Nombre de vues : 7036 Auteur : Aili Industry Heure de sortie : 2027-04-16 Source : Ai Li Industriel
Les médias chimiques à faible teneur en poussière conviennent aux applications côté équipement où la libération de particules de la section de filtration est un problème, mais doivent être évalués en conjonction avec des cibles de particules spécifiques, un débit d'air et une filtration ultérieure. Un faible taux de poussière ne signifie pas qu'une filtration des particules n'est pas nécessaire et ne remplace pas non plus les contrôles d'adéquation du gaz. Lors de la sélection de l'équipement, la caractéristique de chute de poudre n'est qu'une des conditions.
L'espace final de l'équipement est généralement plus compact, le matériau filtrant se trouve souvent immédiatement en aval de la tranche, des composants optiques ou des mécanismes de précision, et la tolérance de libération de particules est inférieure à celle d'une circulation ambiante générale. Il y a des conduits d'alimentation en air et des filtres d'extrémité derrière la section de filtre au niveau de la pièce comme tampons, tandis que la section de filtre chimique côté équipement peut être située directement en amont de l'objet protégé, sans aucune possibilité supplémentaire de filtration des particules entre les deux. Dans ce cas, la tendance du milieu lui-même à perdre de la poudre, l'effet de positionnement du filet de protection et l'état d'étanchéité du cadre affecteront directement le nombre de particules en aval. La valeur du matériau filtrant à faible teneur en poussière se reflète d'abord dans cette position.
Pour déterminer si un matériau filtrant à faible teneur en poussière est nécessaire, la clé est de voir s'il existe une protection contre les particules après la section filtrante et la sensibilité de l'objet protégé aux particules. Les scénarios courants incluent : à proximité de l’entrée d’air de l’équipement de lithographie, de la circulation interne de l’EFEM, des armoires de stockage temporaire de plaquettes, de l’équipement de stockage de masques et des sections locales d’alimentation en air de l’équipement d’inspection ou de mesure. Le point commun de ces emplacements est que la distance entre la section du filtre à gaz et la surface sensible est courte, que l'organisation du flux d'air est relativement fermée et que les particules ne se diluent pas facilement une fois libérées. Concernant les données de terrain requises pour l'entrée d'air à l'extrémité de l'équipement, veuillez vous référer àQuelles données de terrain sont nécessaires pour la filtration chimique de l’entrée d’air des équipements de lithographie ? . À l’inverse, si la section du filtre chimique est située dans le boîtier de climatisation et qu’il y a un filtre à particules de qualité H13 ou supérieure en aval, la priorité des faibles poussières peut être réduite de manière appropriée.
Le faible niveau de poussière décrit la tendance du média à se libérer, et non son efficacité de filtration des particules. Il ne peut pas remplacer l'effet d'interception du HEPA ou de l'ULPA sur les particules d'aérosol, et cela ne signifie pas non plus que l'ensemble de la section filtrante répond à un certain niveau de propreté. Une approche courante du côté des équipements consiste à combiner une section de filtre chimique avec une section de filtre à particules. La section chimique est responsable du gaz cible et la section particules est responsable de la propreté en aval. Les méthodes et critères d’acceptation pour les deux sont différents. Si la filtration terminale des particules est annulée en raison d'un matériau filtrant à faible teneur en poussière, le risque est que le traitement du gaz atteigne la norme mais que le nombre de particules ne réponde pas aux exigences. Pour les questions impliquant la division du travail entre la filtration des particules et la filtration des gaz, veuillez vous référer àLes matériaux filtrants chimiques entraîneront-ils la pollution particulaire en aval ?。
Le comportement réel des particules en aval peut être différent une fois que le même média à faible teneur en poussière est installé dans différents cadres et structures d'étanchéité. Que le support soit fermement positionné, que l'écran de protection soit bien ajusté, qu'il y ait des bavures sur le cadre et qu'il y ait des dommages dus à la compression pendant le transport et l'installation, tout cela changera le résultat de la perte de poudre. La taille de l'élément filtrant à l'extrémité de l'équipement est généralement plus petite, et la densité des plis et la compression du joint sont plus sensibles à la répartition du débit d'air. Lorsque l’installation n’est pas en place, la vitesse locale du vent est élevée, ce qui peut également aggraver l’usure des supports. Par conséquent, lors de l'évaluation d'un média filtrant à faible teneur en poussière, vous devez examiner la structure et les instructions d'installation de l'ensemble du produit, plutôt que de simplement examiner les données de perte de poudre de l'échantillon de média.
