Wie arbeitet die Halbleiter-FFU mit der AMC-Steuerung zusammen? So teilen Sie die Arbeit zwischen Partikelfiltration und chemischer Filtration auf
In Halbleiter-Reinräumen sind Feinstaub und AMC nicht dasselbe
Der Luftbedarf von Halbleiter-Reinräumen wird oft als „Sauberkeit“ bezeichnet. In tatsächlichen Prozessumgebungen werden Schadstoffe in der Luft jedoch mindestens in zwei Kategorien eingeteilt: Zum einen handelt es sich um Schwebstaub, einschließlich Staub, Fasern, Metallpartikel, mikrobielle Träger usw.; Bei der anderen handelt es sich um gasförmige molekulare Schadstoffe, nämlich AMC (Airborne Molecular Contamination), einschließlich saurer Gase, alkalischer Gase, organischer Gase, dotierter Gase usw.
Die Quellen, Gefahrenpfade und Kontrollmethoden dieser beiden Schadstoffarten sind unterschiedlich. Feinstaub wird hauptsächlich durch HEPA- oder ULPA-Filter abgefangen, während AMC eine Adsorption oder Reaktionsentfernung durch chemische Filtermaterialien erfordert. Als Kernausrüstung der Reinraumzirkulationsfiltration und Luftversorgung ist die FFU hauptsächlich für die Feinstaubkontrolle zuständig. Wenn das Projekt jedoch AMC-Kontrollanforderungen hat, müssen FFU und chemisches Filtersystem zusammen betrachtet werden, anstatt einfach den HEPA-Wert zu erhöhen.
Bei Halbleiter-FFU-Unterstützungsprojekten empfiehlt Aili Industries in der Regel, die Arten von Schadstoffen und Zielkonzentrationen zu klären, bevor über die Arbeitsteilung zwischen FFU und chemischer Filtration entschieden wird, um eine Vermischung der beiden Arten von Problemen zu vermeiden. Den Grundaufbau der FFU-Maschine finden Sie unterAili Industrial FFU-Lüfterfiltereinheit。
Arbeitsteilungsgrenzen zwischen Partikelfiltration und chemischer Filtration
Die Partikelfiltration löst das Problem „schwebende Feststoffe oder Flüssigkeitströpfchen in der Luft“. HEPA-Filter haben eine klare Filtereffizienz für Partikel mit einer Größe von 0,3 Mikrometern, und ULPA-Filter haben eine höhere Effizienz für kleinere Partikel. Die FFU nutzt einen Ventilator, um die Luft durch den Hochleistungsfilter zu treiben, die Partikel auf dem Filtermaterial einzufangen und sie dann in den sauberen Bereich zu befördern. Die Wirksamkeit der Partikelfiltration hängt von der Filtereffizienz, der Dichtungsintegrität, der Zuluftabdeckung und der Organisation des Raumluftstroms ab.
Die chemische Filterung löst das Problem der „gasförmigen Moleküle in der Luft“. Die Partikelgröße von AMC-Molekülen ist viel kleiner als die von Feinstaub und kann von HEPA oder ULPA nicht effektiv abgefangen werden. Chemische Filter verwenden üblicherweise Aktivkohle, imprägnierte Aktivkohle, Ionenaustauschermaterialien oder andere Adsorptionsmedien, um Zielgase durch Adsorption oder chemische Reaktionen zu entfernen. Die Wirkung der chemischen Filterung hängt von der Art des Zielgases, der Konzentration, der Auswahl des Filtermaterials, der Kontaktzeit und dem Austauschzyklus ab.
Die Bewertungsobjekte der beiden sind unterschiedlich. Bei der Partikelfiltration werden die Partikelanzahl und die Filtrationseffizienz berücksichtigt, während bei der chemischen Filtration die Zielgaskonzentration und die Entfernungsrate im Vordergrund stehen. Eine Erhöhung des HEPA-Werts von H13 auf U15 führt nicht automatisch zu einer Verbesserung der AMC-Probleme und ersetzt auch nicht die chemische Filterung.
Die Rolle der FFU bei der AMC-Kontrolle
FFU selbst übernimmt in der Regel nicht die Aufgabe der AMC-Behandlung, kann aber einer der Träger der chemischen Filterung werden. In einigen Halbleiter-Reinraumlösungen kann FFU mit chemischen Filtern ausgestattet werden, um eine kombinierte Luftversorgungseinheit aus „Partikelfiltration plus chemischer Filtration“ zu bilden. Der Vorteil dieser Konfiguration besteht darin, dass die Luftzufuhrseite gleichzeitig Partikel und gasförmige Schadstoffe verarbeitet, was für Bereiche mit lokalen Kontrollanforderungen für AMC geeignet ist.
