습식 공정 영역과 포토리소그래피 영역이 화학적 여과 구성을 공유할 수 있는지 여부는 특정 가스, 오염 형태 및 보호 목적을 비교해야 합니다. 공간이 인접하더라도 두 영역의 산성 미스트, 가스 및 민감한 성분이 다를 수 있으며 동일한 필터 재료를 직접 복사할 수 없습니다. 인접하다는 것은 동일하다는 의미가 아닙니다. 구성을 공유하기 전에 먼저 양측 간의 차이점을 확인해야 합니다.

두 지역의 오염 대상은 본질적으로 다릅니다.

산성 미스트, 알칼리성 용액 휘발성 물질 및 액적 동반은 습식 공정 영역에서 흔히 발생하며 액적은 오염 형태의 특정 비율을 차지합니다. 포토리소그래피 분야는 알칼리성 가스, 유기 성분 및 특정 분자 오염에 더 많은 관심을 기울이고 종종 농도에 더 민감합니다. 두 구역의 대상 가스 목록, 농도 수준 및 허용 배출구 한계가 다릅니다. 동일한 미디어 구성 세트를 사용하여 이를 처리하는 경우 한쪽에는 잉여가 생기기 쉽지만 다른 쪽에는 충분하지 않습니다. 공유 구성의 첫 번째 단계는 두 영역의 주요 가스 및 보호 요구 사항을 별도로 나열한 다음 어떤 부분을 결합할 수 있고 어떤 부분을 분리해야 하는지 확인하는 것입니다.

오염 형태의 차이는 프런트 엔드 구조에 영향을 미칩니다

젖은 영역 주변의 액적 하중은 일반적으로 포토리소그래피 영역 구성에서 고려할 필요가 없는 요소입니다. 화학 필터 섹션에 물방울이 들어가면 매체 상태와 저항이 변경됩니다. 습식 공정 영역 근처에서는 물 차단, 안개 제거 또는 국소 배기 조치가 필요할 수 있으며, 포토리소그래피 영역은 가스 구성 및 청정 호환성에 더 많은 주의를 기울입니다. 두 영역이 필터링 구조를 공유하는 경우 프런트 엔드 보호가 어느 영역에 따라 설계되는지 명확히 해야 하는 문제가 됩니다. 습식 공정 영역의 조건에 따라 설계하면 포토리소그래피 영역이 구조적으로 중복되는 것처럼 느껴질 수 있습니다. 포토리소그래피 영역의 조건에 따라 설계할 경우 습식 공정 영역에서 물방울이 발생할 위험이 과소평가될 수 있습니다.

공기를 공유하면 지역 간 전염이 발생합니다

두 영역이 반환 공기 시스템을 공유하는 경우 습식 공정 영역의 산성 미스트 또는 휘발성 성분이 반환 공기와 함께 사진 석판 인쇄 영역으로 유입되어 지역 간 오염을 일으킬 수 있습니다. 이 경우 여과 구성은 해당 구역의 공기를 처리할 뿐만 아니라 혼합 가스 부하 및 상호 작용도 고려합니다. 공유 시스템은 혼합 섹션 또는 분기 섹션에 해당 필터링 조치를 설정하고 두 영역의 보호 위치를 각각 확인해야 합니다. 영역 간 전송 위험이 높은 경우 별도의 파티션을 풀링하는 것보다 더 쉽게 제어할 수 있습니다. 지역 간 오염 방지 및 통제에 대한 아이디어는 다음을 참조하십시오.가스 오염이 웨이퍼 이송 영역으로 유입되는 것을 어떻게 방지해야 합니까?。

공유 구성은 별도로 확인해야 합니다.

두 영역이 여과 시스템을 공유하더라도 승인 과정에서 각각의 주요 위치를 별도로 테스트해야 합니다. 습식법 영역은 산성도와 액적 관련 지표에 초점을 맞추는 반면, 포토리소그래피 영역은 알칼리성 및 유기 성분에 초점을 맞춥니다. 양쪽의 감지 방법과 지점이 다릅니다. 공유 시스템이 한 구역의 표준을 충족한다고 해서 다른 구역도 표준을 충족한다는 의미는 아닙니다. 검증 중에는 단일 구역의 문제를 덮기 위해 혼합된 평균값을 사용하는 것을 방지하기 위해 각 구역의 작동 상태 및 테스트 조건을 기록해야 합니다. 알칼리성 가스 타겟의 결정 방법에 대해서는 다음을 참조하십시오.포토레지스트가 알칼리성 가스에 민감한 경우 여과 대상을 어떻게 결정해야 합니까?。

Aili 산업 지원 장비

습식 공정 영역과 포토리소그래피 영역 간에 여과 구성을 공유하는 프로젝트의 경우 일반적으로 고객이 먼저 두 영역의 가스 목록, 오염 형태 및 보호 요구 사항을 별도로 나열한 다음 결합할 수 있는 부품과 별도로 처리해야 하는 부품을 결정하는 것이 좋습니다. Aili Industry는 박스형, 평판형 및 V형 화학 여과 제품에 대한 선택 패키지를 제공할 수 있습니다. 박스형 MAU 패키지는 다음을 참조하세요.MAU 박스형 케미컬필터 , 제품시리즈를 보실 수 있습니다.화학 필터 제품군 . V자형 구조는 동일한 상자 공간에서 더 큰 여과 영역을 제공하며 여러 레이어로 구성할 때 표면 속도와 전체 저항을 제어하는 ​​데 도움이 됩니다. 장치측 애플리케이션은 다음을 사용할 수 있습니다.화학 필터 FFU 유형, 통합 화학 흡착층HEPA/ULPA 필터 입자 여과 및 구역별 순환 구간은 각 구역의 대상 가스에 따라 별도로 구성할 수 있습니다. 제조 단계에는 모터 및 팬, 제어 시스템, 판금 및 전체 기계 조립의 독립적인 R&D 및 생산이 포함됩니다. 분할된 공기 경로, 필터 섹션 위치 및 저항 분포를 동일한 패키지에서 확인할 수 있으며, 비표준 구조는 현장 공간에 따라 조정될 수 있습니다. 구체적인 가스 효과, 적용 가능한 환경 및 교체 주기는 해당 구성 데이터 및 현장 작업 조건을 기반으로 여전히 검증되어야 합니다. 실제 결과는 현장 누출 감지 및 가스 감지 결과에 따라 달라질 수 있습니다.

관련 질문과 답변

두 영역이 서로 인접해 있는 경우 일련의 화학 여과 구역을 공유할 수 있습니까?
먼저 두 지역의 가스 목록, 오염 패턴, 보호 대상을 비교할 필요가 있습니다. 차이가 크거나 지역 간 전파 위험이 있는 경우 분할을 더 쉽게 제어할 수 있습니다.

반환 공기가 공유되면 습식 공정 영역의 산성 미스트가 사진 평판 영역에 영향을 줍니까?
이런 가능성이 존재합니다. 공유 시스템 설계 시 혼합가스 부하 및 상호 영향을 확인해야 하며, 두 구역의 보호 위치를 별도로 검증해야 합니다.

Aili Industrial이 구역 필터링 구성을 지원할 수 있습니까?
두 구역의 가스 목록, 공기 경로 및 설치 공간을 결합하여 구역화 또는 공유 계획 및 필터 섹션 구성을 확인할 수 있습니다. 구체적인 계획은 제품 데이터와 현장 작업 조건을 바탕으로 확정되어야 합니다.

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