Anzahl der Aufrufe: 3636 Autor: Aili Industry Veröffentlichungszeit: 05.10.2026 Quelle: Ai Li Industrial
EFU (Equipment Fan Filter Unit) wird normalerweise innerhalb der Ausrüstung oder in einem lokalen Bereich der Ausrüstung installiert, um die Versorgung des Wafertransferbereichs, der optischen Inspektionsstation und der Präzisionsmontageposition mit sauberer Luft zu gewährleisten. Die Standardkonfiguration besteht aus einem Ventilator und einem Partikelfilter, der für die Feinstaubkontrolle in der Luft zuständig ist.
Allerdings kann der Partikelfilter die gasförmige Verschmutzung im Inneren des Geräts nicht bewältigen. Wafer, optische Linsen, Sensoren, Präzisionsmetalloberflächen – diese empfindlichen Objekte haben nicht nur Angst vor Partikeln, sondern möglicherweise auch vor bestimmten Gasen. Saure Gase können Metallschaltkreise angreifen, alkalische Gase können den Fotolack angreifen und organische Dämpfe können einen dünnen Film auf der Oberfläche bilden. Wenn die EFU nur Partikel kontrolliert, gelangen diese Gase mit der Zuluft in das Gerät und verursachen an kritischen Stellen schädliche Auswirkungen. Spezifische Unterschiede finden Sie unter Diskussion des Unterschieds zwischen chemischen Filtern und HEPA-Filtern .
In dem von der EFU versorgten Gebiet kann die gasförmige Verschmutzung aus mehreren Richtungen kommen.
Freisetzung von Material im Inneren des Geräts. Dichtungen, Schmiermittel, Kabel, Kunststoffbauteile und Klebstoffe können bei Betriebstemperaturen Spuren organischer Stoffe freisetzen. Diese Freisetzungen erfolgen normalerweise nicht in hohen Konzentrationen, aber der Innenraum der Ausrüstung ist geschlossen und Schadstoffe können sich leicht ansammeln. Spezifische Untersuchungsmethoden finden Sie unter , ob eine Luftprobenahme durchgeführt werden soll, bevor Sie sich für einen chemischen Filter entscheiden . Besprechen Sie
Prozessfreigabe. Einige Prozesse erzeugen oder verwenden von Natur aus gasförmige Stoffe. Beispielsweise können beim Fotolithographieprozess alkalische Komponenten zum Einsatz kommen und beim Reinigungsprozess organische Lösungsmittel zum Einsatz kommen. Wenn diese Stoffe in das Innere des Geräts diffundieren, können sie durch die EFU-Luftzufuhr in sensible Bereiche gelangen.
externer Eingang. Der Lufteinlass zur EFU kann aus der Reinraumumgebung rund um das Gerät erfolgen oder von außen über Rohrleitungen zugeführt werden. Bei gasförmiger Verschmutzung im Reinraum selbst oder bei Emissionsquellen in der Nähe des Frischluftauslasses wirkt sich der externe Eintrag auch auf das Innere der Anlage aus.
Personalwartungsarbeiten. Beim Austausch von Materialien, der Reinigung von Geräten und der Durchführung von Wartungsarbeiten kann es zu einer kurzzeitigen Entstehung oder Entstehung gasförmiger Schadstoffe kommen.
Nur durch die Klärung dieser Quellen können wir feststellen, ob die EFU einen chemischen Filterabschnitt benötigt und wo der Filterabschnitt platziert werden sollte. Informationen zur spezifischen Konfiguration finden Sie unter Diskussion darüber, warum MAU den Abschnitt für die chemische Filterung konfigurieren muss .
Ob das EFU mit einem chemischen Filter ausgestattet ist, hängt von den empfindlichen Gegenständen im Inneren des Geräts ab.
Halbleiterausrüstung. Während des Transports, der Lagerung und der Verarbeitung von Wafern kann die Oberfläche durch gasförmige Verunreinigungen beeinträchtigt werden. Saure Gase, alkalische Gase, organische Dämpfe und Dotierstoffe können bei verschiedenen Prozessen Probleme verursachen. Die Ausrüstung ist mit einem chemischen Filterabschnitt ausgestattet, der die Zielgaskonzentration in der lokalen Umgebung reduzieren kann.
