La question de savoir si la zone de traitement humide et la zone de photolithographie peuvent partager des configurations de filtration chimique nécessite une comparaison des gaz spécifiques, des formes de pollution et des objectifs de protection. Même si l'espace est adjacent, le brouillard acide, les gaz et les composants sensibles dans les deux zones peuvent être différents et le même matériau filtrant ne peut pas être directement copié. Adjacent ne veut pas dire identique. Avant de partager des configurations, vous devez d'abord vérifier les différences entre les deux côtés.

Les objets de pollution dans les deux districts sont intrinsèquement différents.

Le brouillard acide, les substances volatiles des solutions alcalines et l'entraînement de gouttelettes sont courants dans la zone de traitement humide, et les gouttelettes représentent une certaine proportion des formes de pollution ; le domaine de la photolithographie accorde plus d'attention aux gaz alcalins, aux composants organiques et à la pollution moléculaire spécifique, et est souvent plus sensible à la concentration. Les listes de gaz cibles, les niveaux de concentration et les limites de sortie autorisées des deux zones sont différentes. Si le même ensemble de configurations de médias est utilisé pour les couvrir, il est facile d’avoir un excédent d’un côté mais pas assez de l’autre. La première étape de la configuration partagée consiste à répertorier séparément les gaz clés et les exigences de protection des deux zones, puis à voir quelles parties peuvent être combinées et lesquelles doivent être séparées.

Les différences dans les formes de pollution affectent la structure frontale

La charge de gouttelettes autour de la zone humide est un facteur qui n’a généralement pas besoin d’être pris en compte dans la configuration de la zone de lithographie. L'entrée de gouttelettes dans la section du filtre chimique modifiera l'état et la résistance du média. Des mesures de blocage de l'eau, de désembuage ou d'échappement local peuvent être nécessaires à proximité de la zone de traitement humide, tandis que la zone de photolithographie accorde plus d'attention à la composition des gaz et à la compatibilité propre. Si deux zones partagent un ensemble de structures de filtrage, la question de savoir sur quelle zone la protection frontale est conçue devient une question à clarifier. Si elle est conçue en fonction des conditions de la zone de traitement humide, la zone de photolithographie peut sembler structurellement redondante ; s'il est conçu en fonction des conditions de la zone de photolithographie, le risque de gouttelettes dans la zone de traitement humide peut être sous-estimé.

Le partage de l’air de retour entraînera une transmission interrégionale

Si les deux zones partagent un système de retour d'air, des brouillards acides ou des composants volatils provenant de la zone de traitement humide peuvent pénétrer dans la zone de photolithographie avec l'air de retour, provoquant une pollution transversale. Dans ce cas, la configuration de filtration traite non seulement l’air de la zone respective, mais prend également en compte la charge et l’interaction du mélange gazeux. Le système partagé doit mettre en place les mesures de filtrage correspondantes dans la section mixte ou la section de dérivation et vérifier respectivement les positions de protection des deux zones. Si le risque de transmission entre zones est élevé, des partitions séparées peuvent être plus contrôlables que la mise en commun. Pour des idées sur la prévention et le contrôle de la pollution interrégionale, veuillez vous référer àComment empêcher la contamination gazeuse de pénétrer dans la zone de transfert des tranches ?。

Les configurations partagées doivent être vérifiées séparément

Même si les deux zones partagent un système de filtration, leurs emplacements clés respectifs doivent être testés séparément lors de la réception. La zone de méthode humide se concentre sur les indicateurs d'acidité et liés aux gouttelettes, tandis que la zone de photolithographie se concentre sur les composants alcalins et organiques. Les méthodes et les points de détection des deux côtés sont différents. Ce n’est pas parce que le système partagé répond aux normes d’un district que l’autre district répond également aux normes. Lors de la vérification, l'état de fonctionnement et les conditions de test de chaque zone doivent être enregistrés pour éviter d'utiliser la valeur moyenne mixte pour masquer les problèmes dans une seule zone. Concernant la méthode de détermination de la cible de gaz alcalin, veuillez vous référer àComment déterminer l’objectif de filtration lorsque la résine photosensible est sensible aux gaz alcalins ?。

Équipement de support industriel Aili

Pour les projets qui partagent des configurations de filtration entre la zone de traitement humide et la zone de photolithographie, nous recommandons généralement aux clients de répertorier d'abord séparément les listes de gaz, les formes de pollution et les exigences de protection des deux zones, puis de déterminer quelles parties peuvent être combinées et lesquelles doivent être traitées séparément. Aili Industry peut fournir des packages de sélection pour les produits de filtration chimique de type boîte, plaque plate et type V. Pour les packages MAU de type boîte, veuillez vous référer àFiltre chimique de type boîte MAU , la série de produits peut être consultéeGamme de produits de filtres chimiques . La structure en forme de V offre une plus grande zone de filtration dans le même espace de boîte et aide à contrôler la vitesse de surface et la résistance totale lorsqu'elle est configurée en plusieurs couches. Les applications côté appareil peuvent utiliserFiltre chimique forme FFU , couche d'adsorption chimique intégrée avecLa filtration des particules par filtre HEPA/ULPA et la section de circulation zonée peuvent être configurées séparément en fonction du gaz cible dans chaque zone. L'activité fabrication couvre la R&D indépendante et la production de moteurs et de ventilateurs, de systèmes de contrôle, de tôlerie et d'assemblage complet de machines. Les chemins d'air cloisonnés, les positions des sections de filtre et la répartition de la résistance peuvent être vérifiés dans le même package, et les structures non standard peuvent être ajustées en fonction de l'espace sur site. L'effet spécifique du gaz, l'environnement applicable et le cycle de remplacement doivent encore être vérifiés sur la base des données de configuration correspondantes et des conditions de travail sur site. Les résultats réels sont soumis aux résultats de la détection des fuites et des gaz sur site.

Questions et réponses connexes

Si les deux zones sont adjacentes, peuvent-elles partager un ensemble de sections de filtration chimique ?
Il est nécessaire de comparer d'abord les listes de gaz, les modèles de pollution et les objectifs de protection des deux régions. Si les différences sont importantes ou s’il existe un risque de transmission entre districts, le cloisonnement peut être plus contrôlable.

Lorsque l'air de retour est partagé, le brouillard acide présent dans la zone de traitement humide affectera-t-il la zone de photolithographie ?
Cette possibilité existe. La charge de gaz mélangé et l'influence mutuelle doivent être vérifiées lors de la conception du système partagé, et les positions de protection des deux zones doivent être vérifiées séparément.

Aili Industrial peut-il aider à la configuration du filtrage de zone ?
La liste de gaz, le chemin d'air et l'espace d'installation des deux zones peuvent être combinés pour vérifier le plan de zonage ou de partage et la configuration de la section de filtrage. Le plan spécifique doit être confirmé sur la base des données du produit et des conditions de travail sur site.

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