كيفية التعاون مع الترشيح الكيميائي وترشيح الجسيمات في ورشة عمل شاشات الكريستال السائل؟

إنتاج شاشات الكريستال السائل - بما في ذلك مصفوفة TFT وتشكيل الصناديق والوحدات والعمليات الأخرى - تركز متطلبات البيئة النظيفة بشكل أساسي على التحكم في الجسيمات. عادة ما تكون ورش العمل مجهزة بأقسام ترشيح ذات كفاءة أولية، ومتوسطة، وعالية الكفاءة، وبعضها يحتوي على وحدات FFU في جميع أنحاء السقف. يتم التحكم في مؤشر الجسيمات بشكل عام بشكل مستقر نسبيًا.

ولكن إذا كنت تتحكم فقط في الجزيئات، فستظل بعض المشاكل قائمة. على سبيل المثال، تستخدم بعض العمليات المذيبات العضوية، ومقاومات الضوء، وعوامل التنظيف. وتتبخر هذه المواد في الهواء لتشكل تلوثًا غازيًا لا يمكن إيقافه بواسطة مرشحات الجسيمات. وبمرور الوقت، قد يتراكم في المكونات البصرية للمعدات، أو أسطح المنتجات، أو قنوات التهوية. ولذلك، فإن نظام الترشيح في ورشة LCD يحتاج إلى النظر في التحكم في الجسيمات والتحكم في التلوث الغازي بشكل منفصل، ومن ثم تنسيقهما في النظام. للحصول على تقسيم محدد لمنطق العمل، يرجى الرجوع إلى مناقشة الفرق بين المرشحات الكيميائية ومرشحات HEPA .

تحديد الأحمال حسب العملية

تختلف كائنات التلوث الناتجة عن العمليات المختلفة في ورشة عمل شاشات الكريستال السائل، ويجب النظر إلى طرق التنسيق بشكل منفصل.

عملية المصفوفة. يتضمن الطباعة الحجرية الضوئية والحفر وترسب الأفلام وخطوات أخرى. قد يؤدي الغاز المقاوم للضوء والمطور والحفر إلى إطلاق أبخرة عضوية أو مكونات حمضية. متطلبات التحكم بالجسيمات مرتفعة، والتلوث الغازي يحتاج أيضًا إلى الاهتمام.

عملية الملاكمة . تقطير الكريستال السائل، غراء ختم الإطار، ضغط المحاذاة وغيرها من العمليات. قد تطلق المواد اللاصقة والمواد البلورية السائلة كميات ضئيلة من المواد العضوية. هذه العملية حساسة لكل من الجسيمات والغازات.

عملية الوحدة. مرفق المستقطب، وربط IC للسائق، ومجموعة الإضاءة الخلفية. عند استخدام المواد اللاصقة وعوامل التنظيف، قد يتم إطلاق المركبات العضوية المتطايرة. متطلبات التحكم بالجسيمات أقل قليلاً مما كانت عليه في عملية الصفيف، ولكن التلوث الغازي قد يؤثر على المظهر والموثوقية.

التنظيف وتخزين المواد. قد يستمر تطاير عامل التنظيف وتخزين المواد في العراء في إطلاق المكونات الغازية. يتم التغاضي بسهولة عن هذا الجزء من المصدر. لمعرفة طرق التحقيق المحددة، يرجى الرجوع إلى ما إذا كان يجب أخذ عينات من الهواء قبل اختيار مرشح كيميائي . ناقش

تحديد طبقات التصفية والمسارات

بعد تحديد كائنات التلوث، فكر في كيفية ترتيب شرائح المرشح في النظام.

من الممارسات الشائعة وضع ترشيح الجسيمات أولاً والترشيح الكيميائي أخيرًا. التأثيرات الأولية والمتوسطة تعترض الغبار أولاً وتقلل من تغطية الغبار للوسائط الكيميائية. الكفاءة الطرفية العالية أو ULPA مسؤولة عن التحكم النهائي في الجسيمات. يتم وضع قسم الترشيح الكيميائي بعد الكفاءة المتوسطة وقبل الكفاءة الطرفية، أو يتم دمجه مع الكفاءة الطرفية في FFU. للحصول على تكوين محدد، يرجى الرجوع إلى مناقشة حول تقسيم العمل بين المرشحات الكيميائية والمرشحات الأولية .

