Số lượt xem: 3075 Tác giả: Aili Industry Thời gian phát hành: 2026-10-06 Nguồn: Công nghiệp Ái Lý
Độ nhạy của quá trình quang khắc với môi trường tương đối nổi bật trong sản xuất chất bán dẫn. Việc kiểm soát hạt thường chặt chẽ nhưng ô nhiễm phân tử không khí (AMC) cũng có thể ảnh hưởng đến độ phơi sáng và chất lượng hình ảnh.
AMC cần được chú ý trong lĩnh vực in thạch bản không chỉ là một loại “khí” thông thường. Các thành phần khác nhau ảnh hưởng đến quá trình quang khắc theo những cách khác nhau và có các mục tiêu kiểm soát khác nhau. Khi chọn, trước tiên bạn phải xác nhận các chất gây ô nhiễm chính là gì, sau đó chọn phương tiện lọc hóa học tương ứng. Hãy tham khảo cách phân loại cụ thể Thảo luận về ô nhiễm AMC trong không khí đề cập đến điều gì .
Điểm khởi đầu cho việc cấu hình các bộ lọc hóa học trong lĩnh vực in thạch bản là các yêu cầu cụ thể của thiết bị và quy trình in thạch bản.
Các đối tượng nhạy cảm của các hệ thống xử lý khác nhau có thể khác nhau. Quang khắc tia cực tím sâu (DUV), quang khắc cực tím (EUV) và quang khắc chùm tia điện tử có độ nhạy khác nhau đối với AMC và các thành phần cần quan tâm. Dự án nên sử dụng thông số kỹ thuật của thiết bị tương ứng và dữ liệu kiểm tra tại chỗ và không được sao chép cấu hình của các dây chuyền sản xuất khác.
Mục tiêu khử mùi không khí thông thường không thể thay thế việc bảo vệ quy trình nồng độ thấp. Các mức nồng độ cần quan tâm trong khu vực quang khắc thường thấp hơn nhiều so với ngưỡng khứu giác của con người và cần phải sử dụng các phương pháp phát hiện cũng như sơ đồ lọc phù hợp với nồng độ mục tiêu. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về lý do tại sao nên chọn bộ lọc hóa học theo loại khí mục tiêu .
Chất quang dẫn và vật liệu phủ cũng được phát hành. Chất cản quang, lớp phủ chống phản chiếu, chất pha loãng và chất tráng màu có thể giải phóng hơi hữu cơ trong quá trình sử dụng. Phần nguồn phát thải này nằm bên trong thiết bị hoặc gần trạm phủ và cần được đánh giá cùng với đường dẫn khí.
Theo các đối tượng nhạy cảm phổ biến trong quá trình quang khắc, các loại chất gây ô nhiễm sau đây đáng được quan tâm đặc biệt.
khí kiềm. Các thành phần kiềm như amoniac và amin là một trong những AMC phổ biến nhất trong lĩnh vực quang khắc. Một lượng nhỏ chất kiềm có thể vô hiệu hóa axit quang trong chất quang dẫn, ảnh hưởng đến độ phân giải của mẫu sau khi tiếp xúc. Tính chất phân tử của amoniac và các amin khác nhau là khác nhau và tính phù hợp của môi trường cần phải được kiểm tra riêng. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Cách chọn bộ lọc hóa học và bộ lọc ô nhiễm khí amin Thảo luận về việc liệu các bộ lọc hóa học có thể loại bỏ amoniac khỏi không khí hay không .
Khí axit. Các thành phần có tính axit như sulfur dioxide, hydro clorua và oxit nitơ có thể ăn mòn hoặc làm nhiễm bẩn các thành phần quang học, chất quang dẫn hoặc bề mặt tấm bán dẫn của thiết bị. Khí thải công nghiệp bên ngoài, quy trình hoặc chất tẩy rửa có thể được đưa vào. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về các điều kiện sử dụng lọc khí hydro clorua cần được chú ý .
Hơi hữu cơ. Các thành phần hữu cơ như chất dễ bay hơi dung môi, chất làm dẻo và siloxan có thể lắng đọng trên bề mặt thấu kính quang học hoặc tấm bán dẫn để tạo thành màng mỏng, ảnh hưởng đến độ truyền ánh sáng hoặc các quá trình tiếp theo. Chất cản quang, chất tẩy rửa và chất trợ dung được sử dụng trong lĩnh vực quang khắc là những nguồn phổ biến. Để biết phương pháp lựa chọn cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về cách chọn bộ lọc hóa học không khí cho ô nhiễm toluene .
Dopant. Các hợp chất của chất pha tạp như boron và phốt pho có thể tồn tại với lượng nhỏ trong không khí ở khu vực quang khắc, ảnh hưởng đến tính chất điện của thiết bị. Những thành phần như vậy thường yêu cầu các phương pháp phát hiện và phương tiện lọc chuyên dụng.
