Số lượt xem: 4454 Tác giả: Aili Industry Thời gian phát hành: 2026-10-06 Nguồn: Công nghiệp Ái Lý
Sản xuất LCD - bao gồm mảng TFT, tạo hình hộp, mô-đun và các quy trình khác - yêu cầu về môi trường sạch sẽ chủ yếu tập trung vào kiểm soát hạt. Xưởng thường được trang bị các bộ phận lọc hiệu suất sơ cấp, hiệu suất trung bình và hiệu suất cao, và một số thậm chí còn có FFU trên trần nhà. Chỉ số hạt nhìn chung được kiểm soát tương đối ổn định.
Nhưng nếu bạn chỉ kiểm soát các hạt thì một số vấn đề vẫn sẽ phát sinh. Ví dụ, một số quy trình sử dụng dung môi hữu cơ, chất quang dẫn và chất tẩy rửa. Những vật liệu này bay hơi vào không khí tạo thành khí ô nhiễm mà các bộ lọc hạt không thể ngăn chặn được. Theo thời gian, nó có thể tích tụ trong các bộ phận quang học của thiết bị, bề mặt sản phẩm hoặc ống thông gió. Do đó, hệ thống lọc trong xưởng LCD cần xem xét riêng việc kiểm soát hạt và kiểm soát ô nhiễm khí, sau đó phối hợp chúng trong hệ thống. Để biết logic phân công lao động cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về sự khác biệt giữa bộ lọc hóa học và bộ lọc HEPA .
Các đối tượng ô nhiễm được tạo ra bởi các quy trình khác nhau trong xưởng LCD là khác nhau và các phương pháp phối hợp phải được xem xét riêng.
Quá trình mảng. Liên quan đến quang khắc, khắc, lắng đọng phim và các bước khác. Chất quang dẫn, chất hiện và khí ăn mòn có thể giải phóng hơi hữu cơ hoặc các thành phần có tính axit. Yêu cầu kiểm soát hạt rất cao và ô nhiễm khí cũng cần được chú ý.
Quá trình đấm bốc. Nhỏ giọt tinh thể lỏng, keo dán khung, ép thẳng hàng và các hoạt động khác. Chất kết dính và vật liệu tinh thể lỏng có thể giải phóng một lượng nhỏ chất hữu cơ. Quá trình này nhạy cảm với cả hạt và khí.
Quá trình mô-đun. Phụ kiện phân cực, liên kết IC điều khiển và cụm đèn nền. Liên quan đến chất kết dính và chất tẩy rửa, VOC có thể được giải phóng. Yêu cầu kiểm soát hạt thấp hơn một chút so với quy trình mảng, nhưng ô nhiễm khí có thể ảnh hưởng đến hình thức và độ tin cậy.
Vệ sinh và bảo quản nguyên liệu. Sự bay hơi của chất tẩy rửa và việc bảo quản vật liệu ngoài trời có thể tiếp tục giải phóng các thành phần khí. Phần này của nguồn dễ bị bỏ qua. Để biết phương pháp điều tra cụ thể, vui lòng tham khảo xem có nên lấy mẫu không khí trước khi chọn bộ lọc hóa học hay không . Thảo luận
Sau khi xác định được các đối tượng gây ô nhiễm, hãy xem xét cách bố trí các bộ phận lọc trong hệ thống.
Thực tế phổ biến là đặt quá trình lọc hạt trước và lọc hóa học sau cùng. Các tác động ban đầu và trung bình ngăn chặn bụi trước tiên và giảm độ che phủ bụi của môi trường hóa học. Thiết bị đầu cuối hiệu suất cao hoặc ULPA chịu trách nhiệm kiểm soát hạt cuối cùng. Phần lọc hóa học được đặt sau hiệu suất trung gian và trước hiệu suất đầu cuối hoặc được tích hợp với hiệu suất đầu cuối trong FFU. Cấu hình cụ thể vui lòng tham khảo Thảo luận về sự phân công lao động giữa các bộ lọc hóa học và các bộ lọc sơ cấp .
Vị trí của bộ phận lọc hóa chất phụ thuộc vào nguồn ô nhiễm. Nếu ô nhiễm khí chủ yếu đến từ không khí trong lành bên ngoài, việc thiết lập bộ phận lọc hóa học trong bộ phận không khí trong lành sẽ đơn giản hơn. Nếu chất thải chủ yếu đến từ các quy trình trong nhà, nó có thể được xử lý trên đường tuần hoàn không khí hồi lưu hoặc FFU. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Tại sao MAU cần cấu hình phần lọc hóa chất và Thảo luận về những gì ô nhiễm cục bộ có thể được xử lý bằng FFU cộng với bộ lọc hóa học .