Concernant la filtration chimique côté équipement, nous sommes plus exposés aux deux types de besoins : l'adaptation FFU et les éléments filtrants compacts. Lors de la sélection d'un support peu poussiéreux, il est généralement nécessaire de confirmer la structure du cadre, la forme du filet de protection et les exigences en matière de particules en aval. Il est facile de passer à côté de l'impact du lien d'installation en regardant uniquement les paramètres multimédias. Aili Industry peut fournir des options de configuration multimédia pour les produits correspondants FFU, de type boîte, de type plat et en forme de V. La structure compacte de l'équipement peut être adaptée de manière non standard en fonction de l'espace et du volume d'air. S'il s'agit de remplacer l'élément filtrant importé dans le système d'origine, cela peut également être vérifié en fonction de la taille de l'interface et des exigences du support. L'extrémité fabrication couvre les moteurs, les ventilateurs, les systèmes de contrôle, la tôle et l'assemblage complet de la machine. Les interfaces entre la section de filtre et la structure d'alimentation en air peuvent être alignées dans le même boîtier. Les produits peuvent être consultésPage de la série de produits de filtres chimiques pour en savoir plus sur les types de médias, la configuration intégrée FFU peut être consultéeLa page FFU du filtre chimique , le bloc d'alimentation en air peut être consultéde l'unité de filtre de ventilateur FFU . Page L'effet spécifique du gaz, les performances des particules et le cycle de remplacement doivent encore être vérifiés sur la base des données de configuration correspondantes et des conditions de travail sur site. Les résultats réels sont soumis à la détection des fuites sur site et aux résultats des tests de particules.
Le matériau du filtre à faible teneur en poussière n'a-t-il plus besoin d'être équipé de HEPA ?
Non. Un faible niveau de poussière décrit la tendance du fluide à se libérer et ne peut pas remplacer l'efficacité d'interception du filtre à particules. La nécessité d'une filtration terminale des particules du côté de l'équipement doit être confirmée séparément en fonction des exigences de niveau de propreté.
Comment déterminer si un matériau filtrant à faible teneur en poussière est nécessaire du côté de l'équipement ?
Vérifiez d'abord s'il existe une protection contre les particules en aval de la section filtrante, si l'objet protégé est sensible aux particules et si le flux d'air est fermé. Lorsque les trois conditions sont sévères, les fluides peu poussiéreux et l’étanchéité structurelle méritent une évaluation prioritaire.
Aili Industrial peut-il fournir un matériau de filtre à faible teneur en poussière adapté à l'espace de l'équipement ?
La forme du support et de la structure peut être vérifiée en fonction des dimensions internes de l'équipement, du volume d'air et des exigences en matière de particules en aval, et les espaces compacts peuvent être adaptés de manière non standard. La configuration spécifique doit être confirmée en fonction des informations produit correspondantes et des conditions sur site.
Comment choisir des filtres chimiques pour les armoires de stockage de plaquettes ?
L’environnement de stockage des masques nécessite-t-il une filtration chimique ?
Puis-je retirer moi-même le filet de protection du filtre chimique ?
Vérifier les éléments |
Confirmer les points clés |
Vérifier les éléments |
Confirmer les points clés |
|---|---|---|---|
cible de l'appareil |
Identifier les limites et les emplacements des particules |
informations sur les médias |
Vérifier les conditions des tests de sortie |
Ordre combiné |
Vérifier la protection contre les particules en aval |
état structurel |
Confirmer le filet de protection et le joint |
Qualité d'installation |
Évitez l'extrusion et la déviation |
Vérification sur place |
Détection séparée des gaz et des particules |