Comment le FFU semi-conducteur coopère-t-il avec le contrôle AMC ? Comment répartir le travail entre la filtration particulaire et la filtration chimique
Dans les salles blanches pour semi-conducteurs, les particules et l’AMC ne sont pas la même chose
Les besoins en air des salles blanches pour semi-conducteurs sont souvent appelés « propreté ». Cependant, dans les environnements de traitement réels, les polluants présents dans l'air sont au moins divisés en deux catégories : l'une est constituée de particules en suspension, comprenant la poussière, les fibres, les particules métalliques, les supports microbiens, etc. ; l'autre est constitué de polluants moléculaires gazeux, à savoir l'AMC (Airborne Molecular Contamination), comprenant les gaz acides, les gaz alcalins, les gaz organiques, les gaz dopés, etc.
Les sources, les voies de danger et les méthodes de contrôle de ces deux types de polluants sont différentes. Les particules sont principalement interceptées par les filtres HEPA ou ULPA, tandis que l'AMC nécessite une adsorption ou une élimination par réaction par des matériaux filtrants chimiques. En tant qu'équipement de base pour la filtration par circulation et l'alimentation en air des salles blanches, FFU est principalement responsable des tâches de contrôle des particules. Cependant, si le projet comporte des exigences de contrôle AMC, le FFU et le système de filtration chimique doivent être considérés ensemble au lieu de simplement augmenter le niveau HEPA.
Dans les projets supportant les FFU de semi-conducteurs, Aili Industries recommande généralement de clarifier les types de polluants et les concentrations cibles avant de décider de la division du travail entre FFU et filtration chimique afin d'éviter de mélanger les deux types de problématiques. Pour la structure de base de la machine FFU, vous pouvez vous référer àUnité de filtre de ventilateur Aili Industrial FFU。
Division du travail : frontières entre filtration particulaire et filtration chimique
La filtration des particules résout le problème des « matières en suspension ou gouttelettes de liquide dans l'air ». Les filtres HEPA ont une efficacité de filtration claire pour les particules de 0,3 micron, et les filtres ULPA ont une efficacité plus élevée pour les particules plus petites. Le FFU utilise un ventilateur pour faire passer l'air à travers le filtre à haute efficacité, piéger les particules sur le matériau filtrant, puis les envoyer vers la zone propre. L'efficacité de la filtration des particules est liée à l'efficacité du filtre, à l'intégrité des joints, à la couverture de l'air soufflé et à l'organisation du flux d'air ambiant.
La filtration chimique résout le problème des « molécules gazeuses dans l'air ». La taille des particules des molécules AMC est beaucoup plus petite que celle des particules et ne peut pas être interceptée efficacement par HEPA ou ULPA. Les filtres chimiques utilisent généralement du charbon actif, du charbon actif imprégné, des matériaux échangeurs d'ions ou d'autres supports d'adsorption pour éliminer les gaz cibles par adsorption ou réactions chimiques. L'effet de la filtration chimique est lié au type de gaz cible, à la concentration, au choix du matériau filtrant, au temps de contact et au cycle de remplacement.
Les objets d'évaluation des deux sont différents. La filtration des particules examine le nombre de particules et l'efficacité de la filtration, tandis que la filtration chimique examine la concentration du gaz cible et le taux d'élimination. L’augmentation du niveau HEPA de H13 à U15 n’améliorera pas automatiquement les problèmes d’AMC et ne remplacera pas non plus la filtration chimique.
Le rôle de la FFU dans le contrôle de l'AMC
FFU elle-même n'assume généralement pas la tâche de traitement AMC, mais elle peut devenir l'un des transporteurs de filtration chimique. Dans certaines solutions de salle blanche pour semi-conducteurs, le FFU peut être équipé de filtres chimiques pour former une unité d'alimentation en air combinée de « filtration de particules et filtration chimique ». L'avantage de cette configuration est que l'extrémité d'alimentation en air traite simultanément les particules et les polluants gazeux, ce qui convient aux zones soumises à des exigences de contrôle local pour l'AMC.
Cependant, lorsque FFU est équipé d’une filtration chimique, plusieurs problèmes supplémentaires doivent être pris en compte. La résistance des matériaux filtrants chimiques est généralement supérieure à celle du HEPA ordinaire. Lorsqu'il est superposé, cela affectera le point de fonctionnement du FFU, et la pression statique du ventilateur et le volume d'air doivent être revérifiés. L'épaisseur, la méthode d'installation et le cycle de remplacement des matériaux filtrants chimiques sont différents de ceux du HEPA, ce qui affectera l'espace de maintenance et le chemin de remplacement du FFU. La durée de vie des matériaux filtrants chimiques est affectée par la concentration du gaz cible et la durée de fonctionnement, et ne peut pas être traitée selon la logique de remplacement HEPA.
Si le projet nécessite une filtration chimique compatible FFU, vous pouvez vous référer àLes filtres chimiques FFU comprennent la structure de l'adaptateur. Aili Industrial dispose également d'une gamme complète de produits en matière de filtration chimique et de contrôle de la pollution moléculaire AMC, qui peut être consultéeFiltres chimiques et contrôle de la contamination moléculaire AMC Découvrez les options de filtration pour différents gaz cibles.