Trình tự không cố định và phải được xác nhận dựa trên cơ cấu tổn thất bột trung bình, giải phóng khí và bảo trì. Một số môi trường hóa học có thể tạo ra một lượng bụi nhỏ. Nếu đặt phía sau thiết bị đầu cuối hiệu suất cao, phần bụi này sẽ bay thẳng vào nhà xưởng. Đặt nó trước hiệu quả, hiệu quả có thể đóng vai trò cản trở. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về việc nên đặt bộ lọc hóa học FFU trước hay sau HEPA .
Sự phân bổ thể tích không khí và sức cản phải được tính toán cùng nhau. Thêm một phần lọc hóa học sẽ làm tăng tổng sức đề kháng của hệ thống. Liệu quạt ban đầu có thể duy trì lượng không khí mục tiêu hay không cần phải được tính toán dựa trên điểm làm việc thực tế. Để biết các phương pháp cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về việc điện trở tăng thêm của bộ lọc hóa học sẽ làm tăng mức tiêu thụ điện của quạt đến mức nào .
Hạt và khí là hai loại chỉ số và việc chấp nhận phải được thực hiện riêng biệt.
Sự chấp nhận phía hạt. Thiết bị đầu cuối hiệu suất cao hoặc ULPA thực hiện xác nhận hiệu quả, kiểm tra độ kín lắp đặt và phát hiện rò rỉ tại chỗ theo mức độ tương ứng. Các phương pháp phát hiện và tiêu chuẩn phán đoán được thực hiện theo yêu cầu của bộ lọc hạt. Có thể tham khảo Mô tả bộ lọc hiệu quả cao HEPA .
Khí bên chấp nhận. Bộ phận lọc hóa học tiến hành kiểm tra nồng độ đầu vào và đầu ra dựa trên các thành phần mục tiêu để xác nhận hiệu quả loại bỏ. Các điểm lấy mẫu phải đại diện cho không khí trước và sau phần lọc và phương pháp phát hiện phải phù hợp với loại khí mục tiêu. Để biết các phương pháp cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về các điểm lấy mẫu để xác minh hiệu suất của bộ lọc hóa học .
Cơ sở bảo trì là khác nhau. Việc thay thế bộ lọc hạt phụ thuộc vào chênh lệch áp suất và kết quả phát hiện rò rỉ; việc thay thế bộ phận lọc hóa học phụ thuộc vào mức tiêu thụ công suất xử lý khí và có thể không có sự thay đổi chênh lệch áp suất rõ ràng. Nhịp điệu duy trì của cả hai là khác nhau và sổ cái phải được ghi riêng. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về việc có thể thay thế bộ lọc hóa học dựa trên chênh lệch áp suất hay không .
Bạn không thể chỉ sử dụng dữ liệu hạt để đánh giá tác động của khí, cũng như không thể chỉ đo khí mà bỏ qua các hạt. Hai loại chỉ báo này được lưu trữ riêng biệt để có thể nhanh chóng xác định được vấn đề.
Có nhiều quy trình trong xưởng LCD và việc tổ chức luồng không khí rất phức tạp. Cấu hình lọc phải xem xét sự tương tác giữa các tiến trình.
Không khí hồi lưu chung có thể gây ô nhiễm chéo. Nếu các quy trình khác nhau dùng chung một hệ thống khí hồi, các thành phần khí thoát ra từ một quy trình có thể đi vào quy trình khác thông qua khí hồi. Lúc này, cần kiểm tra mối quan hệ giữa vách ngăn không khí hồi lưu và chênh lệch áp suất, đồng thời bổ sung bộ phận lọc hóa học vào đường dẫn khí hồi lưu nếu cần thiết. Để biết chi tiết, vui lòng tham khảo Thảo luận về cách các mùi trong các tòa nhà nhà máy nhiều tầng tương tác với nhau và cách phân chia quá trình lọc hóa học .
