EFU에 화학 필터가 필요한 이유는 무엇입니까?

EFU(Equipment Fan Filter Unit)는 일반적으로 장비 내부나 장비의 국소 부위에 설치되어 웨이퍼 이송 구역, 광학 검사 스테이션, 정밀 조립 위치에 깨끗한 공기를 공급합니다. 표준 구성은 공기 중의 미립자 물질을 제어하는 ​​팬과 입자 필터입니다.

그러나 입자 필터는 장비 내부의 가스 오염을 처리할 수 없습니다. 웨이퍼, 광학 렌즈, 센서, 정밀 금속 표면 등 이러한 민감한 물체는 입자를 두려워할 뿐만 아니라 특정 가스도 두려워할 수 있습니다. 산성 가스는 금속 회로를 부식시킬 수 있고, 알칼리성 가스는 포토레지스트에 영향을 줄 수 있으며, 유기 증기는 표면에 얇은 막을 형성할 수 있습니다. EFU가 입자만 제어하는 ​​경우 이러한 가스는 공급 공기와 함께 장비에 유입되어 중요한 위치에 악영향을 미칠 수 있습니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. 화학 필터와 HEPA 필터의 차이점에 대해 설명합니다 .

장비 끝부분의 가스 오염은 어디에서 발생합니까?

EFU가 서비스를 제공하는 지역에서는 가스 오염이 여러 방향에서 발생할 수 있습니다.

장치 내부의 물질 방출. 씰, 윤활제, 케이블, 플라스틱 구조 부품 및 접착제는 작동 온도에서 미량의 유기물을 방출할 수 있습니다. 이러한 배출물은 대개 고농도가 아니지만, 장비 내부 공간이 폐쇄되어 오염물질이 축적되기 쉽습니다. 구체적인 조사방법은 다음을 참고하세요. 화학 필터를 선택하기 전에 공기 샘플링을 수행할지 여부에 대해 논의하십시오 .

프로세스 릴리스. 일부 공정은 본질적으로 기체 물질을 생성하거나 사용합니다. 예를 들어, 포토리소그래피 공정에는 알칼리 성분이 포함될 수 있으며 세척 공정에는 유기 용매가 사용될 수 있습니다. 이러한 물질이 장비 내부로 확산되면 EFU 공기 공급 장치로 인해 민감한 지역으로 유입될 수 있습니다.

외부 입력. EFU로의 공기 흡입구는 장비 주변의 클린룸 환경에서 나오거나 파이프라인을 통해 외부에서 유입될 수 있습니다. 클린룸 자체에 가스 오염이 있거나 신선한 공기 배출구 근처에 배출원이 있는 경우 외부 입력도 장비 내부에 영향을 미칩니다.

인사 유지 관리 작업. 자재 교체, 장비 청소, 유지 관리 작업 수행 시 단기간 동안 가스 오염이 유입되거나 발생할 수 있습니다.

이러한 소스를 명확히 해야만 EFU에 화학 필터 섹션이 필요한지 여부와 필터 섹션을 배치해야 하는 위치를 결정할 수 있습니다. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. MAU가 화학적 여과 섹션을 구성해야 하는 이유에 대한 논의 .

장치 보호 개체 주변 선택

EFU에 화학 필터가 장착되어 있는지 여부는 장치 내부의 민감한 물체에 따라 다릅니다.

반도체 장비. 웨이퍼의 운송, 보관, 가공 과정에서 표면은 가스 오염에 의해 영향을 받을 수 있습니다. 산성 가스, 알칼리성 가스, 유기 증기 및 도펀트는 다양한 공정에서 문제를 일으킬 수 있습니다. 장비에는 화학 여과 섹션이 장착되어 있어 지역 환경의 목표 가스 농도를 줄일 수 있습니다.

광학 검사 장비. 렌즈, 필터, 광전 센서 표면에 유기물이나 부식성 성분이 쌓이면 빛의 투과율이나 감지 정확도에 영향을 줄 수 있습니다. 화학 여과를 지원하는 EFU는 이러한 유형의 가스 오염을 처리할 수 있습니다.

정밀 조립 장비. 일부 금속 접점과 정밀 메커니즘은 부식성 가스에 민감합니다. 장치 내부의 가스 오염으로 인해 접촉 저항이 변하거나 표면 산화가 발생할 수 있습니다.

모든 EFU에 화학 필터가 필요한 것은 아닙니다. 장비 내부에 가스 오염원이 없고 외부 입력이 잘 제어되면 입자 필터 섹션만 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 구성 여부는 장비의 감도, 오염원 및 실제 감지 데이터에 따라 다릅니다.

일치하는 구조와 팬

장치 쪽 공간이 좁은 경우가 많습니다. EFU에 화학여과부를 설치할 때에는 몇 가지 조건을 확인해야 합니다.

설치 공간. EFU 내부에서 사용 가능한 높이, 깊이 및 너비는 제한되어 있습니다. 화학 여과 섹션의 두께, 모양 및 인터페이스는 EFU 구조와 일치해야 합니다. 초박형 EFU에는 화학 필터 층이 장착되어 있어 특별한 설계가 필요할 수 있습니다. 구체적인 구조를 참고해주세요 초박형 EFU에도 케미컬 필터층을 장착할 수 있는지 에 대한 논의 .

