¿Cómo cooperar con la filtración química y la filtración de partículas en el taller de LCD?

En la producción de LCD, incluidos los procesos TFT, formación de cajas, módulos y otros, los requisitos para un entorno limpio se centran principalmente en el control de partículas. Los talleres suelen estar equipados con secciones de filtración de eficiencia primaria, eficiencia media y alta, y algunos incluso tienen FFU en todo el techo. El índice de partículas generalmente se controla de manera relativamente estable.

Pero si sólo controlas las partículas, seguirán surgiendo algunos problemas. Por ejemplo, algunos procesos utilizan disolventes orgánicos, fotoprotectores y agentes de limpieza. Estos materiales se evaporan en el aire para formar contaminación gaseosa que los filtros de partículas no pueden detener. Con el tiempo, puede acumularse en los componentes ópticos del equipo, las superficies de los productos o los conductos de ventilación. Por lo tanto, el sistema de filtración en el taller de LCD debe considerar el control de partículas y el control de la contaminación gaseosa por separado, y luego coordinarlos en el sistema. Para conocer la lógica específica de la división del trabajo, consulte Discusión de la diferencia entre filtros químicos y filtros HEPA .

Identificar cargas por proceso

Los objetos de contaminación producidos por diferentes procesos en el taller LCD son diferentes y los métodos de coordinación deben considerarse por separado.

Proceso de matriz. Implica fotolitografía, grabado, deposición de películas y otros pasos. El fotoprotector, el revelador y el gas de grabado pueden liberar vapores orgánicos o componentes ácidos. Los requisitos de control de partículas son elevados y también es necesario prestar atención a la contaminación gaseosa.

Proceso de boxeo. Goteo de cristal líquido, pegamento para sellar marcos, prensado de alineación y otras operaciones. Los adhesivos y materiales de cristal líquido pueden liberar trazas de materia orgánica. Este proceso es sensible tanto a partículas como a gases.

Proceso del módulo. Accesorio de polarizador, enlace de controlador IC y conjunto de retroiluminación. En el caso de adhesivos y agentes de limpieza se pueden liberar COV. Los requisitos de control de partículas son ligeramente menores que en el proceso de matriz, pero la contaminación gaseosa puede afectar la apariencia y la confiabilidad.

Limpieza y almacenamiento de material. La volatilización del agente de limpieza y el almacenamiento de materiales al aire libre pueden seguir liberando componentes gaseosos. Esta parte de la fuente se pasa fácilmente por alto. Para métodos de investigación específicos, consulte si se debe realizar un muestreo de aire antes de elegir un filtro químico . Analice

Determinar capas y rutas de filtro

Después de identificar los objetos contaminantes, considere cómo organizar los segmentos del filtro en el sistema.

Es una práctica común poner la filtración de partículas en primer lugar y la filtración química al final. Los efectos inicial y medio interceptan el polvo primero y reducen la cobertura de polvo de los medios químicos. La terminal de alta eficiencia o ULPA es la encargada del control final de partículas. La sección de filtración química se coloca después de la eficiencia intermedia y antes de la eficiencia terminal, o integrada con la eficiencia terminal en la FFU. Para una configuración específica, consulte Discusión sobre la división del trabajo entre filtros químicos y filtros primarios .

La ubicación de la sección de filtración química depende de la fuente de contaminación. Si la contaminación gaseosa proviene principalmente del aire fresco externo, es más sencillo instalar una sección de filtración química en la unidad de aire fresco. Si la liberación proviene principalmente de procesos internos, se puede procesar en el aire de retorno o en la ruta de circulación de FFU. Para diferencias específicas, consulte ¿Por qué MAU necesita configurar la sección de filtro químico y Discusión sobre qué contaminación local puede manejar FFU más filtro químico .

La secuencia no es fija y debe confirmarse en función de la pérdida media de polvo, la liberación de gas y la estructura de mantenimiento. Algunos medios químicos pueden producir trazas de polvo. Si se coloca detrás del terminal de alta eficiencia, esta parte del polvo entrará directamente al taller. Anteponerla a la eficiencia, la eficiencia puede desempeñar un papel interceptivo. Para diferencias específicas, consulte Discusión sobre si el filtro químico FFU debe colocarse antes o después del HEPA .

La distribución del volumen de aire y la resistencia deben calcularse juntas. Agregar una sección de filtración química aumentará la resistencia total del sistema. Es necesario calcular si el ventilador original puede mantener el volumen de aire objetivo en función del punto de trabajo real. Para métodos específicos, consulte Discusión sobre cuánto aumentará la resistencia adicional del filtro químico el consumo de electricidad del ventilador .

Establecer métodos de aceptación por separado

Las partículas y el gas son dos tipos de indicadores y la aceptación debe realizarse por separado.

Aceptación del lado de las partículas. La terminal de alta eficiencia o ULPA realiza la confirmación de eficiencia, inspección de sellado de la instalación y detección de fugas en sitio según el nivel correspondiente. Los métodos de detección y los estándares de evaluación se implementan de acuerdo con los requisitos del filtro de partículas. puede ser referenciado Descripción del filtro HEPA de alta eficiencia .

