¿A qué contaminantes se deben enfocar los filtros químicos en el área de litografía?

La sensibilidad del proceso de fotolitografía al medio ambiente es relativamente prominente en la fabricación de semiconductores. El control de partículas suele ser estricto, pero la contaminación molecular del aire (AMC) también puede afectar la exposición y la calidad de la imagen.

El AMC que necesita atención en el área de litografía no es sólo un 'gas' general. Los diferentes componentes afectan el proceso de fotolitografía de diferentes maneras y tienen diferentes objetivos de control. Al seleccionar, primero debe confirmar cuáles son los contaminantes clave y luego seleccionar el medio filtrante químico correspondiente. Consulte la clasificación específica. Discusión de a qué se refiere la contaminación del aire por AMC .

A partir de los requisitos del equipo.

El punto de partida para la configuración de filtros químicos en el área de litografía son los requisitos específicos del equipo y proceso de litografía.

Los objetos sensibles de diferentes sistemas de proceso pueden ser diferentes. La litografía ultravioleta profunda (DUV), la litografía ultravioleta extrema (EUV) y la litografía por haz de electrones tienen diferente sensibilidad al AMC y a los componentes de interés. El proyecto debe utilizar las especificaciones del equipo correspondientes y los datos de inspección in situ, y no puede copiar la configuración de otras líneas de producción.

Los objetivos comunes de desodorización del aire no pueden reemplazar la protección del proceso de baja concentración. Los niveles de concentración que preocupan en el área de la fotolitografía suelen estar muy por debajo del umbral olfativo humano, y es necesario utilizar métodos de detección y esquemas de filtración adecuados para la concentración objetivo. Para diferencias específicas, consulte Discusión sobre por qué se deben seleccionar filtros químicos según los gases objetivo .

También se lanzan fotorresistentes y materiales de recubrimiento. Los fotorresistentes, los revestimientos antirreflectantes, los diluyentes y los reveladores pueden liberar vapores orgánicos durante su uso. Esta parte de la fuente de liberación se encuentra dentro del equipo o cerca de la estación de recubrimiento y debe evaluarse junto con la ruta del flujo de aire.

Categorías clave de contaminantes

Según los objetos sensibles habituales en el proceso de fotolitografía, los siguientes tipos de contaminantes merecen especial atención.

gas alcalino. Los componentes alcalinos como el amoníaco y las aminas son uno de los AMC más comunes en el área de la fotolitografía. Trazas de sustancias alcalinas pueden neutralizar el fotoácido en el fotoprotector, afectando la resolución del patrón después de la exposición. Las propiedades moleculares del amoníaco y de las diferentes aminas son diferentes y la idoneidad del medio debe comprobarse por separado. Para diferencias específicas, consulte Cómo elegir filtros químicos y filtros para la contaminación por gases de aminas. Discusión sobre si los filtros químicos pueden eliminar el amoníaco del aire .

Gas ácido. Los componentes ácidos como el dióxido de azufre, el cloruro de hidrógeno y los óxidos de nitrógeno pueden corroer o contaminar los componentes ópticos del equipo, el fotorresistente o las superficies de las obleas. Se podrán introducir emisiones industriales externas, procesos o agentes de limpieza. Para diferencias específicas, consulte Discusión de las condiciones para el uso de la filtración de gas cloruro de hidrógeno a las que se debe prestar atención .

Vapor orgánico. Los componentes orgánicos como disolventes volátiles, plastificantes y siloxanos pueden depositarse en la superficie de lentes ópticas u obleas para formar películas delgadas, afectando la transmitancia de la luz o los procesos posteriores. Las fuentes comunes son fotoprotectores, agentes de limpieza y reveladores utilizados en el área de la fotolitografía. Para métodos de selección específicos, consulte Discusión sobre cómo elegir filtros químicos de aire para la contaminación por tolueno .

