閲覧数: 4572 著者:Aili Industry 公開時間:2026-12-08 出典: アイ・リー・インダストリアル
半導体クリーンルームには、粒子制御、空気の流れの構成、および動作の安定性に対してより高い要件が求められます。一部のエリアの清浄度は ISO クラス 1 からクラス 3 レベルに達する場合があります。循環濾過空気供給の中核装置として、FFU のパラメータ選択は地域の清浄度とプロセス保護効果に直接影響します。
半導体クリーンルーム用の FFU を選択する場合、1 つのパラメータだけを見ることはできません。風量、静圧、濾過レベル、風速の均一性、騒音、制御方法、および電気パラメータはすべて、プロセス要件と併せてチェックする必要があります。パラメータは相互に関連しているため、マシン全体とシステム間で比較する必要があります。
アイリ産業はFFU完成機と半導体プロジェクトサポートの充実した生産能力を有しており、ウェーハ工場や半導体装置の状況に応じたエア供給ソリューションを提供できます。 FFU マシンの基本構造については、以下を参照してください。Aili Industrial FFUファンフィルターユニット。
風量によってFFUの空気供給能力が決まります。半導体クリーンルームの風量は、清浄度、換気回数、保護面積などに基づいて計算する必要があります。一方向流域の場合は、目標風速と保護面積に基づいて計算できます。非一方向流れ領域の場合は、空気交換の回数に基づいて計算できます。
静圧によって、システム抵抗を克服する FFU の能力が決まります。半導体クリーンルームのFFUでは、高効率のフィルタや給気経路、装置構造が必要となる場合があり、システム抵抗が実際の風量に影響します。機種選定の際は目標風量における静圧マージンを確認し、フィルタにゴミが堆積した場合の動作点の変化を考慮してください。
風量と静圧は、裸のファンの全圧力だけでなく、マシン全体の構成の下で比較する必要があります。詳細については、を参照してください。FFU マシンの外部静圧とファンの全圧力の差はどれくらいですか?パラメータの口径を理解します。
半導体クリーンルームでは、濾過レベルに対してより高い要件が求められます。 ISO クラス 1 ~ クラス 3 レベルに対応し、通常は U15 以上の効率などの ULPA レベルのフィルターが必要です。 ISO クラス 4 ~ クラス 5 レベルでは、H14 HEPA フィルターがニーズを満たすことができます。
フィルタの効率グレードは、EN1822 または IEST 規格に準拠する必要があります。選定の際はフィルターのシール方法や取り付け面も確認してください。半導体クリーンルームでは通常、液タンクシールやナイフエッジシールが使用されており、リーク量を低く抑える必要があります。フィルタとマシンインターフェースのマッチングについては、を参照してください。ULPA超高性能フィルターを搭載したFFU。
半導体クリーンルーム、特にウェーハ工場では、風速の均一性に対する高い要件が求められます。風速が不均一であると、局所的な粒子の蓄積や気流の乱れが発生し、ウェーハ表面やプロセス装置に影響を与える可能性があります。
風速の均一性は複数の測定点で確認する必要があります。測定点は、空気出口表面、複数の FFU の接合境界、およびウェーハの主要な領域をカバーする必要があります。風速均一性の表現については、以下を参照してください。FFU風速均一性は解点と偏差の計算方法をどのように表現しますか。
半導体クリーンルームには通常、継続的な生産要件があり、作業場で人員が作業する必要があります。過度の FFU 騒音は、作業環境や従業員の快適性に影響を与える可能性があります。騒音パラメータは、単一の値だけを見るのではなく、距離測定と動作速度と組み合わせて確認する必要があります。
複数の FFU を同時に動作させると、室内騒音が重畳する場合があります。機種選定時に単体の騒音や想定される室内騒音を確認できます。
半導体クリーンルーム内のFFUは通常、群管理システムに接続されており、エリアやプロセスに応じて異なる動作モードが設定されています。プロジェクトにパーティション制御、一定風量制御、または風速フィードバック要件がある場合、コントローラーが対応する機能をサポートしていることを確認する必要があります。
制御方法については、こちらをご覧ください。FFU/EFU グループ制御タッチ スクリーン コントローラーとFFUコンピュータグループ制御システム。 Aili Industrial は FFU 制御システムに関する完全な自己研究能力を備えており、半導体プロジェクトのニーズに応じた制御ソリューションを提供できます。
電気パラメータには、供給電圧、入力電力、力率、保護レベルが含まれます。半導体クリーンルームには、電気的安全性と接地に関する要件が定められている場合があります。選択する際には、電源条件、電力データ、保護レベルを確認し、プロジェクトの配電システムとの整合性を確認する必要があります。
入力電力と力率の区別については、を参照してください。FFU 力率と入力電力を区別する方法。パラメータの意味を理解するために、
半導体クリーン ルーム内の FFU は、吊り天井、装置の上、またはローカル サポートに設置される場合があります。構造パラメータには、機械全体のサイズ、設置寸法、メンテナンス方法、空気入口クリアランスが含まれます。機器の上部に設置する場合は、耐荷重、カバー開閉トラック、安全インターロックもチェックする必要があります。
デバイス側のアプリケーションについては、以下を参照してください。機器側ファンフィルターユニットとEFU 機器側のファン フィルター ユニットをカスタマイズして、サポートされるソリューションについて学習します。
半導体クリーンルーム FFU の選択段階では、FFU のメーカーおよび設計者に次の点を確認することをお勧めします。地域の清浄度レベルとエアフローパターン。プロセス発塵と装置の加熱。空気量と静圧の要件。濾過レベルと密封方法。風速均一性要件。騒音要件。制御方法。電気パラメータ。設置構造およびメンテナンス条件。
半導体クリーンルーム用の FFU を選択している場合は、次のサイトにアクセスしてください。Aili Industrial FFU ファン フィルター ユニットの完全なマシン構成については、こちらも参照してください。FFU には ULPA 超高効率フィルターが装備されており、フィルター構成について学ぶか、半導体業界の選択サポートについては Aili Industrial にお問い合わせください。
半導体クリーンルーム用のFFUを選択する場合は、清浄度レベル、プロセス発塵、気流構成に基づいて、風量、静圧、濾過レベル、風速均一性、騒音、制御方法、電気的パラメータを確認する必要があります。パラメータは、単一の値だけでなく、マシン全体とシステム間で比較する必要があります。構造や設置条件も同時に確認する必要があります。
Aili Industrial は、FFU 完成機と半導体プロジェクトのサポートにおける完全な生産能力を備えており、半導体のクリーンルーム条件に基づいた選択ソリューションを提供できます。半導体クリーンルーム FFU 構成について詳しく知りたい場合は、次のサイトを参照してください。Aili Industrial FFU ファン フィルター ユニット、プロジェクト サポートについては、Aili Industrial にお問い合わせいただくことも歓迎します。