Optische Inspektionsausrüstung. Wenn sich organische Stoffe oder korrosive Bestandteile auf den Oberflächen von Linsen, Filtern und fotoelektrischen Sensoren ablagern, kann die Lichtdurchlässigkeit oder die Erkennungsgenauigkeit beeinträchtigt werden. EFU, das die chemische Filtration unterstützt, kann diese Art von gasförmiger Verschmutzung bewältigen.
Präzisionsmontageausrüstung. Einige Metallkontakte und Präzisionsmechanismen reagieren empfindlich auf korrosive Gase. Gasförmige Verunreinigungen im Inneren des Geräts können zu Veränderungen des Kontaktwiderstands oder zu Oberflächenoxidation führen.
Nicht alle EFUs erfordern chemische Filter. Wenn im Gerät keine gasförmigen Schadstoffquellen vorhanden sind und der externe Eintrag gut kontrolliert wird, kann nur der Partikelfilterabschnitt die Anforderungen erfüllen. Die Konfiguration hängt von der Empfindlichkeit des Geräts, der Verschmutzungsquelle und den tatsächlichen Erkennungsdaten ab.
Der geräteseitige Platz ist oft knapp. Bei der Installation eines chemischen Filterabschnitts an EFU müssen mehrere Bedingungen überprüft werden.
Einbauraum. Die verfügbare Höhe, Tiefe und Breite innerhalb der EFU sind begrenzt. Die Dicke, Form und Schnittstelle des chemischen Filterabschnitts müssen mit der EFU-Struktur übereinstimmen. Das ultradünne EFU ist mit einer chemischen Filterschicht ausgestattet, die möglicherweise ein spezielles Design erfordert. Bitte beachten Sie die spezifische Struktur Diskussion, ob ultradünne EFU auch mit einer chemischen Filterschicht ausgestattet werden können .
Widerstand und Lüfterspielraum. Chemische Filterabschnitte erhöhen die Widerstandsfähigkeit des Systems. Ob der EFU-Lüfter das Zielluftvolumen aufrechterhalten kann, muss anhand des Arbeitspunkts nach Hinzufügung des Widerstands berechnet werden. Wenn der Spielraum nicht ausreicht, kann es erforderlich sein, die Lüfterkonfiguration anzupassen oder die Struktur des Filterabschnitts zu optimieren. Spezifische Abrechnungsmethoden finden Sie unter Diskussion darüber, um wie viel der zusätzliche Widerstand des chemischen Filters den Stromverbrauch des Ventilators erhöht .
Abdichten und umgehen. Der EFU-Raum auf der Geräteseite ist kompakt und die Dichtungsstruktur muss zuverlässig sein. Durch den Rahmenbypass kann unbehandelte Luft das Filtermaterial umgehen und so die Auslasskonzentration beeinflussen. Spezifische Inspektionsmethoden finden Sie unter Diskussion darüber , wie der Rahmenbypass nach der Installation eines chemischen Filters überprüft werden kann .
Pfad beibehalten. Der chemische Filterabschnitt hat möglicherweise einen anderen Austauschzyklus als der Partikelfilter. Der Innenraum der Ausrüstung ist begrenzt und der Betriebsraum sowie der Demontage- und Montageweg für den Austausch des Filterelements müssen während der Entwurfsphase bestätigt werden. involvierend Die Gesamtlösung, Schnittstelle und Wartungsmethode der Lüfterfiltereinheit auf der EFU-Geräteseite müssen während der Planungsphase gemeinsam überprüft werden.
Wenn es in der EFU sowohl einen Partikelfiltrationsabschnitt als auch einen chemischen Filtrationsabschnitt gibt, muss die Bestellung bestätigt werden.
Eine übliche Reihenfolge ist der chemische Filterabschnitt vor dem Partikelfiltrationsabschnitt. Auf diese Weise kann der Partikelfilterabschnitt Spuren von Staub abfangen, die durch chemische Medien erzeugt werden können, und die Qualität der Endluftversorgung schützen. Aber diese Reihenfolge ist nicht absolut. Ist das chemische Medium staubempfindlich, können die Partikel auch zunächst vorgefiltert werden und anschließend die chemische Filterung durchlaufen.