Dopantes. Es posible que existan trazas de compuestos dopantes como el boro y el fósforo en el aire del área de fotolitografía, lo que afecta las propiedades eléctricas del dispositivo. Estos ingredientes a menudo requieren métodos de detección y medios filtrantes especializados.

Enumere estos tipos de contaminantes por separado y luego determine las prioridades en función del área de proceso y los datos de detección. No todas las zonas de litografía necesitan controlar todas las categorías simultáneamente.

Métodos para identificar contaminantes clave

La configuración del filtro químico en el área de fotolitografía no puede basarse únicamente en la experiencia y aplicar la lista.

Prueba primero. Tomar muestras en el área de fotolitografía y su entrada de aire fresco para detectar componentes objetivo como materia alcalina, ácida, orgánica y dopantes. Los puntos de muestreo deben cubrir las proximidades de equipos clave, áreas de aire de retorno y entradas de aire fresco. Para métodos específicos, consulte si se debe realizar un muestreo de aire antes de elegir un filtro químico . Analice

Consultar especificaciones del equipo. Los fabricantes de equipos de litografía suelen proporcionar componentes sensibles y requisitos de concentración para AMC. La documentación del proyecto debe traducir estos requisitos en insumos para la selección del filtro químico.

Distinga entre entrada externa y liberación interna. Si la fuente principal es la entrada de aire fresco, concéntrese en la sección de aire fresco; Si la fuente principal es la liberación interna del equipo, se debe considerar la filtración por circulación o la protección de los extremos del equipo. Para diferencias específicas, consulte ¿Por qué MAU necesita configurar la sección de filtro químico y Discusión sobre qué contaminación localizada se puede tratar con FFU más filtro químico .

Las capacidades de detección deben coincidir. El nivel de concentración preocupante en el área de fotolitografía puede ser menor y el límite de detección del método de detección debe cumplir con los requisitos. Para más detalles, consulte Discusión sobre por qué los informes de rendimiento de los filtros químicos enumeran gases objetivo específicos .

Esquema de filtración y coordinación del sistema.

Después de identificar los contaminantes clave, se puede configurar la sección de filtración química correspondiente.

Tratamiento de sección de aire fresco. Cuando la entrada externa sea la fuente principal, instale una sección de filtración química en la unidad de aire fresco. El tipo de medio filtrante se selecciona en función de los contaminantes detectados. Para una configuración específica, consulte Descripción del filtro químico MAU Box .

Filtrado de circulación. Cuando las emisiones internas o las entradas externas se acumulan en el área limpia, se puede instalar una sección de filtración química en la ruta de circulación de aire de retorno o FFU. Para más detalles, consulte Instrucciones para filtros químicos proporcionados con FFU .

Protección del lado del dispositivo. Los interiores de los equipos litográficos son sensibles al AMC y pueden requerir filtración química localizada independiente. Para aplicaciones del lado del dispositivo, consulte Discusión sobre por qué EFU necesita filtros químicos de apoyo .

Es necesario tener en cuenta la resistencia del sistema. Agregar una sección de filtración química aumentará la resistencia total del sistema. Es necesario verificar el margen del ventilador para confirmar que el volumen de suministro de aire cumple con los requisitos. Para métodos específicos, consulte Discusión sobre cuánto aumentará la resistencia adicional del filtro químico el consumo de electricidad del ventilador .

Múltiples contaminantes pueden requerir configuraciones combinadas. Si hay gas alcalino y vapor orgánico presentes al mismo tiempo, es posible que sea necesario colocar capas de medios diferentes o se pueden usar materiales filtrantes compuestos. Para diferencias específicas, consulte La sala limpia está contaminada por gas ácido y disolvente al mismo tiempo. Discusión sobre cómo combinar soluciones de filtración .

Seguimiento en ejecución

El efecto de los filtros químicos en el área de la fotolitografía requiere un seguimiento a largo plazo.