يعتمد موقع قسم الترشيح الكيميائي على مصدر التلوث. إذا كان التلوث الغازي يأتي بشكل أساسي من الهواء النقي الخارجي، فمن الأسهل إنشاء قسم ترشيح كيميائي في وحدة الهواء النقي. إذا كان الإطلاق يأتي بشكل رئيسي من العمليات الداخلية، فيمكن معالجته على الهواء الراجع أو مسار دوران FFU. لمعرفة الاختلافات المحددة، يرجى الرجوع إلى لماذا يحتاج MAU إلى تكوين قسم المرشح الكيميائي و مناقشة ما يمكن معالجة التلوث المحلي الذي يمكن لـ FFU بالإضافة إلى المرشح الكيميائي معالجته .

التسلسل غير ثابت ويجب تأكيده على أساس فقدان المسحوق المتوسط ​​وإطلاق الغاز وهيكل الصيانة. قد تنتج بعض الوسائط الكيميائية كميات ضئيلة من الغبار. إذا تم وضعه خلف المحطة ذات الكفاءة العالية، فإن هذا الجزء من الغبار سوف يدخل مباشرة إلى ورشة العمل. ضعها قبل الكفاءة، يمكن للكفاءة أن تلعب دورًا اعتراضيًا. لمعرفة الاختلافات المحددة، يرجى الرجوع إلى مناقشة حول ما إذا كان يجب وضع المرشح الكيميائي FFU قبل أو بعد HEPA .

ينبغي حساب توزيع حجم الهواء والمقاومة معًا. ستؤدي إضافة قسم الترشيح الكيميائي إلى زيادة المقاومة الإجمالية للنظام. ما إذا كانت المروحة الأصلية يمكنها الحفاظ على حجم الهواء المستهدف يجب أن يتم حسابه بناءً على نقطة العمل الفعلية. للحصول على طرق محددة، يرجى الرجوع إلى مناقشة مدى تأثير المقاومة المضافة للمرشح الكيميائي على زيادة استهلاك المروحة للكهرباء .

قم بتعيين طرق القبول بشكل منفصل

الجسيمات والغاز نوعان من المؤشرات، ويجب أن يتم القبول بشكل منفصل.

قبول جانب الجسيمات. تقوم المحطة الطرفية ذات الكفاءة العالية أو ULPA بإجراء تأكيد الكفاءة وفحص ختم التثبيت والكشف عن التسرب في الموقع وفقًا للمستوى المقابل. يتم تنفيذ طرق الكشف ومعايير الحكم وفقًا لمتطلبات مرشحات الجسيمات. يمكن الرجوع إليها وصف فلتر HEPA عالي الكفاءة .

قبول جانب الغاز. يقوم قسم الترشيح الكيميائي بإجراء اختبارات تركيز المدخل والمخرج بناءً على المكونات المستهدفة للتأكد من تأثير الإزالة. يجب أن تكون نقاط أخذ العينات ممثلة للهواء قبل وبعد قسم الترشيح، ويجب أن تكون طريقة الكشف مناسبة للغاز المستهدف. للحصول على طرق محددة، يرجى الرجوع إلى مناقشة نقاط أخذ العينات للتحقق من أداء المرشح الكيميائي .

أساس الصيانة مختلف. يعتمد استبدال مرشح الجسيمات على فرق الضغط ونتائج اكتشاف التسرب؛ يعتمد استبدال قسم الفلتر الكيميائي على استهلاك قدرة معالجة الغاز، وقد لا يكون هناك تغيير واضح في فرق الضغط. تختلف إيقاعات الصيانة بين الاثنين، ويجب تسجيل الدفاتر بشكل منفصل. لمعرفة الاختلافات المحددة، يرجى الرجوع إلى مناقشة ما إذا كان من الممكن استبدال الفلتر الكيميائي بناءً على فرق الضغط .

لا يمكنك استخدام بيانات الجسيمات فقط لتقييم تأثيرات الغاز، ولا يمكنك فقط قياس الغاز وتجاهل الجسيمات. تتم أرشفة نوعي المؤشرات بشكل منفصل، بحيث يمكن تحديد المشاكل بسرعة.

انتبه إلى التأثيرات المتقاطعة بين العمليات

هناك العديد من العمليات في ورشة شاشات الكريستال السائل وتنظيم تدفق الهواء معقد. يجب أن يأخذ تكوين التصفية في الاعتبار التفاعل بين العمليات.

قد يتسبب الهواء الراجع المشترك في حدوث تلوث تبادلي. إذا كانت العمليات المختلفة تشترك في نظام الهواء الراجع، فإن المكونات الغازية المنبعثة من إحدى العمليات قد تدخل عملية أخرى من خلال الهواء الراجع. في هذا الوقت، من الضروري التحقق من العلاقة بين قسم الهواء الراجع وفرق الضغط، وإضافة قسم الترشيح الكيميائي إلى مسار الهواء الراجع إذا لزم الأمر. لمزيد من التفاصيل، يرجى الرجوع إلى مناقشة حول كيفية تفاعل الروائح في مباني المصانع متعددة الطوابق مع بعضها البعض وكيفية تقسيم الترشيح الكيميائي .