저항 및 팬 마진. 화학적 여과 섹션은 시스템 저항을 증가시킵니다. EFU 팬이 목표 풍량을 유지할 수 있는지 여부는 저항을 추가한 후 작동점을 기준으로 계산해야 합니다. 여유가 부족한 경우 팬 구성을 조정하거나 필터 섹션 구조를 최적화해야 할 수도 있습니다. 구체적인 회계방법은 다음을 참고하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

봉인하고 우회합니다. 장비측 EFU 공간은 콤팩트하고 밀봉 구조는 신뢰성이 있어야 합니다. 프레임 바이패스는 처리되지 않은 공기가 필터 재료를 우회하여 출구 농도에 영향을 미치도록 합니다. 구체적인 검사 방법은 다음을 참조하세요. 케미컬필터 설치 후 프레임바이패스 점검방법 에 대한 논의 .

경로를 유지합니다. 케미컬필터부는 입자필터와 교체 주기가 다를 수 있습니다. 장비의 내부 공간은 제한되어 있으며, 필터 엘리먼트 교체를 위한 작동 공간과 분해 및 조립 경로는 설계 단계에서 확인되어야 합니다. 관련된 EFU 장비 측 팬 필터 유닛 의 전반적인 솔루션, 인터페이스, 유지 관리 방법은 계획 단계에서 함께 확인해야 합니다.

필터 세그먼트 순서 및 조정

EFU에 입자 여과 섹션과 화학 여과 섹션이 모두 있는 경우 순서를 확인해야 합니다.

일반적인 순서는 입자 여과 섹션 이전의 화학적 여과 섹션입니다. 이러한 방식으로 입자 필터 섹션은 화학 매체에 의해 생성될 수 있는 미량의 먼지를 차단하고 최종 공기 공급의 품질을 보호할 수 있습니다. 하지만 이 순서가 절대적인 것은 아니다. 화학 매체가 먼지에 민감한 경우 입자를 먼저 사전 필터링한 다음 화학 여과 섹션을 통과할 수도 있습니다.

분말 손실 및 화학 매체의 가스 방출을 확인해야 합니다. 일부 화학 필터 재료는 작동 중에 먼지를 생성하거나 미량 성분을 방출할 수 있습니다. 입자 필터 뒤에 케미컬 섹션을 배치하면 이 먼지 부분이 장비 내부로 직접 유입됩니다. 선택 시 미디어의 클린 호환성을 확인하세요. 구체적인 검증 방법은 다음을 참조하세요. ULPA의 낮은 가스 방출 요구 사항을 검증하는 방법에 대한 논의 .

두 속성 모두 별도로 확인됩니다. 입자 필터의 효율성과 밀봉은 해당 표준에 따라 확인됩니다. 화학 여과 구역의 목표 가스 출구 농도는 독립적으로 테스트됩니다. 한 가지 유형의 테스트만 수행할 수는 없습니다. 구체적인 샘플링 방법은 다음을 참조하세요. 화학 필터 성능 검증을 위한 샘플링 지점에 대한 논의 .

프로젝트 판단 예시

특정 반도체 장비 내부에는 웨이퍼 이송 메커니즘이 있습니다. 일정 시간 가동한 결과, 일부 웨이퍼 표면에서 알 수 없는 결함이 발견됐다.

파티클 컨트롤은 정상적인 것으로 확인되었습니다. 이후 장비 내부에는 미량의 유기증기가 존재하는 것으로 확인됐다. 원인은 장비 내부의 윤활유와 밀봉재였습니다. 입자 필터는 이러한 유형의 가스를 처리할 수 있는 능력이 없습니다.

조정 계획: 장비 EFU의 공기 공급 경로에 유기 가스에 대한 화학 여과 섹션을 추가합니다. 설치 전 EFU의 내부 공간, 팬 마진, 유지보수 접근권 등을 확인하고 얇은 케미컬 필터 구조를 선택했습니다. 설치 후 장비 내부의 유기증기 농도와 웨이퍼 표면 상태를 측정하여 개선이 확실한 것을 확인하였습니다.

이 사례는 장비 끝부분의 가스 오염에는 입자 필터로는 해결할 수 없는 표적 여과 솔루션이 필요하다는 것을 보여줍니다. 관련된 케미컬 필터 제품 시리즈 의 구성 시 장비 구조, 대상 가스 및 작동 조건을 공급자에게 제공하여 검증하는 것이 좋습니다.

선정 및 합격심사 핵심사항

Aili Industrial의 EFU 화학 여과 패키지 정보

케미컬 필터를 지원하는 EFU의 핵심은 장비 말단 오염 특성, 공간 조건, 보호 목적을 일치시킨 후, 이에 맞는 매체와 구조를 선택하는 것입니다.

Aili Industrial은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 판금 가공 분야에서 독립적인 제조 능력을 보유하고 있으며 화학 필터 제품 시리즈 및 지원 공기 공급 장비를 제공할 수 있습니다. 장비 측면 프로젝트의 경우 장비 구조, 대상 가스, 공기량 및 유지 관리 요구 사항을 기반으로 화학 여과 섹션의 구성 및 인터페이스를 확인하는 데 도움을 드릴 수 있습니다. 필터가 EFU, FFU 및 기타 장비와 일치하면 저항, 유지 관리 방법 및 샘플링 지점을 균일하게 확인할 수 있습니다.

관련 제품:케미컬 필터 제품 시리즈、FFU 매칭 화학 필터、MAU 상자 화학 필터 . 적절한 여과 솔루션을 확인하는 데 도움이 되도록 문의 시 장비 구조, 대상 가스 및 시스템 조건을 제공하십시오. 특정 선택은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과에 따라 달라집니다.