Đánh giá lại sau khi điều chỉnh quy trình. Nếu chất tẩy rửa, chất quang dẫn hoặc chất kết dính bị thay đổi trong một quy trình nhất định, các thành phần được giải phóng có thể thay đổi. Phần lọc hóa chất ban đầu có còn phù hợp hay không cần phải kiểm tra lại. Để biết các phương pháp cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về lý do tại sao nên chọn bộ lọc hóa học theo loại khí mục tiêu .
Phía thiết bị có thể được bảo vệ riêng lẻ. Đối với thiết bị hoặc nơi làm việc đặc biệt nhạy cảm với ô nhiễm khí, có thể lắp đặt bộ lọc hóa học cục bộ trên đường dẫn khí vào của thiết bị. Đối với các ứng dụng phía thiết bị, vui lòng tham khảo Thảo luận về lý do tại sao EFU cần hỗ trợ các bộ lọc hóa học .
Sau khi một xưởng sản xuất mô-đun LCD nào đó hoạt động được một thời gian, trên bề mặt của một số sản phẩm xuất hiện các vết sương mù không xác định, nhưng việc phát hiện hạt vẫn bình thường.
Cuộc điều tra xác nhận rằng một số loại chất kết dính đã được sử dụng trong xưởng, nó giải phóng một lượng hơi hữu cơ trong quá trình đóng rắn và đọng lại trên bề mặt của máy phân cực tạo thành dấu vết sương mù. Hệ thống lọc hạt không có khả năng xử lý loại khí này.
Hướng điều chỉnh: Thêm phần lọc hóa học cho hơi hữu cơ trên đường dẫn khí hồi lưu của quy trình mô-đun và tăng cường khí thải cục bộ tại điểm sử dụng chất kết dính. Nồng độ hơi hữu cơ, thể tích không khí, điều kiện nhiệt độ và độ ẩm đã được kiểm tra trước khi cấu hình phần lọc. Sau khi điều chỉnh, các vết sương mù trên bề mặt đã giảm đi và chỉ số hạt không bị ảnh hưởng.
Trường hợp này minh họa: Lọc hóa học và lọc hạt trong xưởng LCD phải được phân chia theo đối tượng ô nhiễm và không thể thay thế nhau. liên quan đến Khi lựa chọn một dòng sản phẩm lọc hóa học , bạn nên cung cấp dữ liệu ô nhiễm, các đối tượng nhạy cảm và điều kiện hệ thống của từng quy trình cho nhà cung cấp để xác minh.
Kiểm tra các mục |
Xác nhận những điểm chính |
|---|---|
Dạng ô nhiễm |
Phân biệt giữa các hạt, khí và giọt |
mục tiêu quá trình |
Làm rõ yêu cầu và đối tượng nhạy cảm của từng huyện |
Kết hợp lớp lọc |
Kiểm tra lớp phủ phát hành, niêm phong và kháng cự |
Số liệu chấp nhận |
Xác minh hai loại hiệu ứng riêng biệt và lưu trữ các bản ghi riêng biệt. |
Để kiểm soát hạt và kiểm soát ô nhiễm khí trong xưởng LCD, hai loại yêu cầu này cần được xác nhận riêng biệt trong giai đoạn lập kế hoạch, sau đó được kiểm tra thống nhất ở cấp hệ thống.
Aili Industrial có khả năng sản xuất độc lập về bộ lọc, động cơ, quạt, hệ thống điều khiển và gia công kim loại tấm, đồng thời có thể cung cấp dòng sản phẩm bộ lọc HEPA/ULPA và bộ lọc hóa học. Đối với các dự án liên quan đến cả kiểm soát hạt và khí, dữ liệu ô nhiễm, đối tượng bảo vệ, thể tích không khí và không gian lắp đặt của từng quy trình có thể được kết hợp để hỗ trợ kiểm tra cấu hình và phân công lao động của bộ phận lọc. Khi bộ lọc được kết hợp với MAU, FFU, EFU và các thiết bị khác, các phương pháp điện trở, giao diện và bảo trì có thể được xác nhận thống nhất.
Sản phẩm liên quan:Dòng sản phẩm lọc hóa chất、Bộ lọc hiệu quả cao HEPA、FFU đi kèm với bộ lọc hóa học . Một danh sách riêng biệt về mục tiêu kiểm soát hạt và mục tiêu khí được cung cấp trong quá trình yêu cầu để giúp xác nhận giải pháp kết hợp phù hợp. Cấu hình cụ thể phải tuân theo các tài liệu kỹ thuật và kết quả thử nghiệm được dự án xác nhận.