Количество просмотров: 4572 Автор: Aili Industry Время выпуска: 8 декабря 2026 г. Источник: Ай Ли Индастриал
В чистых помещениях для полупроводников предъявляются более высокие требования к контролю частиц, организации воздушного потока и эксплуатационной стабильности. Чистота некоторых помещений может достигать уровней ISO от 1 до 3 класса. Выбор параметров FFU, являющегося основным оборудованием для подачи циркулирующего фильтрованного воздуха, напрямую влияет на чистоту региона и эффект защиты процесса.
При выборе FFU для чистой комнаты с полупроводниками нельзя просто смотреть на один параметр. Объем воздуха, статическое давление, уровень фильтрации, равномерность скорости ветра, шум, метод управления и электрические параметры — все это необходимо проверять в соответствии с технологическими требованиями. Параметры связаны друг с другом, и их следует сравнивать между всей машиной и системой.
Aili Industrial обладает полными производственными возможностями в области комплексного оборудования FFU и поддержки проектов полупроводников, а также может предоставить решения по подаче воздуха в зависимости от условий завода по производству пластин и полупроводникового оборудования. Базовую структуру машины FFU вы можете найти вФильтрующий вентилятор Aili Industrial FFU。
Объем воздуха определяет производительность подачи воздуха в ФФУ. Объем воздуха в чистом помещении для производства полупроводников следует рассчитывать на основе уровня чистоты, количества воздухообменов или защитной зоны. Для зон с однонаправленным потоком расчеты могут быть выполнены на основе целевой скорости ветра и защищаемой площади. Для зон с неоднонаправленным потоком его можно рассчитать на основе количества воздухообменов.
Статическое давление определяет способность ФФУ преодолевать сопротивление системы. FFU в чистых помещениях с полупроводниками может потребоваться оборудовать высокоэффективными фильтрами, путями подачи воздуха или конструкциями оборудования, а сопротивление системы будет влиять на фактический объем воздуха. При выборе модели подтвердите запас статического давления при заданном объеме воздуха и учтите изменение рабочей точки после накопления пыли на фильтре.
Объем воздуха и статическое давление следует сравнивать при полной конфигурации машины, а не только при полном давлении голого вентилятора. Подробную информацию см.В чем разница между внешним статическим давлением машины FFU и полным давлением вентилятора? Разберитесь с параметром калибра.
В чистых помещениях для полупроводников предъявляются более высокие требования к уровням фильтрации. В соответствии с уровнями ISO от 1 до 3 обычно требуются фильтры уровня ULPA, например U15 или более высокой эффективности. Для уровней ISO от класса 4 до класса 5 фильтры HEPA H14 могут удовлетворить потребности.
Класс эффективности фильтра должен соответствовать стандартам EN1822 или IEST. При выборе вам также следует подтвердить метод уплотнения и интерфейс установки фильтра. В чистых помещениях для полупроводников обычно используются уплотнения резервуаров для жидкости или уплотнения с ножевой кромкой, а скорость утечки необходимо контролировать на низком уровне. Информацию о соответствии фильтров и машинных интерфейсов см.FFU оснащен фильтром сверхвысокой эффективности ULPA.。
В чистых помещениях полупроводников, особенно на заводах по производству пластин, предъявляются высокие требования к равномерности скорости ветра. Неравномерная скорость ветра может вызвать локальное скопление частиц или нарушение воздушного потока, влияя на поверхность пластины и технологическое оборудование.
Равномерность скорости ветра должна быть подтверждена с помощью нескольких точек измерения. Точки измерения должны охватывать поверхность выхода воздуха, границу сращивания нескольких FFU и ключевые области пластины. Что касается выражения однородности скорости ветра, вы можете обратиться кКак однородность скорости ветра ФФУ выражает точку решения и метод расчета отклонения.
