs et les matériaux à cristaux liquides peuvent libérer des traces de matière organique. Ce processus est sensible à la fois aux particules et aux gaz.

Processus modulaire. Fixation du polariseur, liaison IC du pilote et ensemble de rétroéclairage. En ce qui concerne les adhésifs et les produits de nettoyage, des COV peuvent être libérés. Les exigences en matière de contrôle des particules sont légèrement inférieures à celles du processus de réseau, mais la contamination gazeuse peut affecter l'apparence et la fiabilité.

Nettoyage et stockage du matériel. La volatilisation du produit de nettoyage et le stockage des matériaux à l'air libre peuvent continuer à libérer des composants gazeux. Cette partie de la source est facilement négligée. Pour les méthodes d'investigation spécifiques, veuillez vous référer à de l'opportunité de procéder à un échantillonnage de l'air avant de choisir un filtre chimique . Discutez

Déterminer les couches de filtre et les chemins

Après avoir identifié les objets polluants, réfléchissez à la manière de disposer les segments de filtre dans le système.

Il est courant de donner la priorité à la filtration des particules et à la filtration chimique en dernier. Les effets initial et moyen interceptent d'abord la poussière et réduisent la couverture de poussière des milieux chimiques. Le terminal haute efficacité ou ULPA est responsable du contrôle final des particules. La section de filtration chimique est placée après l'efficacité intermédiaire et avant l'efficacité terminale, ou intégrée à l'efficacité terminale dans la FFU. Pour une configuration spécifique, veuillez vous référer à Discussion sur la division du travail entre filtres chimiques et filtres primaires .

L'emplacement de la section de filtration chimique dépend de la source de pollution. Si la pollution gazeuse provient principalement de l’air neuf extérieur, il est plus simple de mettre en place une section de filtration chimique dans la centrale d’air neuf. Si le rejet provient principalement de processus intérieurs, il peut être traité sur le circuit de reprise d'air ou de FFU. Pour les différences spécifiques, veuillez vous référer à Pourquoi MAU doit-il configurer la section de filtre chimique et Discussion sur la contamination localisée qui peut être traitée par FFU plus filtre chimique .

La séquence n'est pas fixe et doit être confirmée en fonction de la perte moyenne de poudre, du dégagement de gaz et de la structure de maintenance. Certains produits chimiques peuvent produire des traces de poussière. Si elle est placée derrière le terminal à haut rendement, cette partie des poussières entrera directement dans l'atelier. Avant l’efficacité, l’efficacité peut jouer un rôle d’interception. Pour les différences spécifiques, veuillez vous référer à Discussion sur la question de savoir si le filtre chimique FFU doit être placé avant ou après le HEPA .

La distribution du volume d'air et la résistance doivent être calculées ensemble. L'ajout d'une section de filtration chimique augmentera la résistance totale du système. La capacité du ventilateur d'origine à maintenir le volume d'air cible doit être calculée en fonction du point de fonctionnement réel. Pour des méthodes spécifiques, veuillez vous référer à Discussion sur la mesure dans laquelle la résistance supplémentaire du filtre chimique augmentera la consommation électrique du ventilateur .

Définir les méthodes d'acceptation séparément

Les particules et les gaz sont deux types d'indicateurs, et l'acceptation doit se faire séparément.

Acceptation côté particules. Le terminal à haute efficacité ou ULPA effectue la confirmation de l'efficacité, l'inspection de l'étanchéité de l'installation et la détection des fuites sur site selon le niveau correspondant. Les méthodes de détection et les normes de jugement sont mises en œuvre selon les exigences des filtres à particules. Peut être référencé Description du filtre HEPA haute efficacité .

Acceptation côté gaz. La section de filtration chimique effectue des tests de concentration à l'entrée et à la sortie en fonction des composants cibles pour confirmer l'effet d'élimination. Les points de prélèvement doivent être représentatifs de l'air avant et après la section de filtration, et la méthode de détection doit être adaptée au gaz cible. Pour des méthodes spécifiques, veuillez vous référer à Discussion sur les points d'échantillonnage pour la vérification des performances des filtres chimiques .

La base de maintenance est différente. Le remplacement du filtre à particules dépend de la différence de pression et des résultats de détection des fuites ; le remplacement de la section de filtre chimique dépend de la consommation de la capacité de traitement du gaz et il ne peut y avoir aucun changement évident de différence de pression. Les rythmes de maintenance des deux sont différents et les grands livres doivent être enregistrés séparément. Pour les différences spécifiques, veuillez vous référer à Discussion sur la possibilité de remplacer le filtre chimique en fonction de la différence de pression .

