LCDワークショップで化学濾過と粒子濾過をどのように連携させますか?

TFT アレイ、ボックス形成、モジュール、その他のプロセスを含む LCD 生産では、クリーン環境の要件は主に粒子制御に重点が置かれています。作業場には通常、一次効率、中効率、高効率のろ過セクションが備えられており、天井全体に FFU が設置されている場合もあります。粒子指数は一般に比較的安定して制御されます。

しかし、粒子を制御するだけでは、依然としていくつかの問題が発生します。 たとえば、一部のプロセスでは有機溶剤、フォトレジスト、洗浄剤が使用されます。これらの物質は空気中に蒸発してガス状汚染を形成し、粒子フィルターでは阻止できません。時間の経過とともに、機器の光学部品、製品の表面、または換気ダクトに蓄積する可能性があります。したがって、LCD ワークショップの濾過システムでは、粒子制御とガス汚染制御を別々に考慮し、システム内でそれらを調整する必要があります。具体的な分業ロジックについては、以下を参照してください。 ケミカルフィルターとHEPAフィルターの違いについての説明 。

プロセスごとに負荷を特定する

LCDワークショップのさまざまなプロセスによって生成される汚染対象は異なるため、調整方法は個別に検討する必要があります。

配列プロセス。 フォトリソグラフィー、エッチング、成膜などの工程が含まれます。フォトレジスト、現像液、およびエッチングガスは、有機蒸気または酸性成分を放出する可能性があります。粒子管理の要件は高く、ガス汚染にも注意が必要です。

ボクシングのプロセス。 液晶滴下、フレームシール接着、位置合わせ、貼り合わせ等の作業。接着剤や液晶材料から微量の有機物が放出される場合があります。このプロセスは粒子とガスの両方に敏感です。

モジュールプロセス。 偏光板の取り付け、ドライバーICの結合、バックライトのアセンブリ。接着剤や洗浄剤を使用すると、VOC が発生する可能性があります。粒子制御要件はアレイプロセスよりもわずかに低くなりますが、ガス状の汚染が外観と信頼性に影響を与える可能性があります。

掃除と材料の保管。 洗浄剤の揮発や屋外での保管により、ガス状成分が放出され続ける可能性があります。ソースのこの部分は見落とされがちです。具体的な調査方法については、こちらをご参照ください。 ケミカルフィルターを選択する前に、空気サンプリングを行うかどうか について話し合ってください。

フィルターレイヤーとパスを決定する

汚染対象物を特定したら、システム内のフィルターセクションをどのように配置するかを検討します。

粒子濾過を最初に行い、化学濾過を最後に置くのが一般的です。 初期効果と中程度の効果は、粉塵を最初に捕らえ、化学媒体の粉塵被覆率を減らします。最終的な粒子制御はターミナル高効率または ULPA が担当します。化学濾過セクションは、FFU の中間効率の後、最終効率の前に配置されるか、最終効率と統合されます。具体的な構成については、を参照してください。 ケミカルフィルターと一次フィルターの分業についての議論 。

化学濾過セクションの位置は汚染源によって異なります。 ガス状汚染が主に外部の新鮮な空気から発生する場合は、新鮮な空気ユニットに化学濾過セクションを設置する方が簡単です。放出物が主に屋内プロセスから発生する場合は、戻り空気または FFU 循環経路で処理できます。具体的な違いについては、を参照してください。 MAU はなぜケミカルフィルターセクション と FFU とケミカルフィルターを組み合わせた局所的な汚染にどのような対処ができるかについての議論 。

順序は固定されておらず、媒体粉末の損失、ガス放出、およびメンテナンス構造に基づいて確認する必要があります。 化学媒体によっては、微量の粉塵が発生する場合があります。高効率端末の後ろに設置すると、この部分の粉塵が作業場に直接侵入します。効率性よりも優先してください。効率性は妨害的な役割を果たす可能性があります。具体的な違いについては、を参照してください。 FFUケミカルフィルターをHEPAの前に置くべきか後ろに置くべきかについての議論 。

風量分布と抵抗を合わせて計算する必要があります。 化学濾過セクションを追加すると、システム全体の抵抗が増加します。純正ファンが目標風量を維持できるかどうかは、実際の動作点に基づいて計算する必要があります。具体的な方法については、こちらをご参照ください ケミカルフィルターの追加抵抗によりファンの消費電力がどの程度増加するかについての議論 。

受付方法を別途設定する

粒子とガスは 2 種類のインジケーターであり、受け入れは別々に行う必要があります。

粒子側の受け入れ。 ターミナル高効率または ULPA は、対応するレベルに応じて効率確認、取り付けシール検査、および現場での漏れ検出を実行します。検出方法や判定基準は粒子フィルターの要件に応じて実施されます。参照可能 HEPA高効率フィルターの説明 。