Чистые помещения для производства полупроводников обычно требуют непрерывного производства, и персонал должен работать в цехе. Чрезмерный шум ФФУ может повлиять на рабочую среду и комфорт персонала. Параметры шума следует подтверждать в сочетании с измерением расстояния и рабочей скорости, а не просто рассматривать одно значение.
Если одновременно работают несколько FFU, на них может накладываться шум помещения. Вы можете подтвердить шум отдельного устройства и ожидаемый шум в помещении при выборе модели.
FFU в чистых полупроводниковых помещениях обычно подключаются к групповой системе управления, и в зависимости от областей или процессов устанавливаются различные режимы работы. Если в проекте предусмотрены требования к управлению перегородками, постоянному контролю объема воздуха или обратной связи по скорости ветра, необходимо подтвердить, что контроллер поддерживает соответствующие функции.
Методы контроля см.Контроллер сенсорного экрана группового управления FFU/EFU иКомпьютерная система управления группой ФФУ . Aili Industrial обладает полными возможностями самостоятельных исследований в области систем управления FFU и может предоставить решения по управлению в соответствии с потребностями полупроводниковых проектов.
Электрические параметры включают напряжение питания, входную мощность, коэффициент мощности и уровень защиты. В чистых помещениях для производства полупроводников могут предъявляться требования по электробезопасности и заземлению. При выборе необходимо подтвердить условия электроснабжения, данные о мощности и уровень защиты, а также проверить соответствие проектной системе распределения электроэнергии.
Информацию о разнице между входной мощностью и коэффициентом мощности см.Как отличить коэффициент мощности FFU от входной мощности, чтобы понять смысл параметров.
FFU в чистых полупроводниковых помещениях можно устанавливать на подвесных потолках, поверх оборудования или на местных опорах. Структурные параметры включают общий размер машины, установочные размеры, методы обслуживания и зазор для воздухозаборника. При установке на верхнюю часть оборудования также необходимо проверить несущую способность, направляющие для открывания крышки и защитную блокировку.
Для приложений на стороне устройства вы можете обратиться кФильтрующий блок концевого вентилятора иНастройте вентиляторный фильтр на стороне оборудования EFU, чтобы узнать о вспомогательных решениях.
На этапе выбора ФФУ для чистых полупроводниковых помещений рекомендуется уточнить у изготовителя и проектировщика ФФУ: региональный уровень чистоты и характер воздушного потока; технологическое пылеобразование и нагрев оборудования; требования к объему воздуха и статическому давлению; уровень фильтрации и метод герметизации; требования к равномерности скорости ветра; требования к шуму; методы контроля; электрические параметры; Конструкция установки и условия обслуживания.
Если вы выбираете FFU для своего чистого помещения с полупроводниками, вы можете посетитьПромышленный вентиляторный фильтр Aili FFU, чтобы узнать о полной конфигурации машины, вы также можете обратиться кFFU оснащен сверхвысокоэффективным фильтром ULPA. Чтобы узнать о конфигурации фильтра, или свяжитесь с Aili Industrial для получения помощи в выборе полупроводниковой отрасли.
При выборе ФФУ для полупроводникового чистого помещения необходимо проверить объем воздуха, статическое давление, уровень фильтрации, равномерность скорости ветра, уровень шума, метод управления и электрические параметры с учетом уровня чистоты, технологического пылеобразования и организации воздушного потока. Необходимо сравнивать параметры всей машины и системы, а не только одно значение. Конструктивные и монтажные условия также должны быть подтверждены одновременно.
Aili Industrial обладает полными производственными возможностями в области комплектного оборудования FFU и поддержки проектов по производству полупроводников, а также может предоставить решения по выбору, основанные на условиях чистой комнаты для полупроводников. Если вам нужно узнать больше о конфигурации FFU для чистых полупроводниковых помещений, вы можете посетитьВентиляционно-фильтрующий блок Aili Industrial FFU . Вы также можете связаться с Aili Industrial для поддержки проекта.