LCD 작업장에서 화학 여과 및 입자 여과와 협력하는 방법은 무엇입니까?

TFT 어레이, 박스 성형, 모듈 및 기타 공정을 포함한 LCD 생산에서 청정 환경에 대한 요구 사항은 주로 입자 제어에 중점을 둡니다. 작업장은 일반적으로 1차 효율, 중간 효율, 고효율 여과 섹션을 갖추고 있으며 일부는 천장 전체에 FFU를 설치하기도 합니다. 입자 지수는 일반적으로 비교적 안정적으로 제어됩니다.

그러나 입자만 제어하면 몇 가지 문제가 여전히 발생합니다. 예를 들어 일부 공정에서는 유기 용제, 포토레지스트 및 세척제를 사용합니다. 이러한 물질은 공기 중으로 증발하여 입자 필터로 막을 수 없는 가스 오염을 형성합니다. 시간이 지남에 따라 장비의 광학 부품, 제품 표면 또는 환기 덕트에 축적될 수 있습니다. 따라서 LCD 작업장의 여과 시스템은 입자 제어와 가스 오염 제어를 별도로 고려한 다음 시스템에서 이를 조정해야 합니다. 구체적인 분업 논리는 다음을 참조하세요. 화학 필터와 HEPA 필터의 차이점에 대해 설명합니다 .

프로세스별 부하 식별

LCD 작업장에서는 다양한 공정에서 생성되는 오염 물질이 다르므로 조정 방법을 별도로 살펴봐야 합니다.

배열 프로세스. 포토리소그래피, 에칭, 필름 증착 및 기타 단계가 포함됩니다. 포토레지스트, 현상액 및 에칭 가스는 유기 증기나 산성 성분을 방출할 수 있습니다. 입자 제어 요구 사항이 높고 가스 오염에도 주의가 필요합니다.

권투 과정. 액정 적하, 프레임 밀봉 접착제, 정렬 압착 및 기타 작업. 접착제 및 액정 재료는 미량의 유기물을 방출할 수 있습니다. 이 공정은 입자와 가스 모두에 민감합니다.

모듈 프로세스. 편광판 부착, 드라이버 IC 바인딩, 백라이트 조립. 접착제 및 세척제와 관련하여 VOC가 방출될 수 있습니다. 입자 제어 요구 사항은 어레이 공정보다 약간 낮지만 가스 오염은 외관과 신뢰성에 영향을 미칠 수 있습니다.

청소 및 재료 보관. 세척제의 휘발과 외부에 재료를 보관하면 가스 성분이 계속해서 방출될 수 있습니다. 소스의 이 부분은 쉽게 간과됩니다. 구체적인 조사방법은 다음을 참고하세요. 화학 필터를 선택하기 전에 공기 샘플링을 수행할지 여부에 대해 논의하십시오 .

필터 레이어 및 경로 결정

오염 물질을 식별한 후 시스템에서 필터 섹션을 배열하는 방법을 고려하십시오.

입자 여과를 먼저 하고 화학적 여과를 마지막에 두는 것이 일반적인 관행입니다. 초기 및 중간 효과는 먼지를 먼저 차단하고 화학 매체의 먼지 덮임을 줄입니다. 최종 고효율 또는 ULPA는 최종 입자 제어를 담당합니다. 화학 여과 구간은 중간 효율 뒤, 최종 효율 앞에 위치하거나 FFU에서 최종 효율과 통합됩니다. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. 케미칼필터와 1차필터의 분업에 대한 논의 .

화학 여과 구역의 위치는 오염원에 따라 다릅니다. 가스 오염이 주로 외부의 신선한 공기에서 발생하는 경우 신선한 공기 장치에 화학적 여과 섹션을 설치하는 것이 더 간단합니다. 배출이 주로 실내 공정에서 발생하는 경우 환기 또는 FFU 순환 경로에서 처리될 수 있습니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. MAU가 화학 필터 섹션을 구성해야 하는 이유 와 FFU와 화학 필터를 함께 사용하면 어떤 국지적 오염을 처리할 수 있는지 에 대한 논의 .

순서는 고정되어 있지 않으며 중간 분말 손실, 가스 방출 및 유지 관리 구조를 기반으로 확인해야 합니다. 일부 화학 매체에서는 미량의 먼지가 발생할 수 있습니다. 고효율 터미널 뒤에 배치하면 이 먼지 부분이 작업장으로 직접 유입됩니다. 효율성에 앞서 효율성은 가로채는 역할을 할 수 있습니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. FFU 화학 필터를 HEPA 이전에 배치해야 하는지, 뒤에 배치해야 하는지 에 대한 논의 .

풍량 분포와 저항을 함께 계산해야 합니다. 화학 여과 섹션을 추가하면 전체 시스템 저항이 증가합니다. 원래 팬이 목표 풍량을 유지할 수 있는지 여부는 실제 작동 지점을 기반으로 계산해야 합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

별도의 수락방법 설정

입자와 가스는 두 가지 유형의 지표이며 승인은 별도로 이루어져야 합니다.

입자측 수용. 단말고효율(ULPA)은 해당 수준에 따라 효율성 확인, 설치 밀봉 검사, 현장 누수 감지 등을 수행합니다. 검출 방법 및 판단 기준은 입자 필터의 요구 사항에 따라 구현됩니다. 참고할 수 있다 HEPA 고효율 필터 에 대한 설명입니다 .