Aceptación del lado del gas. La sección de filtración química realiza pruebas de concentración de entrada y salida basadas en los componentes objetivo para confirmar el efecto de eliminación. Los puntos de muestreo deben ser representativos del aire antes y después de la sección de filtración, y el método de detección debe ser adecuado para el gas objetivo. Para métodos específicos, consulte Discusión de puntos de muestreo para la verificación del desempeño del filtro químico .

La base de mantenimiento es diferente. La sustitución del filtro de partículas depende de la diferencia de presión y de los resultados de la detección de fugas; el reemplazo de la sección del filtro químico depende del consumo de capacidad de procesamiento de gas y es posible que no haya un cambio obvio de diferencia de presión. Los ritmos de mantenimiento de los dos son diferentes y los libros mayores deben registrarse por separado. Para diferencias específicas, consulte Discusión sobre si el filtro químico se puede reemplazar en función de la diferencia de presión .

No se pueden utilizar datos de partículas únicamente para evaluar los efectos del gas, ni tampoco se pueden medir gases e ignorar las partículas. Los dos tipos de indicadores se archivan por separado para poder localizar rápidamente los problemas.

Preste atención a los impactos entre procesos

Hay muchos procesos en el taller de LCD y la organización del flujo de aire es compleja. La configuración del filtrado debe considerar la interacción entre los procesos.

El aire de retorno compartido puede causar contaminación cruzada. Si diferentes procesos comparten un sistema de aire de retorno, los componentes gaseosos liberados de un proceso pueden ingresar a otro proceso a través del aire de retorno. En este momento, es necesario verificar la relación entre la partición del aire de retorno y la diferencia de presión, y agregar una sección de filtración química a la ruta del aire de retorno si es necesario. Para más detalles, consulte Discusión sobre cómo interactúan entre sí los olores en los edificios de fábricas de varios pisos y cómo se debe dividir la filtración química .

Reevaluar después de los ajustes del proceso. Si se cambia el agente de limpieza, fotorresistente o adhesivo en un determinado proceso, los componentes liberados pueden cambiar. Es necesario volver a comprobar si la sección de filtración química original sigue siendo adecuada. Para métodos específicos, consulte Discusión sobre por qué se deben seleccionar filtros químicos según los gases objetivo .

El lado del aparato se puede proteger individualmente. Para equipos o estaciones de trabajo que son particularmente sensibles a la contaminación gaseosa, se puede instalar una filtración química local en la ruta de entrada de aire del equipo. Para aplicaciones del lado del dispositivo, consulte Discusión sobre por qué EFU necesita filtros químicos de apoyo .

Ejemplo de juicio de proyecto

Después de que cierto taller de módulos LCD estuvo funcionando durante un período de tiempo, aparecieron rastros de niebla desconocidos en la superficie de algunos productos, pero la detección de partículas fue normal.

La investigación confirmó que se utilizó algún tipo de adhesivo en el taller, que liberó trazas de vapor orgánico durante el proceso de curado y se depositó en la superficie del polarizador formando trazas de niebla. Los sistemas de filtración de partículas no tienen la capacidad de manejar este tipo de gas.

Dirección de ajuste: agregue una sección de filtración química para vapor orgánico en la ruta de aire de retorno del proceso del módulo y fortalezca el escape local en el punto de uso del adhesivo. La concentración de vapor orgánico, el volumen de aire y las condiciones de temperatura y humedad se verificaron antes de configurar la sección de filtrado. Después del ajuste, los rastros de niebla en la superficie se redujeron y el índice de partículas no se vio afectado.

Este caso ilustra: La filtración química y la filtración de partículas en el taller de LCD deben dividirse según los objetos contaminantes y no pueden reemplazarse entre sí. involucrando Al seleccionar una serie de productos de filtrado químico , se recomienda proporcionar al proveedor los datos de contaminación, los objetos sensibles y las condiciones del sistema de cada proceso para su verificación.

Puntos clave para la inspección de selección y aceptación.

Acerca del paquete de filtración de taller LCD de Aili Industrial

Para el control de partículas y el control de la contaminación gaseosa en el taller de LCD, los dos tipos de requisitos deben confirmarse por separado en la etapa de planificación y luego verificarse de manera uniforme a nivel del sistema.

Aili Industrial tiene capacidades de fabricación independientes en filtros, motores, ventiladores, sistemas de control y procesamiento de chapa metálica, y puede proporcionar series de productos de filtros químicos y filtros HEPA/ULPA. Para proyectos que involucran control de partículas y gases, los datos de contaminación, los objetos de protección, el volumen de aire y el espacio de instalación de cada proceso se pueden combinar para ayudar a verificar la configuración y división del trabajo de la sección de filtro. Cuando el filtro se combina con MAU, FFU, EFU y otros equipos, la resistencia, la interfaz y los métodos de mantenimiento se pueden confirmar de manera uniforme.

Productos relacionados:Serie de productos de filtros químicos.、Filtro HEPA de alta eficiencia、FFU viene con filtro químico . Durante la consulta se proporciona una lista separada de objetivos de control de partículas y objetivos de gas para ayudar a confirmar la solución combinada adecuada. La configuración específica está sujeta a los documentos técnicos y a los resultados de las pruebas confirmados por el proyecto.