Wie kann man in der LCD-Werkstatt mit chemischer Filterung und Partikelfiltration zusammenarbeiten?

Bei der LCD-Produktion – einschließlich TFT-Arrays, Boxforming, Modulen und anderen Prozessen – konzentrieren sich die Anforderungen an eine saubere Umgebung hauptsächlich auf die Partikelkontrolle. Werkstätten sind in der Regel mit Filterabschnitten mit primärer, mittlerer und hoher Effizienz ausgestattet, und einige haben sogar FFUs an der gesamten Decke. Der Partikelindex wird im Allgemeinen relativ stabil gesteuert.

Aber wenn man nur die Partikel kontrolliert, werden dennoch einige Probleme auftreten. Bei einigen Prozessen kommen beispielsweise organische Lösungsmittel, Fotolacke und Reinigungsmittel zum Einsatz. Diese Stoffe verdampfen in der Luft und bilden gasförmige Schadstoffe, die durch Partikelfilter nicht gestoppt werden können. Im Laufe der Zeit kann es sich in optischen Komponenten von Geräten, Produktoberflächen oder Lüftungskanälen ansammeln. Daher muss das Filtersystem in der LCD-Werkstatt die Partikelkontrolle und die Kontrolle der Gasverschmutzung getrennt berücksichtigen und sie dann im System koordinieren. Informationen zur spezifischen Arbeitsteilungslogik finden Sie unter Diskussion des Unterschieds zwischen chemischen Filtern und HEPA-Filtern .

Identifizieren Sie Lasten nach Prozess

Die durch verschiedene Prozesse in der LCD-Werkstatt erzeugten Verschmutzungsobjekte sind unterschiedlich und die Koordinationsmethoden müssen separat betrachtet werden.

Array-Prozess. Beinhaltet Fotolithographie, Ätzen, Filmabscheidung und andere Schritte. Fotolack, Entwickler und Ätzgas können organische Dämpfe oder saure Bestandteile freisetzen. Die Anforderungen an die Partikelkontrolle sind hoch und auch die gasförmige Verschmutzung erfordert Aufmerksamkeit.

Boxprozess. Flüssigkristalltropfen, Rahmenversiegelungskleber, Ausrichtungspressen und andere Vorgänge. Klebstoffe und Flüssigkristallmaterialien können Spuren organischer Stoffe freisetzen. Dieser Prozess ist sowohl gegenüber Partikeln als auch gegenüber Gasen empfindlich.

Modulprozess. Polarisatorbefestigung, Treiber-IC-Bindung und Hintergrundbeleuchtungsbaugruppe. Bei Klebstoffen und Reinigungsmitteln können VOC freigesetzt werden. Die Anforderungen an die Partikelkontrolle sind etwas geringer als beim Array-Verfahren, aber gasförmige Verunreinigungen können das Erscheinungsbild und die Zuverlässigkeit beeinträchtigen.

Reinigung und Materiallagerung. Durch die Verflüchtigung des Reinigungsmittels und die Lagerung der Materialien im Freien kann es weiterhin zur Freisetzung gasförmiger Bestandteile kommen. Dieser Teil der Quelle wird leicht übersehen. Spezifische Untersuchungsmethoden finden Sie unter , ob eine Luftprobenahme durchgeführt werden soll, bevor Sie sich für einen chemischen Filter entscheiden . Besprechen Sie

Bestimmen Sie Filterebenen und -pfade

Überlegen Sie nach der Identifizierung der Verschmutzungsobjekte, wie Sie die Filterabschnitte im System anordnen.

Es ist üblich, die Partikelfiltration an die erste Stelle zu setzen und die chemische Filterung an die letzte Stelle zu setzen. Die anfänglichen und mittleren Effekte fangen Staub zuerst ab und reduzieren die Staubabdeckung chemischer Medien. Terminal High Efficiency oder ULPA ist für die endgültige Partikelkontrolle verantwortlich. Der chemische Filterabschnitt wird nach dem Zwischenwirkungsgrad und vor dem Endwirkungsgrad platziert oder mit dem Endwirkungsgrad in der FFU integriert. Informationen zur spezifischen Konfiguration finden Sie unter Diskussion zur Arbeitsteilung zwischen Chemiefiltern und Primärfiltern .