가스측 수용. 화학여과 부문에서는 제거효과를 확인하기 위해 대상성분을 기준으로 입,출구 농도시험을 실시합니다. 샘플링 지점은 여과 섹션 전후의 공기를 대표해야 하며 감지 방법은 대상 가스에 적합해야 합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 화학 필터 성능 검증을 위한 샘플링 지점에 대한 논의 .

유지관리 기준이 다릅니다. 입자 필터 교체는 압력 차이와 누출 감지 결과에 따라 달라집니다. 화학 필터 섹션의 교체는 가스 처리 용량 소비에 따라 다르며 눈에 띄는 압력 차이 변화가 없을 수 있습니다. 둘의 유지 리듬이 다르며, 장부는 별도로 기록해야 합니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. 압력차에 따른 케미컬필터 교체 가능 여부 논의 .

입자 데이터를 가스 효과 평가에만 사용할 수 없으며 가스만 측정하고 입자를 무시할 수도 없습니다. 두 가지 유형의 지표는 별도로 보관되므로 문제를 빠르게 찾을 수 있습니다.

프로세스 간 영향에 주의

LCD 작업장에는 많은 공정이 있으며 공기 흐름 조직이 복잡합니다. 필터링 구성에서는 프로세스 간의 상호 작용을 고려해야 합니다.

환기 공기를 공유하면 교차 오염이 발생할 수 있습니다. 여러 프로세스가 환기 시스템을 공유하는 경우 한 프로세스에서 방출된 가스 성분이 환기를 통해 다른 프로세스로 들어갈 수 있습니다. 이때 환풍구획과 압력차의 관계를 확인하고, 필요한 경우 환풍경로에 화학여과부를 추가하는 것이 필요하다. 자세한 내용은 다음을 참조하세요. 다층 공장 건물의 악취가 어떻게 상호 작용하는지, 화학 여과를 어떻게 분할해야 하는지 에 대한 토론 .

공정 조정 후 재평가합니다. 특정 공정에서 세척제, 포토레지스트 또는 접착제가 변경되면 방출되는 성분이 변경될 수 있습니다. 원래의 화학 여과 구간이 여전히 적합한지 여부를 다시 확인해야 합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 대상가스에 따라 케미컬필터를 선택해야 하는 이유 에 대한 논의 .

장치측을 개별적으로 보호할 수 있습니다. 가스 오염에 특히 민감한 장비 또는 작업대의 경우 장비의 공기 흡입 경로에 국소 화학 여과 장치를 설치할 수 있습니다. 기기측 애플리케이션의 경우 다음을 참조하세요. EFU에서 화학 필터 지원이 필요한 이유에 대한 논의 .

프로젝트 판단 예시

특정 LCD 모듈 작업장을 일정 기간 운영한 후 일부 제품 표면에 알 수 없는 안개 흔적이 나타났으나 입자 감지는 정상이었습니다.

조사 결과 작업장에서 일종의 접착제가 사용된 것으로 확인되었는데, 이 접착제는 경화 과정에서 미량의 유기 증기를 방출하고 편광판 표면에 침전되어 안개가 자욱한 흔적을 형성했습니다. 입자 여과 시스템은 이러한 유형의 가스를 처리할 수 있는 능력이 없습니다.

조정 방향: 모듈 공정의 복귀 공기 경로에 유기 증기에 대한 화학 여과 섹션을 추가하고 접착제 사용 지점에서 국소 배기를 강화합니다. 필터부를 구성하기 전 유기증기 농도, 공기량, 온습도 조건을 확인하였다. 조정 후 표면의 안개 흔적이 줄어들고 입자 지수는 영향을 받지 않았습니다.

이 사례는 다음과 같습니다. LCD 작업장의 화학 여과와 입자 여과는 오염 대상에 따라 구분되어야 하며 서로 대체할 수 없습니다. 관련된 화학 필터 제품 시리즈를 선택할 때 검증을 위해 각 공정의 오염 데이터, 민감한 대상 및 시스템 조건을 공급업체에 제공하는 것이 좋습니다.

선정 및 합격심사 핵심사항

Aili Industrial의 LCD 작업장 여과 패키지 정보

LCD 작업장의 파티클 제어 및 가스 오염 제어를 위해서는 두 가지 유형의 요구 사항을 계획 단계에서 별도로 확인한 후 시스템 수준에서 균일하게 확인해야 합니다.

Aili Industrial은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 판금 가공 분야에서 독립적인 제조 능력을 보유하고 있으며 HEPA/ULPA 필터 및 화학 필터 제품 시리즈를 제공할 수 있습니다. 입자 및 가스 제어를 모두 포함하는 프로젝트의 경우 각 공정의 오염 데이터, 보호 대상, 공기량 및 설치 공간을 결합하여 필터 섹션의 구성 및 작업 분배를 확인하는 데 도움을 줄 수 있습니다. 필터가 MAU, FFU, EFU 및 기타 장비와 일치하면 저항, 인터페이스 및 유지 관리 방법을 균일하게 확인할 수 있습니다.

관련 제품:케미컬 필터 제품 시리즈、HEPA 고효율 필터、FFU에는 화학 필터가 함께 제공됩니다 . 적절한 조합 솔루션을 확인하는 데 도움이 되도록 문의 중에 별도의 입자 제어 대상 및 가스 대상 목록이 제공됩니다. 특정 구성은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과의 적용을 받습니다.