MAU에서 화학 여과 섹션을 구성해야 하는 이유는 무엇입니까?

MAU(Make-up Air Unit)의 주요 임무는 실외의 신선한 공기를 유입하고 이를 처리한 후 클린룸이나 공정 구역으로 보내 배기 공기에 의해 빼앗긴 공기량을 보충하는 것입니다.

많은 프로젝트가 MAU에 1차, 중, 고효율 여과 구역을 갖추고 있으며 입자 제어는 잘 이루어지지만 가스 오염은 처리되지 않습니다. 산성 가스, 알칼리성 가스, 유기 증기, 외부 악취 등 신선한 공기에 포함된 가스 오염 물질은 신선한 공기와 함께 청정 구역이나 장비로 직접 유입됩니다. 이러한 구성 요소가 공정이나 장비에 영향을 미치는 경우 입자 여과만으로는 문제가 해결되지 않습니다.

이것이 바로 MAU에 화학 여과 섹션을 갖추어야 하는 이유입니다. 신선한 공기 유입구에서 발생하는 가스 오염을 제어하기 위해 청정 구역으로 유입된 후 해결책을 찾는 대신입니다. 구체적인 선택 로직은 다음을 참조하세요. 화학필터란 무엇이며, 이를 해결하기 위해 주로 어떤 문제를 사용하는지 토론한다 .

외부 입력 조사

화학 여과 구역을 구성하기 전에 먼저 신선한 공기에 무엇이 들어 있는지 이해하십시오.

인근 배출원. 산업 단지, 교통 동맥, 하수 처리 시설 및 화학 회사는 모두 가스 오염 물질을 대기 중으로 배출할 수 있습니다. 새로운 공기 배출구의 위치와 주변 환경은 유입되는 오염 부하에 직접적인 영향을 미칩니다. 구체적인 평가 방법은 다음을 참고하세요. 공장은 오염원과 가깝고, 공기 흡입구 재배치를 화학 여과와 일치시키는 방법에 대한 논의가 논의됩니다.

계절과 바람이 변합니다. 오염 부하는 풍향과 계절에 따라 다를 수 있습니다. 설계할 때 가장 불리한 조건을 고려하거나 조정을 위한 여유 공간을 확보하십시오.

탐지 데이터. 주요 가스 성분과 농도 범위를 확인하기 위해 대표 기간 동안 신선한 공기 유입구를 샘플링합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 화학 필터를 선택하기 전에 공기 샘플링을 수행할지 여부에 대해 논의하십시오 .

경험만으로 판단하지 마세요. 일부 오염원은 뚜렷한 냄새가 없지만 특정 프로세스에 영향을 미칩니다. 감각적 판단보다 검사 데이터가 더 신뢰할 수 있습니다.

필터 세그먼트 위치 정렬

MAU의 화학 여과 구역을 어디에 배치할지는 시스템 구조와 환경 조건을 고려해야 합니다.

필터 세그먼트 순서. 일반적인 순서는 초기 효과 → 중간 효과 → 화학 여과 섹션 → 표면 냉각기 → 가열/가습 → 고효율입니다. 화학 필터 섹션의 위치는 작업 환경에 영향을 미칩니다.

표면 쿨러의 전면 또는 후면? 표면 냉각기 앞의 공기 온도는 높고 습도는 낮습니다. 표면 냉각기 뒤의 공기 온도는 낮고 습도는 높으며 물방울이 동반될 수 있습니다. 일부 화학 매체는 습기에 민감하므로 표면 냉각기에 넣은 후 추가 수분 제거 조치가 필요할 수 있습니다. 자세한 논의는 다음을 참고하세요. MAU 케미컬 필터를 표면 냉각기 이전에 설치해야 하는지, 아니면 이후에 설치해야 하는지에 대한 논의 .

입자 사전 필터 보호. 신선한 공기 중의 먼지는 화학 매체를 덮고 서비스 수명을 단축시킵니다. 화학적 여과 섹션 전에 적절한 입자 사전 여과를 설정하면 매체 부담을 줄일 수 있습니다. 구체적인 업무분할을 참고하세요 케미칼필터와 1차필터의 분업에 대한 논의 .

유지 관리 채널. 케미컬 필터 부분의 교체 주기는 입자 필터 부분의 교체 주기와 다르며, 설계 단계에서 유지 관리 채널을 확보해야 합니다.

전체 기계의 작동을 확인하십시오

화학 여과 섹션을 추가하면 시스템 저항이 변경되므로 전체 기계의 작동 지점을 다시 확인해야 합니다.

저항이 쌓입니다. 모든 수준의 필터의 초기 저항과 최종 저항에 표면 냉각기, 히터, 공기 덕트 등의 저항을 추가하여 시스템의 전체 저항을 구합니다. 팬 곡선을 비교하여 설계 공기량 하에서 작동 지점이 허용 가능한지 확인하십시오. 구체적인 회계방법은 다음을 참고하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

공기량 분포. MAU가 여러 지역에 공기를 공급하는 경우 케미컬 필터 섹션을 추가한 후 각 분기의 공기량 분포가 변경될 수 있습니다. 분기 공기 밸브 개방이나 조정 방법을 다시 확인할 필요가 있습니다. 구체적인 밸런싱 방법은 다음을 참조하세요. 화학적 여과 수정에 공기량 균형을 다시 수행해야 하는지 여부 를 논의합니다 .

