Liệu khu vực xử lý ướt và khu vực quang khắc có thể chia sẻ cấu hình lọc hóa học hay không đòi hỏi phải so sánh các loại khí cụ thể, các dạng ô nhiễm và mục tiêu bảo vệ. Ngay cả khi không gian liền kề, sương axit, khí và các thành phần nhạy cảm ở hai khu vực có thể khác nhau và không thể sao chép trực tiếp cùng một vật liệu lọc. Liền kề không có nghĩa là giống hệt nhau. Trước khi chia sẻ cấu hình, trước tiên bạn phải kiểm tra sự khác biệt giữa hai bên.

Đối tượng bị ô nhiễm ở hai huyện vốn có sự khác nhau.

Sương mù axit, chất dễ bay hơi trong dung dịch kiềm và sự cuốn theo giọt nước là phổ biến trong khu vực xử lý ẩm ướt và các giọt nước chiếm một tỷ lệ nhất định trong các dạng ô nhiễm; khu vực quang khắc chú ý nhiều hơn đến khí kiềm, các thành phần hữu cơ và ô nhiễm phân tử cụ thể và thường nhạy cảm hơn với nồng độ. Danh mục khí mục tiêu, nồng độ và giới hạn đầu ra cho phép của hai vùng là khác nhau. Nếu sử dụng cùng một bộ cấu hình phương tiện để bao phủ chúng, thì một bên rất dễ có dư thừa nhưng bên kia lại không đủ. Bước đầu tiên trong cấu hình chia sẻ là liệt kê riêng các loại khí chính và yêu cầu bảo vệ của hai khu vực, sau đó xem phần nào có thể được kết hợp và phần nào phải tách rời.

Sự khác biệt về các hình thức ô nhiễm ảnh hưởng đến cấu trúc giao diện người dùng

Tải trọng giọt xung quanh khu vực ẩm ướt là một yếu tố thường không cần phải xem xét trong cấu hình của khu vực in thạch bản. Sự xâm nhập của các giọt vào phần lọc hóa học sẽ làm thay đổi trạng thái và điện trở của môi trường. Các biện pháp chặn nước, làm mờ hoặc xả khí cục bộ có thể được yêu cầu gần khu vực xử lý ướt, trong khi khu vực quang khắc chú ý nhiều hơn đến thành phần khí và khả năng tương thích sạch. Nếu hai vùng chia sẻ một tập hợp các cấu trúc lọc, thì câu hỏi cần được làm rõ là lớp bảo vệ mặt trước được thiết kế theo vùng nào. Nếu được thiết kế theo các điều kiện của khu vực xử lý ướt, khu vực quang khắc có thể có cảm giác dư thừa về mặt cấu trúc; nếu được thiết kế theo các điều kiện của khu vực quang khắc, nguy cơ có giọt nước trong khu vực xử lý ướt có thể được đánh giá thấp.

Không khí hồi lưu được chia sẻ sẽ dẫn đến sự lây truyền xuyên khu vực

Nếu hai khu vực dùng chung hệ thống không khí hồi lưu, sương axit hoặc các thành phần dễ bay hơi từ khu vực xử lý ướt có thể đi vào khu vực quang khắc cùng với không khí hồi lưu, gây ô nhiễm giữa các khu vực. Trong trường hợp này, cấu hình lọc không chỉ xử lý không khí trong vùng tương ứng mà còn tính đến tải lượng khí hỗn hợp và tương tác. Hệ thống dùng chung cần thiết lập các biện pháp lọc tương ứng ở phần hỗn hợp hoặc phần nhánh và xác minh vị trí bảo vệ của hai vùng tương ứng. Nếu nguy cơ lây truyền xuyên vùng cao, việc phân vùng riêng biệt có thể dễ kiểm soát hơn so với việc gộp chung. Để biết ý tưởng về phòng ngừa và kiểm soát ô nhiễm xuyên khu vực, vui lòng tham khảoLàm thế nào để ngăn chặn ô nhiễm khí xâm nhập vào khu vực chuyển wafer?。