Der Pulververlust und das Ausgasen chemischer Medien müssen bestätigt werden. Einige chemische Filtermaterialien können während des Betriebs Staub erzeugen oder Spurenbestandteile freisetzen. Wenn der Chemieteil nach dem Partikelfilter angeordnet ist, gelangt dieser Teil des Staubs direkt in das Innere des Geräts. Bestätigen Sie bei der Auswahl die saubere Kompatibilität der Medien. Spezifische Verifizierungsmethoden finden Sie unter Diskussion darüber, wie die niedrigen Ausgasungsanforderungen von ULPA überprüft werden können .
Beide Eigenschaften werden separat überprüft. Die Effizienz und Dichtigkeit des Partikelfilters werden nach entsprechenden Normen bestätigt; Die Zielgasauslasskonzentration des chemischen Filterabschnitts wird unabhängig getestet. Sie können nicht nur eine Art von Tests durchführen. Spezifische Probenahmemethoden finden Sie unter Diskussion von Probenahmestellen für die Leistungsüberprüfung chemischer Filter .
In bestimmten Halbleitergeräten gibt es einen Wafer-Transfermechanismus. Nach längerem Betrieb wurden auf der Oberfläche einiger Wafer unbekannte Defekte festgestellt.
Die Partikelkontrolle wurde als normal überprüft. Später stellte sich heraus, dass sich im Gerät Spuren organischer Dämpfe befanden. Die Quelle war das Schmier- und Dichtungsmaterial im Inneren der Anlage. Partikelfilter sind nicht in der Lage, diese Art von Gas zu verarbeiten.
Anpassungsplan: Fügen Sie einen chemischen Filterabschnitt für organische Gase in den Luftzufuhrweg der Geräte-EFU ein. Vor der Installation wurden der Innenraum der EFU, der Lüfterabstand und der Wartungszugang überprüft und eine dünne chemische Filterstruktur ausgewählt. Nach der Installation wurden die Konzentration organischer Dämpfe im Inneren des Geräts und der Zustand der Waferoberfläche erfasst, um zu bestätigen, dass die Verbesserung offensichtlich war.
Dieser Fall zeigt, dass gasförmige Verschmutzungen auf der Geräteseite gezielte Filtrationslösungen erfordern, die durch Partikelfilter nicht gelöst werden können. involvierend Für die Konfiguration der Produktreihe chemischer Filter wird empfohlen, dem Lieferanten die Gerätestruktur, das Zielgas und die Betriebsbedingungen zur Überprüfung zur Verfügung zu stellen.
Artikel prüfen |
Bestätigen Sie wichtige Punkte |
|---|---|
Geschützte Objekte |
Identifizieren Sie sensible Inhaltsstoffe und Konzentrationsziele |
Freigabeposition |
Unterscheiden Sie zwischen internen und eingehenden Quellen |
Weltraumschnittstelle |
Überprüfen Sie den Einbau, Ausbau und die Dichtungskonstruktion |
Luftstromziel |
Überprüfen Sie die Luftmenge und den Widerstand, um die beiden Leistungsarten zu überprüfen |
Der Kern des EFU-unterstützenden chemischen Filters besteht darin, die Geräte- und Verschmutzungseigenschaften, Raumbedingungen und Schutzziele anzupassen und dann das passende Medium und die passende Struktur auszuwählen.
Aili Industrial verfügt über unabhängige Fertigungskapazitäten für Filter, Motoren, Lüfter, Steuerungssysteme und Blechverarbeitung und kann chemische Filterproduktserien und unterstützende Luftversorgungsgeräte liefern. Bei geräteseitigen Projekten können wir bei der Überprüfung der Konfiguration und Schnittstelle des chemischen Filterbereichs auf der Grundlage der Gerätestruktur, des Zielgases, des Luftvolumens und der Wartungsanforderungen behilflich sein. Wenn der Filter mit EFU, FFU und anderen Geräten kombiniert wird, können der Widerstand, die Wartungsmethoden und die Probenahmepunkte einheitlich bestätigt werden.
Verwandte Produkte:Produktreihe chemischer Filter、FFU passender chemischer Filter、Chemischer MAU-Kastenfilter . Geben Sie bei Anfragen die Gerätestruktur, das Zielgas und die Systembedingungen an, um die geeignete Filterlösung zu bestätigen. Die konkrete Auswahl erfolgt vorbehaltlich der durch das Projekt bestätigten technischen Unterlagen und Prüfergebnisse.