Vous ne pouvez pas utiliser les données sur les particules uniquement pour évaluer les effets des gaz, ni uniquement mesurer les gaz et ignorer les particules. Les deux types d'indicateurs sont archivés séparément, afin de permettre une localisation rapide des problèmes.

Faites attention aux impacts inter-processus

Les process sont nombreux dans l’atelier LCD et l’organisation des flux d’air est complexe. La configuration du filtrage doit prendre en compte l'interaction entre les processus.

L’air de retour partagé peut provoquer une contamination croisée. Si différents processus partagent un système de retour d'air, les composants gazeux libérés par un processus peuvent pénétrer dans un autre processus par l'air de retour. À ce stade, il est nécessaire de vérifier la relation entre la cloison d'air de retour et la différence de pression, et d'ajouter une section de filtration chimique au chemin d'air de retour si nécessaire. Pour plus de détails, veuillez vous référer à Discussion sur la manière dont les odeurs dans les bâtiments d'usine à plusieurs étages interagissent les unes avec les autres et sur la manière dont la filtration chimique doit être cloisonnée .

Réévaluer après les ajustements du processus. Si l'agent de nettoyage, la résine photosensible ou l'adhésif est modifié au cours d'un certain processus, les composants libérés peuvent changer. Il convient de vérifier à nouveau si la section de filtration chimique d'origine est toujours adaptée. Pour des méthodes spécifiques, veuillez vous référer à Discussion sur les raisons pour lesquelles les filtres chimiques doivent être sélectionnés en fonction du gaz cible .

Le côté de l'appareil peut être protégé individuellement. Pour les équipements ou postes de travail particulièrement sensibles à la pollution gazeuse, une filtration chimique locale peut être installée sur le trajet d’entrée d’air de l’équipement. Pour les applications côté appareil, veuillez vous référer à Discussion sur les raisons pour lesquelles l'EFU a besoin de filtres chimiques .

Exemple de jugement de projet

Après qu'un certain atelier de modules LCD ait fonctionné pendant un certain temps, des traces de brouillard inconnues sont apparues sur la surface de certains produits, mais la détection des particules était normale.

L'enquête a confirmé qu'une sorte d'adhésif était utilisé dans l'atelier, qui libérait des traces de vapeur organique pendant le processus de durcissement et se déposait sur la surface du polariseur pour former des traces brumeuses. Les systèmes de filtration de particules n’ont pas la capacité de traiter ce type de gaz.

Sens d'ajustement : ajoutez une section de filtration chimique pour les vapeurs organiques sur le chemin de retour d'air du processus du module et renforcez l'échappement local au point d'utilisation de l'adhésif. La concentration de vapeur organique, le volume d’air ainsi que les conditions de température et d’humidité ont été vérifiés avant de configurer la section de filtration. Après ajustement, les traces de brouillard sur la surface ont été réduites et l'indice de particules n'a pas été affecté.

Ce cas l'illustre : La filtration chimique et la filtration particulaire dans l'atelier LCD doivent être réparties en fonction des objets de pollution et ne peuvent se remplacer. impliquant Lors de la sélection d'une série de produits de filtrage chimique , il est recommandé que les données de pollution, les objets sensibles et les conditions du système de chaque processus soient fournis au fournisseur pour vérification.

Points clés pour le contrôle de sélection et de réception

À propos du package de filtration d'atelier LCD d'Aili Industrial

Pour le contrôle des particules et le contrôle de la pollution gazeuse dans l'atelier LCD, les deux types d'exigences doivent être confirmées séparément au stade de la planification, puis vérifiées uniformément au niveau du système.

Aili Industrial dispose de capacités de fabrication indépendantes dans les domaines des filtres, des moteurs, des ventilateurs, des systèmes de contrôle et du traitement de la tôle, et peut fournir des séries de produits de filtres HEPA/ULPA et de filtres chimiques. Pour les projets impliquant à la fois le contrôle des particules et des gaz, les données de pollution, les objets de protection, le volume d'air et l'espace d'installation de chaque processus peuvent être combinés pour faciliter la vérification de la configuration et de la répartition du travail de la section de filtrage. Lorsque le filtre est associé à MAU, FFU, EFU et autres équipements, les méthodes de résistance, d'interface et de maintenance peuvent être confirmées de manière uniforme.

Produits associés :Série de produits de filtres chimiques、Filtre HEPA haute efficacité、FFU est livré avec un filtre chimique . Une liste distincte de cibles de contrôle des particules et de cibles de gaz est fournie lors de l'enquête pour aider à confirmer la solution combinée appropriée. La configuration spécifique est soumise aux documents techniques et aux résultats des tests confirmés par le projet.