Liệt kê các loại chất gây ô nhiễm này một cách riêng biệt, sau đó xác định mức độ ưu tiên dựa trên khu vực xử lý và dữ liệu phát hiện. Không phải mọi khu vực in thạch bản đều cần kiểm soát đồng thời tất cả các danh mục.
Cấu hình của bộ lọc hóa học trong khu vực quang khắc không thể chỉ dựa trên kinh nghiệm và áp dụng danh sách.
Kiểm tra đầu tiên. Lấy mẫu trong khu vực quang khắc và cửa hút gió tươi của nó để phát hiện các thành phần mục tiêu như kiềm, axit, chất hữu cơ và chất tạp chất. Các điểm lấy mẫu phải bao phủ vùng lân cận của thiết bị chính, khu vực không khí hồi lưu và cửa hút gió tươi. Để biết các phương pháp cụ thể, vui lòng tham khảo xem có nên lấy mẫu không khí trước khi chọn bộ lọc hóa học hay không . Thảo luận
Kiểm tra thông số kỹ thuật của thiết bị. Các nhà sản xuất thiết bị in thạch bản thường cung cấp các thành phần nhạy cảm và yêu cầu về nồng độ cho AMC. Tài liệu dự án sẽ chuyển những yêu cầu này thành đầu vào cho việc lựa chọn bộ lọc hóa học.
Phân biệt giữa đầu vào bên ngoài và phát hành nội bộ. Nếu nguồn chính là không khí trong lành đưa vào thì tập trung vào phần không khí trong lành; nếu nguồn chính là phát thải bên trong thiết bị thì cần phải xem xét việc lọc tuần hoàn hoặc bảo vệ đầu cuối thiết bị. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Tại sao MAU cần cấu hình phần lọc hóa chất và Thảo luận về những gì FFU ô nhiễm cục bộ cộng với bộ lọc hóa học có thể xử lý .
Khả năng phát hiện phải phù hợp. Mức độ tập trung quan tâm trong khu vực quang khắc có thể thấp hơn và giới hạn phát hiện của phương pháp phát hiện phải đáp ứng yêu cầu. Để biết chi tiết, vui lòng tham khảo Thảo luận lý do tại sao báo cáo hiệu suất bộ lọc hóa học liệt kê các loại khí mục tiêu cụ thể .
Sau khi xác định được các chất gây ô nhiễm chính, phần lọc hóa học tương ứng có thể được cấu hình.
Xử lý phần không khí trong lành. Khi đầu vào bên ngoài là nguồn chính, hãy thiết lập bộ phận lọc hóa học trong bộ phận không khí trong lành. Loại phương tiện lọc được chọn dựa trên các chất gây ô nhiễm được phát hiện. Cấu hình cụ thể vui lòng tham khảo Mô tả về Bộ lọc hóa học hộp MAU .
Lọc tuần hoàn. Khi chất thải bên trong hoặc đầu vào bên ngoài tích tụ trong khu vực sạch, bộ phận lọc hóa học có thể được thiết lập trên đường tuần hoàn không khí hồi lưu hoặc FFU. Để biết chi tiết, vui lòng tham khảo Hướng dẫn về bộ lọc hóa học được cung cấp kèm theo FFU .
Bảo vệ phía thiết bị. Nội thất của thiết bị in thạch bản rất nhạy cảm với AMC và có thể yêu cầu lọc hóa học cục bộ độc lập. Đối với các ứng dụng phía thiết bị, vui lòng tham khảo Thảo luận về lý do tại sao EFU cần hỗ trợ các bộ lọc hóa học .
Sức đề kháng của hệ thống cần phải được tính đến. Việc bổ sung thêm bộ phận lọc hóa học sẽ làm tăng tổng trở kháng của hệ thống. Cần kiểm tra biên độ quạt để xác nhận lượng không khí cấp vào có đáp ứng yêu cầu hay không. Để biết các phương pháp cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về việc điện trở tăng thêm của bộ lọc hóa học sẽ làm tăng mức tiêu thụ điện của quạt đến mức nào .
Nhiều chất gây ô nhiễm có thể yêu cầu cấu hình kết hợp. Nếu khí kiềm và hơi hữu cơ xuất hiện cùng lúc thì có thể cần phải sử dụng các vật liệu lọc khác nhau hoặc có thể sử dụng vật liệu lọc tổng hợp. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Phòng sạch bị ô nhiễm bởi khí axit và dung môi cùng một lúc. Thảo luận về cách kết hợp các giải pháp lọc .
Tác dụng của các bộ lọc hóa học trong khu vực quang khắc đòi hỏi phải theo dõi lâu dài.