Cấu hình dùng chung cần được xác minh riêng

Ngay cả khi hai khu vực dùng chung hệ thống lọc, các vị trí quan trọng tương ứng của chúng phải được kiểm tra riêng trong quá trình nghiệm thu. Khu vực phương pháp ướt tập trung vào các chỉ số liên quan đến độ axit và giọt nước, trong khi khu vực quang khắc tập trung vào các thành phần kiềm và hữu cơ. Các phương pháp phát hiện và điểm ở cả hai bên đều khác nhau. Chỉ vì hệ thống dùng chung đáp ứng tiêu chuẩn ở quận này không có nghĩa là quận kia cũng đáp ứng tiêu chuẩn. Trong quá trình xác minh, cần ghi lại trạng thái làm việc và điều kiện thử nghiệm của từng vùng để tránh sử dụng giá trị trung bình hỗn hợp để che đậy các vấn đề trong một vùng duy nhất. Về phương pháp xác định mục tiêu khí kiềm, vui lòng tham khảoLàm thế nào để xác định mục tiêu lọc khi chất quang dẫn nhạy cảm với khí kiềm?。

Thiết bị hỗ trợ công nghiệp Aili

Đối với các dự án chia sẻ cấu hình lọc giữa khu vực xử lý ướt và khu vực quang khắc, chúng tôi thường khuyên khách hàng trước tiên nên liệt kê danh sách khí, dạng ô nhiễm và yêu cầu bảo vệ của hai khu vực một cách riêng biệt, sau đó xác định phần nào có thể được kết hợp và phần nào cần được xử lý riêng. Aili Industry có thể cung cấp các gói lựa chọn cho các sản phẩm lọc hóa học loại hộp, tấm phẳng và loại V. Đối với các gói MAU dạng hộp, vui lòng tham khảoBộ lọc hóa học loại hộp MAU , dòng sản phẩm có thể được xemDòng sản lọc hóa học phẩm Cấu trúc hình chữ V cung cấp diện tích lọc lớn hơn trong cùng một không gian hộp và giúp kiểm soát tốc độ bề mặt và tổng lực cản khi được cấu hình thành nhiều lớp. Các ứng dụng phía thiết bị có thể sử dụngBộ lọc hóa học FFU , tích hợp lớp hấp phụ hóa học vớiloại Quá trình lọc hạt của bộ lọc HEPA/ULPA và phần tuần hoàn được phân vùng có thể được cấu hình riêng biệt theo loại khí mục tiêu ở từng vùng. Giai đoạn sản xuất bao gồm hoạt động R&D độc lập và sản xuất động cơ, quạt, hệ thống điều khiển, tấm kim loại và lắp ráp máy hoàn chỉnh. Có thể kiểm tra các đường dẫn khí được phân vùng, vị trí phần bộ lọc và phân bổ điện trở trong cùng một gói và các cấu trúc phi tiêu chuẩn có thể được điều chỉnh theo không gian tại chỗ. Hiệu ứng khí cụ thể, môi trường áp dụng và chu trình thay thế vẫn cần được xác minh dựa trên dữ liệu cấu hình tương ứng và điều kiện làm việc tại chỗ. Kết quả thực tế tùy thuộc vào kết quả phát hiện rò rỉ và phát hiện khí tại chỗ.

Câu hỏi và câu trả lời liên quan

Nếu 2 khu vực liền kề nhau thì có thể dùng chung một bộ phận lọc hóa học được không?
Trước tiên cần so sánh danh mục khí, mô hình ô nhiễm và mục tiêu bảo vệ của hai khu vực. Nếu sự khác biệt lớn hoặc có nguy cơ lây truyền giữa các quận, việc phân chia có thể dễ kiểm soát hơn.

Khi không khí trở lại được chia sẻ, sương mù axit trong khu vực xử lý ướt có ảnh hưởng đến khu vực quang khắc không?
Khả năng này tồn tại. Tải lượng khí hỗn hợp và ảnh hưởng lẫn nhau cần phải được kiểm tra trong quá trình thiết kế hệ thống dùng chung và vị trí bảo vệ của hai vùng phải được xác minh riêng.

Aili Industrial có thể hỗ trợ cấu hình lọc vùng không?
Danh sách khí, đường dẫn khí và không gian lắp đặt của hai vùng có thể được kết hợp để kiểm tra kế hoạch phân vùng hoặc chia sẻ và cấu hình phần bộ lọc. Kế hoạch cụ thể cần được xác nhận dựa trên dữ liệu sản phẩm và điều kiện làm việc tại chỗ.

Bài viết liên quan

• Làm thế nào để xác định mục tiêu lọc khi chất quang dẫn nhạy cảm với khí kiềm?

• Làm thế nào để ngăn chặn ô nhiễm khí xâm nhập vào khu vực chuyển wafer?

• Chúng ta nên chú ý đến những nguồn AMC nào khi cung cấp không khí xung quanh thiết bị khắc?

• Những chất gây ô nhiễm phân tử nào cần được đánh giá tại các khu vực lưu trữ FOUP?

Những điểm chính để lựa chọn và kiểm tra chấp nhận