Der Standort des chemischen Filterabschnitts hängt von der Verschmutzungsquelle ab. Wenn die gasförmige Verschmutzung hauptsächlich durch externe Frischluft verursacht wird, ist es einfacher, einen chemischen Filterabschnitt in der Frischlufteinheit einzurichten. Wenn die Freisetzung hauptsächlich aus Innenprozessen stammt, kann sie auf dem Rückluft- oder FFU-Zirkulationspfad verarbeitet werden. Spezifische Unterschiede finden Sie unter Warum muss MAU den Abschnitt für chemische Filter konfigurieren und? Diskussion darüber , welche lokalisierten Kontaminationen durch FFU plus chemischem Filter behandelt werden können .

Die Reihenfolge ist nicht festgelegt und muss anhand des Mediumpulververlusts, der Gasfreisetzung und der Wartungsstruktur bestätigt werden. Einige chemische Medien können Spuren von Staub erzeugen. Bei Platzierung hinter dem Hocheffizienzterminal gelangt dieser Teil des Staubs direkt in die Werkstatt. Stellen Sie es vor Effizienz: Effizienz kann eine abfangende Rolle spielen. Spezifische Unterschiede finden Sie unter Diskussion darüber , ob der FFU-Chemiefilter vor oder nach dem HEPA platziert werden sollte .

Luftvolumenverteilung und Widerstand sollten gemeinsam berechnet werden. Durch das Hinzufügen eines chemischen Filterabschnitts wird der Gesamtwiderstand des Systems erhöht. Ob der Originalventilator die Zielluftmenge aufrechterhalten kann, muss anhand des tatsächlichen Arbeitspunkts berechnet werden. Spezifische Methoden finden Sie unter Diskussion darüber, um wie viel der zusätzliche Widerstand des chemischen Filters den Stromverbrauch des Ventilators erhöht .

Legen Sie die Akzeptanzmethoden separat fest

Partikel und Gas sind zwei Arten von Indikatoren und die Annahme muss separat erfolgen.

Partikelseitige Akzeptanz. Für hocheffiziente Terminals oder ULPA werden die Effizienzbestätigung, die Installationsdichtigkeitsprüfung und die Lecksuche vor Ort entsprechend der entsprechenden Stufe durchgeführt. Die Erkennungsmethoden und Beurteilungsstandards werden entsprechend den Anforderungen des Partikelfilters implementiert. Kann referenziert werden Beschreibung des HEPA-Hochleistungsfilters .

Gasseitige Abnahme. Der Bereich der chemischen Filtration führt Ein- und Auslasskonzentrationstests basierend auf den Zielkomponenten durch, um den Entfernungseffekt zu bestätigen. Die Probenahmestellen müssen repräsentativ für die Luft vor und nach dem Filterabschnitt sein und die Detektionsmethode muss für das Zielgas geeignet sein. Spezifische Methoden finden Sie unter Diskussion von Probenahmestellen für die Leistungsüberprüfung chemischer Filter .

Die Wartungsbasis ist unterschiedlich. Der Austausch des Partikelfilters hängt von der Druckdifferenz und den Ergebnissen der Leckerkennung ab; Der Austausch des chemischen Filterabschnitts hängt vom Verbrauch der Gasverarbeitungskapazität ab und es kann sein, dass es zu keiner offensichtlichen Änderung der Druckdifferenz kommt. Die Wartungsrhythmen sind unterschiedlich und die Hauptbücher müssen separat erfasst werden. Spezifische Unterschiede finden Sie unter Diskussion darüber, ob der Chemiefilter aufgrund der Druckdifferenz ausgetauscht werden kann .

Sie können Partikeldaten nicht nur zur Bewertung von Gaseffekten verwenden, Sie können auch nicht nur Gas messen und Partikel ignorieren. Die beiden Arten von Indikatoren werden getrennt archiviert, sodass Probleme schnell lokalisiert werden können.

Achten Sie auf prozessübergreifende Auswirkungen

In der LCD-Werkstatt gibt es viele Prozesse und die Organisation des Luftstroms ist komplex. Die Filterkonfiguration muss die Interaktion zwischen den Prozessen berücksichtigen.

Gemeinsam genutzte Rückluft kann zu Kreuzkontaminationen führen. Wenn sich verschiedene Prozesse ein Rückluftsystem teilen, können aus einem Prozess freigesetzte gasförmige Komponenten über die Rückluft in einen anderen Prozess gelangen. Zu diesem Zeitpunkt ist es notwendig, das Verhältnis zwischen der Rückluftverteilung und der Druckdifferenz zu überprüfen und bei Bedarf einen chemischen Filterabschnitt zum Rückluftweg hinzuzufügen. Einzelheiten finden Sie unter Diskussion darüber , wie Gerüche in mehrstöckigen Fabrikgebäuden miteinander interagieren und wie die chemische Filterung aufgeteilt werden sollte .