Las tendencias de concentración de los puntos de venta son más importantes que las lecturas únicas. La eficiencia del material filtrante nuevo suele ser alta cuando se coloca por primera vez. A medida que aumenta el tiempo de funcionamiento, la concentración de salida puede aumentar. Revise la salida con regularidad y determine el momento de reemplazo según el tiempo de funcionamiento y la carga de entrada. Para una evaluación de vida específica, consulte Discusión sobre cuánto duran los filtros químicos .

No se puede juzgar simplemente presionando la diferencia. Es posible que la resistencia de un filtro químico no cambie mucho a lo largo de su vida útil, pero es posible que la capacidad de manejo de gas haya disminuido. Una diferencia de presión normal no significa que la salida esté a la altura del estándar. Para diferencias específicas, consulte Discusión sobre si el filtro químico se puede reemplazar en función de la diferencia de presión .

Registre las condiciones de funcionamiento y el historial de reemplazo. Se deben registrar la concentración de entrada, el volumen de aire, el tiempo de funcionamiento y los motivos del reemplazo. Si el efecto cambia más adelante, puede ayudar a determinar si se trata de consumo de medios, problemas iniciales o cambios en las condiciones laborales.

Ejemplo de juicio de proyecto

Después de que el equipo estuvo funcionando durante un período de tiempo en una determinada área de fotolitografía, se descubrió que la resolución de algunos lotes de gráficos fluctuaba.

Se comprobó que el control de partículas era normal y no hubo cambios significativos en los parámetros del equipo ni del proceso. Pruebas adicionales de los componentes del aire revelaron que la concentración de amoníaco cerca del equipo de litografía era relativamente alta y la fuente estaba relacionada con el proceso de limpieza circundante y la entrada de aire fresco externo.

Dirección de ajuste: agregue una sección de filtración química para gases alcalinos en la sección de aire fresco y configure una filtración auxiliar en la ruta de aire de retorno del equipo de litografía. Antes de configurar la sección de filtro, se volvieron a verificar la concentración de amoníaco, el volumen de aire y las condiciones de temperatura y humedad. Después del ajuste, la concentración de amoníaco disminuyó y se redujeron las fluctuaciones en la resolución de los gráficos.

Este caso ilustra que los contaminantes clave del filtro químico en el área de fotolitografía deben determinarse en función de los objetos sensibles al proceso y los datos de detección. involucrando Al seleccionar una serie de productos de filtros químicos , se recomienda proporcionar los requisitos del equipo, los datos de prueba y las condiciones del sistema al proveedor para su verificación.

Puntos clave para la inspección de selección y aceptación.

Acerca del paquete de filtración química de Aili Industrial para el área de fotolitografía

El núcleo de la configuración de filtros químicos en el área de fotolitografía es hacer coincidir los objetos sensibles del equipo, las fuentes de contaminantes y las condiciones del sistema.

Aili Industrial tiene capacidades de fabricación independientes en filtros, motores, ventiladores, sistemas de control y procesamiento de chapa metálica, y puede proporcionar series de productos de filtros químicos y equipos de suministro de aire de soporte. Para proyectos de área de fotolitografía, se pueden combinar las especificaciones del equipo, los gases objetivo, los rangos de concentración, los volúmenes de aire y los espacios de instalación para ayudar a verificar el tipo de material del filtro y la configuración estructural. Cuando el filtro se combina con MAU, FFU, EFU y otros equipos, la resistencia, la interfaz y los métodos de mantenimiento se pueden confirmar de manera uniforme.

Productos relacionados:Serie de productos de filtros químicos.、Filtro químico de caja MAU、FFU viene con filtro químico . Proporcionar una lista de los contaminantes objetivo, los rangos de concentración y las condiciones del sistema al solicitar una cotización puede ayudar a confirmar la solución de filtración adecuada. La selección específica está sujeta a los documentos técnicos y a los resultados de las pruebas confirmados por el proyecto.