إعادة التقييم بعد تعديلات العملية. إذا تم تغيير عامل التنظيف أو مقاوم الضوء أو المادة اللاصقة في عملية معينة، فقد تتغير المكونات التي تم إصدارها. يجب إعادة فحص ما إذا كان قسم الترشيح الكيميائي الأصلي لا يزال مناسبًا. للحصول على طرق محددة، يرجى الرجوع إلى مناقشة لماذا يجب اختيار المرشحات الكيميائية وفقا للغازات المستهدفة .

يمكن حماية جانب الجهاز بشكل فردي. بالنسبة للمعدات أو محطات العمل الحساسة بشكل خاص للتلوث الغازي، يمكن تركيب مرشح كيميائي محلي على مسار مدخل الهواء للمعدات. بالنسبة للتطبيقات على جانب الجهاز، يرجى الرجوع إلى مناقشة حول سبب حاجة EFU إلى المرشحات الكيميائية الداعمة .

مثال حكم المشروع

بعد تشغيل ورشة عمل وحدة LCD معينة لفترة من الوقت، ظهرت آثار ضبابية غير معروفة على سطح بعض المنتجات، ولكن اكتشاف الجسيمات كان طبيعيًا.

وأكد التحقيق أنه تم استخدام نوع من المواد اللاصقة في الورشة، مما أدى إلى إطلاق كميات ضئيلة من البخار العضوي أثناء عملية المعالجة وترسب على سطح المستقطب لتكوين آثار ضبابية. لا تتمتع أنظمة ترشيح الجسيمات بالقدرة على التعامل مع هذا النوع من الغاز.

اتجاه التعديل: أضف قسم ترشيح كيميائي للبخار العضوي على مسار الهواء الراجع لعملية الوحدة، وقم بتعزيز العادم المحلي عند نقطة استخدام المادة اللاصقة. تم فحص تركيز البخار العضوي وحجم الهواء وظروف درجة الحرارة والرطوبة قبل تكوين قسم المرشح. وبعد التعديل تم تقليل الآثار الضبابية على السطح ولم يتأثر مؤشر الجسيمات.

توضح هذه الحالة: يجب تقسيم الترشيح الكيميائي وترشيح الجسيمات في ورشة عمل شاشات الكريستال السائل وفقًا لكائنات التلوث ولا يمكن أن يحل كل منهما محل الآخر. تنطوي عند اختيار سلسلة منتجات المرشحات الكيميائية ، يوصى بتقديم بيانات التلوث والأشياء الحساسة وظروف النظام لكل عملية إلى المورد للتحقق منها.

النقاط الرئيسية لفحص الاختيار والقبول

حول حزمة ترشيح ورشة عمل LCD الخاصة بشركة Aili Industrial

للتحكم في الجسيمات والتحكم في التلوث الغازي في ورشة عمل شاشات الكريستال السائل، يجب تأكيد هذين النوعين من المتطلبات بشكل منفصل في مرحلة التخطيط، ومن ثم فحصهما بشكل موحد على مستوى النظام.

تتمتع Aili Industrial بقدرات تصنيع مستقلة في مجال المرشحات والمحركات والمراوح وأنظمة التحكم ومعالجة الصفائح المعدنية، ويمكنها توفير مرشح HEPA/ULPA وسلسلة منتجات المرشحات الكيميائية. بالنسبة للمشاريع التي تتضمن التحكم في الجسيمات والغاز، يمكن دمج بيانات التلوث وأشياء الحماية وحجم الهواء ومساحة التثبيت لكل عملية للمساعدة في التحقق من تكوين وتقسيم العمل في قسم المرشح. عندما يتم مطابقة المرشح مع MAU، FFU، EFU وغيرها من المعدات، يمكن تأكيد المقاومة والواجهة وطرق الصيانة بشكل موحد.

المنتجات ذات الصلة:سلسلة منتجات الفلتر الكيميائي、مرشح HEPA عالي الكفاءة、يأتي FFU مع مرشح كيميائي . يتم توفير قائمة منفصلة لأهداف التحكم في الجسيمات وأهداف الغاز أثناء الاستفسار للمساعدة في تأكيد الحل المركب المناسب. يخضع التكوين المحدد للوثائق الفنية ونتائج الاختبار التي يؤكدها المشروع.