パネル生産工場のケミカルフィルターは工程に応じてどのように設定すればよいですか?

TFT-LCD、AMOLED、ミニ/マイクロ LED などのパネル製造には多くのプロセスが含まれ、各プロセスでは異なる材料、プロセス条件、保護対象が使用されます。作業場全体を化学フィルターを構成するための統一された環境として扱うことは、多くの場合、最も合理的なアプローチではありません。

理由は 2 つあります。第 1 に、プロセスが異なれば、生成されるガス状汚染物質も異なり、必要な媒体も異なります。第二に、プロセスが異なればガス汚染に対する感度も異なり、輸出要件が緩い場合も厳しい場合もあります。個別の識別とパーティション構成は、統合構成よりも対象を絞っています。具体的な選択ロジックについては、を参照してください。 対象ガスに応じてケミカルフィルターを選ぶ理由を解説 。

地域ごとに情報源を特定する

パネル作業場におけるガス状汚染の発生源は比較的分散しているため、プロセスエリアごとに個別に調査する必要があります。

洗浄工程。 洗浄剤には、有機溶剤、アルカリ成分、その他の揮発性化合物が含まれる場合があります。洗浄方法 (湿式、乾式、プラズマ) によって放出される成分も異なります。洗浄剤を変更すると放出される成分も変化する場合があります。

コーティングと現像のプロセス。 フォトレジスト、現像液、シンナーには有機溶剤が含まれる場合があります。これらの材料はコーティング、乾燥、現像プロセス中に揮発し、VOC の重要な発生源となります。具体的な選定方法については、こちらをご参照ください。 トルエン汚染に対するエアケミカルフィルターの選び方についての議論 。

エッチング加工。 エッチングガスには、酸性成分、フッ化物、その他の特殊なガスが含まれる場合があります。これらのコンポーネントは機器や材料に腐食のリスクをもたらすため、対象を絞った処理が必要です。具体的な違いについては、を参照してください。 化学フィルターが空気から二酸化硫黄を除去できるかどうか についての議論。

コーティング工程。 PECVD やスパッタリングなどのプロセスでは、特定のガスや副生成物が生成される場合があります。一部のコンポーネントは光学特性に影響を与えます。

材料の保管と設備の操作。 材料、機器シール、および潤滑剤を露出して保管すると、動作温度で微量の有機物が継続的に放出される可能性があります。ソースのこの部分は見落とされがちです。

プロセス名のみに基づいて選択することを避けるために、関連する材料と代表的な空気データを確認する必要があります。 具体的なサンプリング方法については、以下を参照してください。 ケミカルフィルターを選択する前に、空気サンプリングを行うかどうか について話し合ってください。

入力と内部リリースを区別する

汚染源を確認した後、それが外部からの流入なのか内部からの放出なのかを判断することも必要です。

外気は外気セクションによって制御されます。 作業場が工業地帯や交通幹線に近い場合、新鮮な空気に酸性ガス、有機物、その他の成分が含まれる可能性があります。この部分では、外気ユニットに化学濾過セクションを設置する必要があります。具体的な構成については、を参照してください。 MAU が化学濾過セクションを構成する必要がある理由についての議論 。

内部リリースには、排気源、戻り空気、または局所的な保護が必要です。 汚染がプロセス自体または装置の材料に由来する場合、外気処理だけでは不十分であり、濾過を局所的または戻り空気経路に構成する必要があります。具体的な違いについては、を参照してください。 FFU とケミカルフィルターを組み合わせた局所的な汚染にどのような対処ができるかについての議論 。

地域をまたがって展開する場合は、気圧差と還気ゾーニングも確認する必要があります。 戻り空気が異なるプロセス間で共有される場合、ある領域からの汚染が戻り空気を通って別の領域に侵入する可能性があります。このとき、汚染の拡大を避けるために、還気ゾーニングと気圧差の関係を評価する必要があります。具体的な方法については、こちらをご参照ください 高層工場建物内の臭気がどのように相互作用するか、化学濾過をどのように分割すべきかについての議論 。