봉인하고 우회합니다. 화학 필터 부분의 설치 및 밀봉은 신뢰성이 있어야 합니다. 프레임 우회는 처리되지 않은 공기가 매체를 우회하도록 허용하며 출구 농도는 자연스럽게 감소하지 않습니다. 구체적인 검사 방법은 다음을 참조하세요. 케미컬필터 설치 후 프레임바이패스 점검방법 에 대한 논의 .

샘플링 포인트는 예약되어 있습니다. 샘플링 포트는 여과 섹션 전후에 제공되어 출구 농도 변화의 후속 추적을 용이하게 합니다.

MAU 치료는 다른 조치를 대체할 수 없습니다.

화학적 여과 구간을 구성하는 것은 AMC 제어의 일부이지만 전부는 아닙니다.

실내 소스. 클린룸에서 물질 방출이나 공정 방출이 있는 경우 MAU는 신선한 공기 부분을 처리하고 실내 방출도 순환 여과, 국소 배기 또는 소스 제어를 통해 관리해야 합니다.

장치 측 보호. 일부 민감한 장비에는 독립적인 국소 여과가 필요할 수 있으며 MAU의 신선한 공기 처리에만 의존할 수는 없습니다. 다음과 같은 장치측 애플리케이션 화학 필터가 있는 FFU 또는 EFU에는 화학 필터가 장착되어 있습니다 .장비 요구 사항에 따라 별도로 구성할 수 있는

시스템 내에서의 업무 분업은 명확해야 합니다. 신선한 공기 처리, 순환 여과, 장비 끝단 보호의 범위는 계획 단계에서 명확히 해야 합니다. 모든 AMC 제어 요구 사항을 MAU에 적용할 수 없습니다. 구체적인 업무분할을 참고하세요 에 화학 필터를 설치하는 데 적합한 공기 처리 시스템 에 대해 논의합니다 .

프로젝트 판단 예

반도체 공장의 외부 공기 장치에는 원래 입자 필터 섹션만 장착되어 있었습니다. 운전 후 일부 공정 영역에서 가스 오염이 발생한 것으로 나타났습니다.

조사 결과, 신선한 공기 유입구 근처에 화학 물질 배출원이 있는 것으로 확인되었습니다. 신선한 공기 중의 산성 가스와 유기 증기가 청정 지역으로 유입된 후 일부 공정에 영향을 미쳤습니다. 입자 여과 시스템은 정상적으로 작동하지만 가스 처리 기능이 없습니다.

조정방안 : 신선공기유닛에 화학여과부를 추가하고, 검출된 산성가스와 유기물에 대해 별도의 매체를 구성한다. 필터 섹션은 높은 습도의 영향을 피하기 위해 표면 냉각기 앞에 위치합니다. 시스템 저항을 다시 계산하고 팬 작동 지점이 허용 가능한 것으로 확인되었습니다. 조정 후 신선한 공기의 가스 오염 부하가 크게 줄어들고 공정 영역의 문제가 완화되었습니다.

이 사례는 다음과 같습니다. MAU에는 신선한 공기에 의해 운반되는 가스 오염을 처리하기 위한 화학적 여과 구역이 갖추어져 있습니다. 관련된 MAU 박스형 케미컬 필터를 선택할 때 신선한 공기 감지 데이터와 시스템 조건을 공급자에게 제공하여 검증하는 것이 좋습니다.

선정 및 합격심사 핵심사항

Aili Industrial의 MAU 화학 여과 패키지 정보

MAU 화학여과 부문의 핵심은 신선한 공기 오염 특성, 시스템 조건 및 보호 목표를 일치시키는 것입니다.

Aili Industrial은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 판금 가공 분야에서 독립적인 제조 능력을 보유하고 있으며 화학 필터 제품 시리즈 및 지원 공기 공급 장비를 제공할 수 있습니다. MAU 프로젝트의 경우 신선한 공기 감지 데이터, 공기량, 필터 섹션 위치 및 교체 공간을 결합하여 미디어 유형 및 구조 구성을 확인하는 데 도움을 줄 수 있습니다. 필터가 MAU, FFU, EFU 및 기타 장비와 일치하면 저항, 인터페이스 및 유지 관리 방법을 균일하게 확인할 수 있습니다.

관련 제품:케미컬 필터 제품 시리즈、MAU 박스 화학 필터、FFU에는 화학 필터가 함께 제공됩니다 . 문의 시 신선한 공기 감지 데이터, 시스템 조건 및 보호 요구 사항을 제공하면 적절한 필터 섹션 구성을 확인하는 데 도움이 됩니다. 구체적인 선택은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과에 따라 달라집니다.