Nach Prozessanpassungen erneut bewerten. Wird in einem bestimmten Prozess das Reinigungsmittel, der Fotolack oder der Kleber gewechselt, können sich die freigesetzten Bestandteile verändern. Ob der ursprüngliche chemische Filterabschnitt noch geeignet ist, muss erneut überprüft werden. Spezifische Methoden finden Sie unter Diskussion darüber , warum chemische Filter entsprechend den Zielgasen ausgewählt werden sollten .

Die Geräteseite kann individuell geschützt werden. Bei Geräten oder Arbeitsplätzen, die besonders empfindlich auf gasförmige Verschmutzungen reagieren, kann eine lokale chemische Filterung im Lufteinlassweg der Geräte installiert werden. Informationen zu geräteseitigen Anwendungen finden Sie unter Diskussion darüber, warum EFU unterstützende chemische Filter benötigt .

Beispiel für eine Projektbeurteilung

Nachdem eine bestimmte Werkstatt für LCD-Module eine Zeit lang in Betrieb war, traten auf der Oberfläche einiger Produkte unbekannte Nebelspuren auf, die Partikelerkennung war jedoch normal.

Die Untersuchung bestätigte, dass in der Werkstatt eine Art Klebstoff verwendet wurde, der während des Aushärtungsprozesses Spuren organischer Dämpfe freisetzte und sich auf der Oberfläche des Polarisators ablagerte und neblige Spuren bildete. Partikelfiltrationssysteme sind nicht in der Lage, diese Art von Gas zu verarbeiten.

Anpassungsrichtung: Fügen Sie einen chemischen Filterabschnitt für organische Dämpfe im Rückluftweg des Modulprozesses hinzu und verstärken Sie die lokale Absaugung an der Klebstoffverwendungsstelle. Vor der Konfiguration des Filterabschnitts wurden die Konzentration organischer Dämpfe, das Luftvolumen sowie die Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen überprüft. Nach der Anpassung wurden die Nebelspuren auf der Oberfläche reduziert und der Partikelindex wurde nicht beeinflusst.

Dieser Fall verdeutlicht: Chemische Filtration und Partikelfiltration in der LCD-Werkstatt müssen nach den Verschmutzungsobjekten aufgeteilt werden und können sich nicht gegenseitig ersetzen. involvierend Bei der Auswahl einer chemischen Filterproduktserie wird empfohlen, dem Lieferanten die Verschmutzungsdaten, sensiblen Objekte und Systembedingungen jedes Prozesses zur Überprüfung zur Verfügung zu stellen.

Wichtige Punkte für die Auswahl- und Abnahmeprüfung

Über das LCD-Werkstattfiltrationspaket von Aili Industrial

Für die Partikelkontrolle und die Kontrolle der Gasverschmutzung in der LCD-Werkstatt müssen die beiden Arten von Anforderungen in der Planungsphase separat bestätigt und dann auf Systemebene einheitlich überprüft werden.

Aili Industrial verfügt über unabhängige Fertigungskapazitäten für Filter, Motoren, Lüfter, Steuerungssysteme und Blechverarbeitung und kann Produktreihen für HEPA/ULPA-Filter und chemische Filter anbieten. Bei Projekten, die sowohl Partikel- als auch Gaskontrolle umfassen, können die Verschmutzungsdaten, Schutzobjekte, Luftvolumen und Installationsraum jedes Prozesses kombiniert werden, um die Konfiguration und Arbeitsteilung des Filterbereichs zu überprüfen. Wenn der Filter mit MAU, FFU, EFU und anderen Geräten kombiniert wird, können Widerstand, Schnittstelle und Wartungsmethoden einheitlich bestätigt werden.

Verwandte Produkte:Produktreihe chemischer Filter、HEPA-Hochleistungsfilter、FFU wird mit chemischem Filter geliefert . Während der Anfrage wird eine separate Liste der Partikelkontrollziele und Gasziele zur Verfügung gestellt, um die geeignete Kombinationslösung zu bestätigen. Die konkrete Konfiguration unterliegt den vom Projekt bestätigten technischen Unterlagen und Testergebnissen.