Xu hướng tập trung đầu ra quan trọng hơn các bài đọc đơn lẻ. Hiệu suất của vật liệu lọc mới thường cao khi đưa vào lần đầu tiên. Khi thời gian chạy tăng lên, nồng độ đầu ra có thể tăng lên. Kiểm tra ổ cắm thường xuyên và xác định thời điểm thay thế dựa trên thời gian hoạt động và tải đầu vào. Để đánh giá cuộc sống cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về thời gian sử dụng của bộ lọc hóa học .
Bạn không thể đánh giá chỉ bằng cách nhấn vào sự khác biệt. Điện trở của bộ lọc hóa học có thể không thay đổi nhiều trong suốt thời gian sử dụng nhưng khả năng xử lý khí có thể giảm. Chênh lệch áp suất bình thường không có nghĩa là đầu ra đạt tiêu chuẩn. Để biết sự khác biệt cụ thể, vui lòng tham khảo Thảo luận về việc có thể thay thế bộ lọc hóa học dựa trên chênh lệch áp suất hay không .
Ghi lại điều kiện hoạt động và lịch sử thay thế. Cần ghi lại nồng độ đầu vào, thể tích không khí, thời gian vận hành và lý do thay thế. Nếu hiệu ứng thay đổi sau đó, nó có thể giúp xác định xem đó là do mức tiêu thụ phương tiện, sự cố giao diện người dùng hay thay đổi trong điều kiện làm việc.
Sau khi thiết bị chạy một thời gian ở một khu vực quang khắc nhất định, người ta nhận thấy độ phân giải của một số lô đồ họa có dao động.
Việc kiểm soát hạt được kiểm tra là bình thường và không có thay đổi đáng kể nào về các thông số thiết bị và quy trình. Thử nghiệm sâu hơn về các thành phần không khí cho thấy nồng độ amoniac gần thiết bị in thạch bản tương đối cao và nguồn này có liên quan đến quá trình làm sạch xung quanh và lượng không khí trong lành bên ngoài đưa vào.
Hướng điều chỉnh: Thêm bộ phận lọc hóa học cho khí kiềm trong bộ phận không khí trong lành và thiết lập bộ lọc phụ trên đường dẫn khí hồi lưu của thiết bị in thạch bản. Trước khi định cấu hình phần bộ lọc, nồng độ amoniac, thể tích không khí cũng như các điều kiện nhiệt độ và độ ẩm đã được kiểm tra lại. Sau khi điều chỉnh, nồng độ amoniac giảm và độ dao động của độ phân giải đồ họa cũng giảm.
Trường hợp này minh họa rằng các chất gây ô nhiễm chính của bộ lọc hóa học trong khu vực quang khắc cần phải được xác định dựa trên các đối tượng nhạy cảm trong quá trình và dữ liệu phát hiện. liên quan đến Khi lựa chọn dòng sản phẩm lọc hóa học , nên cung cấp các yêu cầu về thiết bị, dữ liệu thử nghiệm và điều kiện hệ thống cho nhà cung cấp để xác minh.
Kiểm tra các mục |
Xác nhận những điểm chính |
|---|---|
Thông số kỹ thuật của thiết bị |
Làm rõ các mục tiêu về nồng độ và chất gây ô nhiễm nhạy cảm |
Phạm vi nguồn |
Kiểm tra không khí trong lành và phát hành bên trong thiết bị |
Khả năng phát hiện |
Kiểm tra xem giới hạn phát hiện có khớp với phương pháp không |
Vị trí cấu hình |
Tương ứng với các đường truyền bá chính, xác minh từng mục |
Cốt lõi của cấu hình của các bộ lọc hóa học trong khu vực quang khắc là phù hợp với các đối tượng nhạy cảm của thiết bị, nguồn gây ô nhiễm và điều kiện hệ thống.
Aili Industrial có khả năng sản xuất độc lập về bộ lọc, động cơ, quạt, hệ thống điều khiển và gia công kim loại tấm, đồng thời có thể cung cấp loạt sản phẩm lọc hóa học và thiết bị cung cấp không khí hỗ trợ. Đối với các dự án khu vực quang khắc, thông số kỹ thuật của thiết bị, khí mục tiêu, phạm vi nồng độ, thể tích không khí và không gian lắp đặt có thể được kết hợp để hỗ trợ kiểm tra loại vật liệu lọc và cấu hình cấu trúc. Khi bộ lọc được kết hợp với MAU, FFU, EFU và các thiết bị khác, các phương pháp điện trở, giao diện và bảo trì có thể được xác nhận thống nhất.
Sản phẩm liên quan:Dòng sản phẩm lọc hóa chất、Bộ lọc hóa học hộp MAU、FFU đi kèm với bộ lọc hóa học . Việc cung cấp danh sách các chất gây ô nhiễm mục tiêu, phạm vi nồng độ và điều kiện hệ thống khi yêu cầu báo giá có thể giúp xác nhận giải pháp lọc phù hợp. Việc lựa chọn cụ thể phải tuân theo các tài liệu kỹ thuật và kết quả thử nghiệm được dự án xác nhận.