데이터 센터에서 기체 부식 오염을 평가해야 하는 이유는 무엇입니까?

데이터 센터의 환경 제어는 일반적으로 온도, 습도 및 미립자 물질을 중심으로 이루어집니다. 정밀 에어컨은 온도와 습도를 유지하고, 필터는 먼지를 제어합니다. 이러한 조치는 장비 작동을 보장하는 데 근본적인 역할을 합니다.

그러나 쉽게 간과되는 한 가지 유형의 오염이 있습니다. 바로 기체 부식성 구성 요소입니다. 공기 중에 분자 형태로 존재하며 입자 필터는 이를 막을 수 없으며 온도와 습도 조절도 이를 해결할 수 없습니다. 이러한 구성 요소가 전자 구성 요소의 금속 표면과 접촉하면 느린 부식 반응이 발생할 수 있습니다. 초기에는 뚜렷한 증상이 없습니다. 장비의 접촉 불량이나 회로 기판 오류가 발생하면 문제 해결이 늦어지는 경우가 많습니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. 화학 필터와 HEPA 필터의 차이점에 대해 설명합니다 .

부식성 가스가 발생할 수 있는 곳

데이터 센터의 부식성 가스 소스는 외부 입력과 내부 방출이라는 두 가지 범주로 나뉩니다.

외부 입력. 컴퓨터실이 산업 지역, 교통 동맥, 하수 처리 시설 또는 농업 지역에 가까운 경우 신선한 공기에 황화물, 산화질소, 염화물, 암모니아 등의 성분이 포함될 수 있습니다. 이러한 가스는 신선한 공기 배출구를 통해 컴퓨터실로 유입되어 공기 중에 축적됩니다. 구체적인 조사방법은 다음을 참고하세요. 화학 필터를 선택하기 전에 공기 샘플링을 수행할지 여부 를 논의하십시오 .

내부 릴리스. 컴퓨터실 내부의 자재에서도 부식성 구성 요소가 방출될 수 있습니다. 예를 들어, 특정 포장재, 세제, 배터리 및 전자 부품 포장재는 온도의 영향으로 미량의 물질을 휘발시킬 수 있습니다. 이러한 오염원은 일반적으로 농도가 낮지만 전산실을 폐쇄하고 공기를 순환시키기 때문에 장기간 축적될 경우 여전히 주의가 필요합니다.

외부 소스와 내부 소스가 겹칠 수 있습니다. 신선한 공기에 의해 유입된 구성요소와 내부적으로 방출된 구성요소가 혼합된 후, 장비에 대한 실제 영향을 종합적으로 평가해야 합니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. 대기 중 AMC 오염이 무엇을 의미하는지 에 대한 토론 .

전자 장치에 미치는 영향

부식성 가스로 인해 데이터 센터 장비에 미치는 피해는 일반적으로 갑작스럽지 않고 점진적입니다.

회로 기판 부식. 금속 회로, 납땜 접합부 및 커넥터가 부식성 구성 요소가 포함된 공기에 노출되면 표면이 점차 산화되거나 부식 생성물이 생성될 수 있습니다. 접촉 저항이 증가하고 신호 전송 품질이 저하됩니다.

커넥터 및 접점. 골드 핑거, 핀, 릴레이 접점 및 기타 부품은 부식성 가스에 민감합니다. 부식 생성물로 인해 접촉 불량이 발생하여 간헐적인 고장이 발생할 수 있습니다.

하드 드라이브 및 저장 장치. 일부 연구에 따르면 황 함유 가스는 하드 디스크 헤드나 플래터 표면에 영향을 미쳐 읽기 및 쓰기 오류율을 증가시킬 수 있는 것으로 나타났습니다.

이러한 효과가 나타나는 데는 종종 시간이 걸립니다. 컴퓨터실에서 초기 단계에서 부식성 가스 수준을 평가하지 않으면 나중에 문제를 해결할 때 이 방향을 고려하지 않을 수 있습니다. 특정 장비 보호 방법에 대해서는 다음을 참조하십시오. EFU에서 화학 필터 지원이 필요한 이유에 대한 논의 .

평가방법

데이터 센터의 부식성 가스 위험 평가는 여러 수준에서 시작할 수 있습니다.

공기 테스트. 컴퓨터실의 여러 위치에서 샘플을 채취하여 황화물, 염화물, 산화질소 및 암모니아와 같은 일반적인 부식성 성분의 농도를 감지합니다. 샘플링 지점은 신선한 공기 흡입구, 환기 구역 및 주요 장비 근처를 포함해야 합니다. 구체적인 샘플링 방법은 다음을 참조하세요. 화학 필터 성능 검증을 위한 샘플링 지점에 대한 논의 .

부식 모니터링. 부식 모니터링 부품이나 센서를 사용하여 일정 시간 동안 컴퓨터실에 배치하여 금속 테스트 부품의 부식 정도를 관찰합니다. 이 방법은 실제 환경이 금속 재료에 미치는 영향 추세를 반영할 수 있지만 일정 기간이 필요합니다.

장비 고장 통계. 전산실에서 원인을 알 수 없는 접촉 불량, 회로 기판 불량, 장비 수명이 짧은 경우에는 가스 부식을 조사 방향 중 하나로 고려할 수 있습니다.

탐지 방법과 기준은 컴퓨터실 수준의 요구 사항과 일치해야 합니다. 표준마다 부식성 가스에 대한 분류 및 제한이 다를 수 있으므로 프로젝트에서는 어떤 표준을 채택할지 명확하게 밝혀야 합니다. 구체적인 평가 방법은 다음을 참고하세요. 데이터 센터 화학 필터가 신선한 공기를 처리해야 하는지 아니면 재순환 공기를 처리해야 하는지 에 대한 논의입니다 .

