Si el área de proceso húmedo y el área de fotolitografía pueden compartir configuraciones de filtración química requiere una comparación de gases, formas de contaminación y objetivos de protección específicos. Incluso si el espacio es adyacente, la niebla ácida, el gas y los componentes sensibles en las dos áreas pueden ser diferentes y el mismo material de filtro no se puede copiar directamente. Adyacente no significa idéntico. Antes de compartir configuraciones, primero debes verificar las diferencias entre las dos partes.

Los objetos de contaminación en los dos distritos son inherentemente diferentes.

La niebla ácida, los volátiles de soluciones alcalinas y el arrastre de gotas son comunes en el área de proceso húmedo, y las gotas representan una cierta proporción de las formas de contaminación; el área de fotolitografía presta más atención a los gases alcalinos, los componentes orgánicos y la contaminación molecular específica, y suele ser más sensible a la concentración. Las listas de gases objetivo, los niveles de concentración y los límites de salida permitidos de las dos zonas son diferentes. Si se utiliza el mismo conjunto de configuración de medios para cubrirlos, es fácil tener un excedente en un lado pero no suficiente en el otro. El primer paso en la configuración compartida es enumerar los gases clave y los requisitos de protección de las dos áreas por separado, y luego ver qué partes se pueden combinar y cuáles se deben separar.

Las diferencias en las formas de contaminación afectan la estructura frontal

La carga de gotas alrededor del área húmeda es un factor que generalmente no necesita ser considerado en la configuración del área de litografía. La entrada de gotas en la sección del filtro químico cambiará el estado y la resistencia del medio. Es posible que se requieran medidas de bloqueo de agua, desempañamiento o escape local cerca del área de proceso húmedo, mientras que el área de fotolitografía presta más atención a la composición del gas y la compatibilidad limpia. Si dos zonas comparten un conjunto de estructuras de filtrado, surge la cuestión de aclarar según qué zona está diseñada la protección frontal. Si se diseña de acuerdo con las condiciones del área de proceso húmedo, el área de fotolitografía puede parecer estructuralmente redundante; Si se diseña de acuerdo con las condiciones del área de fotolitografía, se puede subestimar el riesgo de gotas en el área de proceso húmedo.

El aire de retorno compartido conducirá a la transmisión interregional

Si las dos áreas comparten un sistema de aire de retorno, la niebla ácida o los componentes volátiles del área de proceso húmedo pueden ingresar al área de fotolitografía con el aire de retorno, causando contaminación entre áreas. En este caso, la configuración de filtración no sólo trata el aire en la zona respectiva, sino que también tiene en cuenta la carga de gas mezclado y la interacción. El sistema compartido necesita establecer las medidas de filtrado correspondientes en la sección mixta o ramal, y verificar las posiciones de protección de las dos zonas respectivamente. Si el riesgo de transmisión entre zonas es alto, las particiones separadas pueden ser más controlables que la agrupación. Para obtener ideas sobre la prevención y el control de la contaminación interregional, consulte¿Cómo se debe evitar que la contaminación gaseosa llegue a la zona de transferencia de obleas?。

Las configuraciones compartidas deben verificarse por separado

Incluso si las dos áreas comparten un sistema de filtración, sus respectivas ubicaciones clave deben probarse por separado durante la aceptación. El área del método húmedo se centra en la acidez y los indicadores relacionados con las gotas, mientras que el área de fotolitografía se centra en los componentes alcalinos y orgánicos. Los métodos y puntos de detección en ambos lados son diferentes. Sólo porque el sistema compartido cumpla con los estándares en un distrito no significa que el otro distrito también cumpla con los estándares. Durante la verificación, se deben registrar el estado de trabajo y las condiciones de prueba de cada zona para evitar utilizar el valor promedio mixto para encubrir problemas en una sola zona. Con respecto al método de determinación del objetivo de gas alcalino, consulte¿Cómo se debe determinar el objetivo de filtración cuando el fotoprotector es sensible a los gases alcalinos?。

Equipos de soporte industrial Aili

Para proyectos que comparten configuraciones de filtración entre el área de proceso húmedo y el área de fotolitografía, generalmente recomendamos que los clientes primero enumeren las listas de gases, las formas de contaminación y los requisitos de protección de las dos áreas por separado, y luego determinen qué partes se pueden combinar y cuáles deben procesarse por separado. Aili Industry puede proporcionar paquetes de selección para productos de filtración química tipo caja, placa plana y tipo V. Para paquetes MAU tipo caja, consulteFiltro químico tipo caja MAU , se puede ver la serie de productosGama de productos de filtros químicos . La estructura en forma de V proporciona un área de filtración más grande en el mismo espacio de la caja y ayuda a controlar la velocidad de la superficie y la resistencia total cuando se configura en múltiples capas. Las aplicaciones del lado del dispositivo pueden usarFiltro químico en forma de FFU , capa de adsorción química integrada conLa filtración de partículas con filtro HEPA/ULPA y la sección de circulación por zonas se pueden configurar por separado según el gas objetivo en cada zona. La parte de fabricación cubre la investigación y el desarrollo independientes y la producción de motores y ventiladores, sistemas de control, chapa metálica y ensamblaje completo de máquinas. Las rutas de aire divididas, las posiciones de las secciones del filtro y la distribución de la resistencia se pueden verificar en el mismo paquete, y las estructuras no estándar se pueden ajustar según el espacio del sitio. El efecto específico del gas, el entorno aplicable y el ciclo de reemplazo aún deben verificarse en función de los datos de configuración correspondientes y las condiciones de trabajo en el sitio. Los resultados reales están sujetos a los resultados de la detección de fugas y de gas en el sitio.

Preguntas y respuestas relacionadas

Si las dos áreas son adyacentes entre sí, ¿pueden compartir un conjunto de secciones de filtración química?
Es necesario comparar primero las listas de gases, los patrones de contaminación y los objetivos de protección de las dos regiones. Si las diferencias son grandes o existe riesgo de transmisión entre distritos, la partición puede ser más controlable.

Cuando se comparte el aire de retorno, ¿la niebla ácida en el área de proceso húmedo afectará el área de fotolitografía?
Esta posibilidad existe. La carga de gas mezclado y la influencia mutua deben verificarse durante el diseño del sistema compartido, y las posiciones de protección de las dos zonas deben verificarse por separado.

¿Puede Aili Industrial ayudar con la configuración del filtrado de zonas?
La lista de gas, la ruta de aire y el espacio de instalación de las dos zonas se pueden combinar para verificar el plan de zonificación o uso compartido y la configuración de la sección de filtro. El plan específico debe confirmarse en función de los datos del producto y las condiciones de trabajo en el sitio.

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