地区ごとに目標を設定する

異なるプロセス領域には異なる保護対象があり、輸出要件も個別に決定する必要があります。

フォトリソグラフィーおよびコーティング領域。 アルカリ性ガスや有機蒸気に敏感な場合があります。アルカリ成分はフォトレジストの性能に影響を与える可能性があり、有機蒸気が表面に膜を形成する可能性があります。これらの領域の化学濾過セクションは、対応するコンポーネントに合わせて構成する必要があります。詳細については、を参照してください。 アミンガス汚染に対するケミカルフィルターの選択方法についてのディスカッション 。

エッチングとコーティングのエリア。 酸性ガスや特定の副生成物に敏感な場合があります。機器内部の金属部品や光学部品は腐食や汚染の影響を受ける可能性があります。

検査および試験エリア。 粒子汚染とガス状汚染の両方に対する要件がありますが、敏感な物体は検出装置自体または製品表面である可能性があります。

異なる領域のデータを比較できますが、デフォルトでは同じメンテナンス サイクルをすべてのプロセスに適用することはできません。 各ゾーンには異なる入口濃度、媒体容量、出口要件があり、交換サイクルも異なる場合があります。具体的な寿命評価については、以下を参照してください。 ケミカルフィルターの寿命についての議論 。

メンテナンス戦略は分割する必要がある

パーティショニングを構成した後、それに応じてメンテナンス戦略を調整する必要があります。

交換サイクルが異なります。 ケミカルフィルターセクションは、高負荷領域ではより頻繁に交換され、低負荷領域ではより長く交換される可能性があります。保守台帳は地域ごとに個別に記録する必要があります。

検出頻度が違います。 主要なプロセス領域では出口濃度検査の頻度が高くなる可能性があり、一般領域では適切に緩和される可能性があります。

記録して追跡します。 フィルタセクションのモデル、設置場所、交換日、および各領域のテスト結果を記録する必要があります。後で特定の領域に問題が発生した場合、すぐに場所を特定できます。関与する MAUボックスケミカルフィルター または FFUをサポートするケミカルフィルターのシステム、インターフェイス、抵抗を合わせて確認する必要があります。 計画段階で

プロジェクトの判断例

あるパネル工場では、複数のプロセスエリアに同じ活性炭フィルターを設置していました。

一定期間実行した後、一部の領域ではうまく機能することがわかりましたが、他の領域では依然として臭いが顕著でした。調査と確認：臭気が顕著な領域では主にアルカリ性ガスが放出されますが、通常の活性炭ではアルカリ性ガスの吸着能力が限られており、対象媒体が必要です。

調整計画: エリアごとに主要な汚染物質を再特定し、フォトリソグラフィおよびクリーニングエリアで有機ガス用の媒体を使用し、エッチングおよび現像エリアにアルカリガス用の化学濾過セクションを追加します。各エリアのフィルター部の風量、抵抗、交換周期を個別に確認します。調整後、各エリアの空気の質は改善されました。

このケースは次のことを示しています。パネル作業場の化学濾過はプロセスに応じて個別に構成する必要があり、万能なものではありません。 関与する ケミカルフィルター製品シリーズを選択する際には 、検証のために汚染データ、敏感な対象物、および各プロセスのシステム条件をサプライヤーに提供することをお勧めします。

選定と受入検査のポイント

Aili Industrialのパネル産業用濾過パッケージについて

パネルワークショップにおける化学濾過構成の核心は、各プロセスの汚染特性、敏感な対象物、空気経路を適合させ、パーティションごとに適合する媒体を選択することです。

Aili Industrial は、フィルター、モーター、ファン、制御システム、板金加工における独立した製造能力を備えており、ケミカルフィルター製品シリーズとサポートする空気供給装置を提供できます。パネル産業プロジェクトの場合、各プロセスの汚染データ、保護対象、風量、設置スペースを組み合わせて、ゾーニング濾過計画の確認に役立てることができます。フィルタをMAU、FFU、EFUなどの機器とマッチングさせると、抵抗値、インターフェース、メンテナンス方法などを統一して確認できます。

関連商品：ケミカルフィルター製品シリーズ、MAUボックスケミカルフィルター、FFUにはケミカルフィルターが付属しています。調査中に各プロセスの汚染情報、保護目標、システム条件を提供することは、適切なゾーニング濾過スキームを確認するのに役立ちます。具体的な選択は、プロジェクトによって確認された技術文書とテスト結果に基づいて行われます。