ガス側の受け入れ。 化学ろ過部では対象成分に応じて入口と出口の濃度試験を実施し、除去効果を確認します。サンプリングポイントはろ過セクションの前後の空気を代表するものでなければならず、検出方法は対象ガスに適したものでなければなりません。具体的な方法については、こちらをご参照ください ケミカルフィルターの性能検証のためのサンプリングポイントについての議論 。

保守基盤が異なります。 粒子フィルターの交換は、圧力差と漏れ検出結果によって異なります。ケミカルフィルター部の交換はガス処理能力の消費量に依存し、明らかな差圧変化が無い場合もあります。両者のメンテナンスリズムは異なるため、台帳を別々に記録する必要があります。具体的な違いについては、を参照してください。 圧力差によりケミカルフィルタの交換可否を検討 。

粒子データのみを使用してガスの効果を評価することはできません。また、ガスのみを測定して粒子を無視することもできません。 2 種類のインジケーターは個別にアーカイブされるため、問題をすぐに特定できます。

プロセス間の影響に注意する

LCD の作業場には多くの工程があり、空気の流れの構成は複雑です。フィルタリング構成では、プロセス間の相互作用を考慮する必要があります。

戻り空気を共有すると、相互汚染が発生する可能性があります。 異なるプロセスが戻り空気システムを共有する場合、あるプロセスから放出されたガス成分が戻り空気を通って別のプロセスに入る可能性があります。このとき、戻り空気隔壁と差圧との関係を確認し、必要に応じて戻り空気経路に化学濾過部を追加する必要があります。詳細については、を参照してください。 高層工場建物内の臭気がどのように相互作用するか、化学濾過をどのように分割すべきかについての議論 。

プロセス調整後に再評価します。 工程によっては洗浄剤、フォトレジスト、接着剤を変更すると放出成分が変化する場合があります。元の化学濾過セクションが引き続き適切であるかどうかを再確認する必要があります。具体的な方法については、こちらをご参照ください 対象ガスに応じてケミカルフィルターを選ぶ理由を解説 。

デバイス側を個別に保護できます。 ガス汚染に特に敏感な機器やワークステーションの場合は、機器の吸気経路に局所的な化学濾過を設置できます。デバイス側のアプリケーションについては、以下を参照してください。 EFU にケミカルフィルターのサポートが必要な理由についてのディスカッション 。

プロジェクトの判断例

ある LCD モジュールのワークショップで一定期間稼働させた後、一部の製品の表面に不明な曇りの跡が現れましたが、粒子の検出は正常でした。

調査の結果、作業場ではある種の接着剤が使用されており、硬化過程で微量の有機蒸気が放出され、偏光子の表面に堆積して曇った痕跡が形成されたことが確認された。粒子濾過システムにはこの種のガスを処理する能力がありません。

調整方向：モジュール工程の戻り空気経路に有機蒸気の化学ろ過部を追加し、接着剤使用箇所の局所排気を強化します。フィルター部を構成する前に、有機蒸気濃度、風量、温湿度条件を確認しました。調整後、表面の曇った痕跡は減少し、粒子指数は影響を受けませんでした。

この事例は次のことを示しています。LCD ワークショップにおける化学ろ過と粒子ろ過は、汚染対象に応じて分割する必要があり、相互に置き換えることはできません。 関与する ケミカルフィルター製品シリーズを選択する際には 、検証のために汚染データ、敏感な対象物、および各プロセスのシステム条件をサプライヤーに提供することをお勧めします。

選定と受入検査のポイント

Aili IndustrialのLCDワークショップ濾過パッケージについて

LCDワークショップにおけるパーティクル制御とガス汚染制御では、2種類の要件を計画段階で個別に確認し、その後システムレベルで統一して確認する必要があります。

Aili Industrial は、フィルター、モーター、ファン、制御システム、板金加工における独立した製造能力を有しており、HEPA/ULPA フィルターおよびケミカルフィルター製品シリーズを提供できます。粒子制御とガス制御の両方を伴うプロジェクトでは、各プロセスの汚染データ、保護対象、風量、設置スペースを組み合わせて、フィルターセクションの構成と分業を確認するのに役立ちます。フィルタをMAU、FFU、EFUなどの機器とマッチングさせると、抵抗値、インターフェース、メンテナンス方法などを統一して確認できます。

関連商品：ケミカルフィルター製品シリーズ、HEPA高効率フィルター、FFUにはケミカルフィルターが付属しています。適切な組み合わせソリューションを確認するために、粒子制御ターゲットとガスターゲットの別のリストが調査中に提供されます。具体的な構成は、プロジェクトによって確認された技術文書およびテスト結果の対象となります。