L'impact de la superposition de résistances sur la sélection des FFU
Lorsque le FFU est équipé à la fois d’un filtre à particules et d’un filtre chimique, la résistance du système augmente considérablement. Le ventilateur doit maintenir le volume d'air cible sous une résistance plus élevée, ce qui impose des exigences plus élevées en matière de capacité de pression statique du FFU. Si la filtration chimique est directement installée selon la configuration d'un HEPA FFU ordinaire, un volume d'air insuffisant, une vitesse accrue, un bruit accru ou une charge moteur accrue peuvent se produire.
Par conséquent, dans le projet de contrôle AMC, la sélection des FFU doit non seulement examiner le niveau d'efficacité du HEPA, mais également confirmer les caractéristiques de résistance, l'emplacement d'installation et le cycle de remplacement prévu du filtre chimique. Pour les zones qui doivent traiter à la fois des particules et de l'AMC, il est recommandé que le FFU, le filtre chimique et le système d'alimentation en air ambiant soient pris en compte dans leur ensemble, plutôt que sélectionnés séparément.
Aili Industrial dispose de capacités de production complètes de machines complètes FFU, de filtres chimiques et d'accessoires système. Il peut rendre compte globalement de la correspondance des ventilateurs, des filtres et des contrôleurs, aidant ainsi les projets à maintenir des performances d'alimentation en air stables après l'ajout d'une filtration chimique. Concernant les caractéristiques de pression statique et de volume d'air des différentes structures FFU, veuillez vous référer àde l'unité de filtrage du ventilateur DC .Découvrez la configuration spécifique
Le contrôle AMC n'est pas seulement un problème de filtre
Le contrôle de l'AMC implique les sources de pollution, les voies de circulation de l'air, les matériaux de filtrage et les méthodes de surveillance, et ne peut être résolu par un seul filtre. Dans les salles blanches de semi-conducteurs, l'AMC peut provenir de l'air frais extérieur, des gaz d'échappement des équipements de traitement, du stockage de produits chimiques, des opérations du personnel, des rejets de matériaux de construction, etc. Si la source de pollution n'est pas identifiée, l'ajout d'une filtration chimique uniquement à la fin du FFU peut ne pas résoudre le problème des concentrations locales élevées.
En fonctionnement réel, le contrôle AMC doit généralement être coordonné avec le traitement de l'air neuf, l'évacuation des procédés, l'organisation de l'air de retour et l'isolation régionale. La fonction du FFU est de fournir une alimentation en air filtré en circulation. Il peut coopérer avec la filtration chimique pour réduire la concentration d'AMC dans l'air soufflé, mais il ne peut pas remplacer le contrôle de la source, la conception des gaz d'échappement et la surveillance du système.
Pour les projets de semi-conducteurs, il est recommandé de clarifier les objectifs de l'AMC, l'emplacement des sources de pollution, les points de surveillance et les stratégies de contrôle pendant la phase de conception, puis de déterminer si le FFU nécessite une filtration chimique de soutien, et si la filtration chimique est installée à l'intérieur du FFU, à l'extrémité de la CTA ou dans une unité de filtration chimique indépendante.
Problèmes qui doivent être confirmés à l'avance lors de la communication du projet
Dans les projets de contrôle des semi-conducteurs FFU et AMC, il est recommandé de confirmer les éléments suivants auprès du fabricant de FFU et du fournisseur de filtration chimique : type de gaz cible et plage de concentration ; Cibles de contrôle AMC et matériaux de filtrage recommandés ; caractéristiques de résistance et cycles de remplacement des filtres chimiques ; performances du volume d'air et de la pression statique du FFU après superposition d'une filtration chimique ; emplacement d'installation et espace de remplacement des filtres chimiques ; méthodes de détection de filtration de particules et de filtration chimique ; conditions de surveillance et de jugement de remplacement après le fonctionnement du système.
Ces questions doivent être clarifiées lors de la phase de sélection afin d'éviter des ajustements ultérieurs du plan dus à une résistance incompatible ou à un espace de remplacement insuffisant.
en conclusion
HEPA ou ULPA dans les FFU semi-conducteurs contrôlent principalement les particules, et la pollution gazeuse AMC nécessite une solution de filtration chimique distincte. Les deux types de tâches de filtrage sont différents et ne peuvent se remplacer. Le FFU peut être utilisé comme l'un des supports de filtration chimique, mais la résistance, le volume d'air, la pression statique et les conditions de maintenance doivent être revérifiés.
Aili Industrial dispose de capacités de production complètes de machines complètes FFU, de filtres HEPA/ULPA et de filtres chimiques. Il peut fournir des solutions de support pour la filtration des particules et la filtration chimique pour les projets de semi-conducteurs, aidant ainsi les projets à compléter la division du système de contrôle FFU et AMC dans le but de clarifier le type de pollution. Si vous envisagez une solution de contrôle AMC pour une salle blanche de semi-conducteurs, vous pouvez commencer parUnité de filtre de ventilateur Aili Industrial FFU pour en savoir plus sur la configuration complète de la machine, vous pouvez également consulterFiltres HEPA et ULPA etFiltres chimiques et contrôle de la contamination moléculaire AMC Découvrez les idées de sélection de matériaux filtrants.
