Вопрос о том, могут ли зона мокрого процесса и зона фотолитографии иметь одинаковые конфигурации химической фильтрации, требует сравнения конкретных газов, форм загрязнения и целей защиты. Даже если пространство находится рядом, кислотный туман, газ и чувствительные компоненты в двух областях могут быть разными, и один и тот же фильтрующий материал невозможно скопировать напрямую. Рядом не значит одинаково. Прежде чем обмениваться конфигурациями, необходимо сначала проверить различия между двумя сторонами.

Объекты загрязнения в двух районах по своей сути различны.

Кислотный туман, летучие вещества щелочных растворов и унос капель являются обычным явлением в зоне влажного процесса, и капли составляют определенную долю форм загрязнения; область фотолитографии уделяет больше внимания щелочному газу, органическим компонентам и специфическим молекулярным загрязнениям и часто более чувствительна к концентрации. Списки целевых газов, уровни концентрации и допустимые пределы выбросов в двух зонах различны. Если для их покрытия используется один и тот же набор медиаконфигураций, легко получить излишек с одной стороны, но недостаточно с другой. Первым шагом в общей конфигурации является составление отдельного списка основных газов и требований защиты для двух областей, а затем определение того, какие части можно объединить, а какие необходимо разделить.

Различия в формах загрязнения влияют на структуру интерфейса.

Нагрузка капель вокруг влажной зоны является фактором, который обычно не нужно учитывать при конфигурации зоны фотолитографии. Попадание капель в секцию химического фильтра приведет к изменению состояния и сопротивления среды. Возле зоны влажного процесса могут потребоваться меры по блокировке воды, предотвращению запотевания или локальной вытяжке, тогда как в зоне фотолитографии больше внимания уделяется составу газа и совместимости с чистыми материалами. Если две зоны имеют общую структуру фильтрации, возникает вопрос, в соответствии с какой зоной спроектирована внешняя защита. Если зона фотолитографии спроектирована с учетом условий зоны влажного процесса, она может показаться структурно избыточной; если конструкция спроектирована с учетом условий зоны фотолитографии, риск попадания капель в зону влажного процесса может быть недооценен.

Общий возвратный воздух приведет к межрегиональной передаче инфекции

Если обе зоны имеют общую систему возврата воздуха, кислотный туман или летучие компоненты из зоны влажного процесса могут попасть в зону фотолитографии вместе с возвратным воздухом, вызывая перекрестное загрязнение. В этом случае конфигурация фильтрации не только очищает воздух в соответствующей зоне, но также учитывает нагрузку и взаимодействие смешанных газов. В общей системе необходимо установить соответствующие меры фильтрации в смешанной секции или ответвленной секции и проверить позиции защиты двух зон соответственно. Если риск межзональной передачи высок, отдельные разделы могут быть более управляемыми, чем объединение в пул. Идеи по предотвращению и контролю межрегионального загрязнения см.Как предотвратить попадание газовых загрязнений в зону переноса пластин?。

Общие конфигурации необходимо проверять отдельно.

Даже если в этих двух зонах используется общая система фильтрации, их соответствующие ключевые места должны быть проверены отдельно во время приемки. В области мокрого метода основное внимание уделяется кислотности и показателям, связанным с каплями, а в области фотолитографии основное внимание уделяется щелочным и органическим компонентам. Методы обнаружения и точки с обеих сторон разные. Тот факт, что общая система соответствует стандартам в одном округе, не означает, что другой округ также соответствует стандартам. Во время проверки следует фиксировать рабочее состояние и условия тестирования каждой зоны, чтобы избежать использования смешанного среднего значения для сокрытия проблем в одной зоне. О методе определения целевого щелочного газа см.Как определить цель фильтрации, если фоторезист чувствителен к щелочным газам?。

Промышленное вспомогательное оборудование Aili

Для проектов, в которых используются общие конфигурации фильтрации в зоне мокрого процесса и зоне фотолитографии, мы обычно рекомендуем клиентам сначала перечислить списки газов, формы загрязнения и требования к защите для двух зон отдельно, а затем определить, какие части можно объединить, а какие необходимо обрабатывать отдельно. Aili Industry может предоставить комплекты для химической фильтрации коробчатого, плоского и V-типа. Информацию о коробчатых упаковках MAU см.Химический фильтр коробчатого типа MAU , можно просмотреть серию продуктовАссортимент химических фильтров . V-образная структура обеспечивает большую площадь фильтрации в том же пространстве коробки и помогает контролировать скорость поверхности и общее сопротивление при многослойной конфигурации. Приложения на стороне устройства могут использоватьХимический фильтр типа FFU, встроенный химический адсорбционный слой сФильтрация частиц фильтром HEPA/ULPA и секция зональной циркуляции могут быть настроены отдельно в соответствии с целевым газом в каждой зоне. Производственная часть охватывает независимые исследования и разработки, а также производство двигателей и вентиляторов, систем управления, листового металла и полной сборки машин. Разделенные воздушные пути, положение секций фильтра и распределение сопротивления можно проверить в одном пакете, а нестандартные конструкции можно отрегулировать в соответствии с пространством на объекте. Конкретное воздействие газа, применимая среда и цикл замены все еще необходимо проверять на основе соответствующих данных конфигурации и условий работы на месте. Фактические результаты зависят от результатов обнаружения утечек и газа на месте.

Связанные вопросы и ответы

Если эти две зоны соседствуют друг с другом, могут ли они иметь общий набор секций химической фильтрации?
Необходимо сначала сравнить списки газов, характер загрязнения и цели защиты двух регионов. Если различия велики или существует риск передачи инфекции между районами, разделение может быть более контролируемым.

Если возвратный воздух используется совместно, будет ли кислотный туман в зоне влажного процесса влиять на зону фотолитографии?
Такая возможность существует. Нагрузка смешанного газа и взаимное влияние должны быть проверены при проектировании общей системы, а положения защиты двух зон должны быть проверены отдельно.

Может ли Aili Industrial помочь с настройкой фильтрации зон?
Список газов, воздушный путь и пространство для установки двух зон можно объединить для проверки плана зонирования или совместного использования, а также конфигурации секции фильтра. Конкретный план должен быть подтвержден на основе данных о продукте и условий работы на месте.

Похожие статьи

• Как определить цель фильтрации, если фоторезист чувствителен к щелочным газам?

• Как предотвратить попадание газовых загрязнений в зону переноса пластин?

• На какие источники АМС следует обращать внимание при подаче воздуха вокруг травильного оборудования?

• Какие молекулярные загрязнители необходимо оценить в зонах хранения FOUP?

Ключевые моменты при выборе и приемочном контроле