통제 수단

부식성 가스의 위험성을 확인한 후 이에 상응하는 통제 조치를 취할 수 있습니다.

신선한 공기 섹션의 화학적 여과. 외부 입력이 주요 소스인 경우, 대상 가스를 처리하기 위해 신선한 공기 장치에 화학 여과 섹션을 설정할 수 있습니다. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. MAU가 화학적 여과 섹션을 구성해야 하는 이유에 대한 논의 .

순환 필터링. 내부 방출 또는 외부 입력이 컴퓨터실에 축적되는 경우 환기 또는 순환 경로에 화학 여과 섹션을 설치하여 공기 중 부식성 성분의 농도를 줄이는 것을 고려하십시오. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. FFU와 화학 필터를 함께 사용하여 국부적인 오염을 처리할 수 있는 방법 에 대해 논의합니다 .

장치 측 보호. 특히 민감한 장비나 캐비닛의 경우 장비 공기 유입 경로의 대상 가스를 처리하기 위해 국부적인 화학 여과를 평가할 수 있습니다. 구체적인 차이점은 다음을 참조하세요. EFU에서 화학 필터 지원이 필요한 이유에 대한 논의 .

필터 섹션의 선택은 공기량과 저항을 고려해야 합니다. 데이터 센터의 공기 공급 및 환기 시스템은 일반적으로 공기량이 많습니다. 화학 여과 구간을 추가한 후 팬 마진과 시스템 저항을 확인해야 합니다. 구체적인 회계방법은 다음을 참고하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

냉각과 유지관리를 모두 고려

데이터 센터는 열 방출에 대한 요구 사항이 매우 높으므로 필터 섹션을 추가해도 공기 공급량에 영향을 미칠 수 없습니다.

필터 섹션의 저항은 팬 계산에 포함되어야 합니다. 원래 팬 마진이 충분하지 않은 경우 시스템을 조정하거나 저저항 솔루션을 선택해야 할 수도 있습니다.

대체 채널을 예약해야 합니다. 케미컬필터부의 교체주기는 입자필터의 교체주기와 다르며, 설계단계에서 유지보수 접근 및 작동공간을 확인해야 합니다.

모니터링 방법이 일치해야 합니다. 장기적인 영향을 쉽게 추적할 수 있도록 여과 섹션 전후에 샘플링 포트 또는 부식 모니터링 지점을 설정합니다. 특정 녹음 요구 사항은 다음을 참조하십시오. 화학 필터의 지속 시간 에 대한 논의 .

프로젝트 판단 예

데이터센터 전산실에서 수년을 운영한 결과, 일부 서버 회로 기판의 부식, 커넥터 접촉 불량 등의 문제가 나타나기 시작했다. 온습도 기록은 정상이며, 입자 여과 시스템도 잘 작동하고 있습니다.

조사 결과 컴퓨터실의 신선한 공기 유입구는 도시의 주요 도로에 가깝고 공기 중 황 함유 성분의 농도가 상대적으로 높았으며 컴퓨터실의 일부 영역은 황 함유 물질로 포장되어 있는 것으로 나타났습니다. 신선한 공기에 의해 유입된 황화물과 내부적으로 방출된 미량 성분이 컴퓨터실에 축적되어 전자 부품에 영향을 미칩니다.

조정 방향: 외부 공기 장치에 황 함유 가스에 대한 화학 여과 섹션을 추가하고 컴퓨터실의 환기 공기 경로에 보조 여과를 설정합니다. 필터 섹션 저항을 계산한 후에도 팬 작동 지점은 여전히 ​​허용 범위 내에 있습니다. 조정 후 부식 경향이 완화되고 후속 고장률이 감소했습니다.

이 사례는 다음을 보여줍니다. 데이터 센터는 가스 부식 오염을 평가하여 입자 여과와 온도 및 습도 제어로 처리할 수 없는 숨겨진 위험을 식별합니다. 관련된 화학 필터 제품 시리즈 구성의 경우 확인을 위해 컴퓨터실 환경 데이터, 신선한 공기 조건 및 장비 요구 사항을 공급자에게 제공하는 것이 좋습니다.

선정 및 합격심사 핵심사항

Aili Industrial의 데이터센터 화학 여과 패키지 소개

데이터 센터의 기체 부식 오염 제어의 핵심은 오염원, 장비 요구 사항 및 열 방출 조건을 일치시킨 다음 적합한 화학 여과 솔루션을 선택하는 것입니다.

Aili Industrial은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 판금 가공 분야에서 독립적인 제조 능력을 보유하고 있으며 화학 필터 제품 시리즈 및 지원 공기 공급 장비를 제공할 수 있습니다. 데이터 센터 프로젝트의 경우 컴퓨터실 환경 데이터, 신선한 공기 상태, 공기량 및 설치 공간을 결합하여 화학 여과 섹션의 구성을 확인할 수 있습니다. 필터가 MAU, FFU, EFU 및 기타 장비와 일치하면 저항, 인터페이스 및 유지 관리 방법을 균일하게 확인할 수 있습니다.

관련 제품:케미컬 필터 제품 시리즈、MAU 박스 화학 필터、FFU에는 화학 필터가 함께 제공됩니다 . 적절한 여과 솔루션을 확인하는 데 도움이 되도록 문의할 때 컴퓨터실 환경 데이터, 대상 가스 및 시스템 조건을 제공하십시오. 구체적인 선택은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과에 따라 달라집니다.