Wenn FFU jedoch mit chemischer Filterung ausgestattet ist, müssen mehrere zusätzliche Aspekte beachtet werden. Die Beständigkeit chemischer Filtermaterialien ist in der Regel höher als die von gewöhnlichem HEPA. Bei Überlagerung wirkt sich dies auf den Arbeitspunkt der FFU aus und der statische Lüfterdruck und die Luftmenge müssen erneut überprüft werden. Die Dicke, Installationsmethode und der Austauschzyklus chemischer Filtermaterialien unterscheiden sich von HEPA, was sich auf den Wartungsraum und den Austauschpfad von FFU auswirkt. Die Lebensdauer chemischer Filtermaterialien wird von der Zielgaskonzentration und der Betriebszeit beeinflusst und kann nicht gemäß der HEPA-Austauschlogik verarbeitet werden.
Wenn das Projekt eine FFU zur Unterstützung der chemischen Filterung erfordert, können Sie darauf verweisenFFU-Chemiefilter verstehen die Adapterstruktur. Aili Industrial verfügt außerdem über eine komplette Produktlinie in den Bereichen chemische Filtration und AMC-Molekularverschmutzungskontrolle, die besichtigt werden kannChemische Filter und AMC Molecular Contamination Control Erfahren Sie mehr über Filtrationsoptionen für verschiedene Zielgase.
Der Einfluss der Widerstandsüberlagerung auf die FFU-Auswahl
Wenn die FFU sowohl mit einem Partikelfilter als auch einem chemischen Filter ausgestattet ist, erhöht sich der Systemwiderstand erheblich. Der Lüfter muss das Zielluftvolumen unter höherem Widerstand aufrechterhalten, was höhere Anforderungen an die statische Druckfähigkeit der FFU stellt. Wenn die chemische Filterung direkt gemäß der Konfiguration einer gewöhnlichen HEPA-FFU installiert wird, kann es zu unzureichendem Luftvolumen, erhöhter Geschwindigkeit, erhöhtem Lärm oder erhöhter Motorlast kommen.
Daher sollte im AMC-Kontrollprojekt bei der FFU-Auswahl nicht nur das Effizienzniveau von HEPA berücksichtigt werden, sondern auch die Widerstandseigenschaften, der Installationsort und der erwartete Austauschzyklus des chemischen Filters bestätigt werden. Für Bereiche, in denen sowohl mit Feinstaub als auch mit AMC zu rechnen ist, wird empfohlen, die FFU, den chemischen Filter und das Raumluftversorgungssystem als Ganzes zu berücksichtigen und nicht separat auszuwählen.
Aili Industrial verfügt über umfassende Produktionskapazitäten für FFU-Komplettmaschinen, chemische Filter und Systemzubehör. Es kann eine Gesamtbilanz über die Abstimmung von Ventilatoren, Filtern und Steuerungen erstellen und so Projekten dabei helfen, nach der Hinzufügung chemischer Filterung eine stabile Luftversorgungsleistung aufrechtzuerhalten. Informationen zu den statischen Druck- und Luftvolumeneigenschaften verschiedener FFU-Strukturen finden Sie unterder DC-Lüfterfiltereinheit .Erfahren Sie mehr über die spezifische Konfiguration
Die AMC-Steuerung ist nicht nur ein Filterproblem
Die AMC-Kontrolle umfasst Verschmutzungsquellen, Luftströmungswege, Filtermaterialien und Überwachungsmethoden und kann nicht durch nur einen Filter gelöst werden. In Halbleiter-Reinräumen kann AMC aus der Außenluft, den Abgasen von Prozessanlagen, der Lagerung von Chemikalien, Personalvorgängen, der Freisetzung von Baumaterialien usw. stammen. Wenn die Quelle der Verschmutzung nicht identifiziert wird, kann das Problem hoher lokaler Konzentrationen durch die Hinzufügung einer chemischen Filterung erst am Ende der FFU möglicherweise nicht gelöst werden.
Im tatsächlichen Betrieb muss die AMC-Steuerung normalerweise mit der Frischluftaufbereitung, der Prozessabsaugung, der Rückluftorganisation und der regionalen Isolierung koordiniert werden. Die Funktion von FFU besteht darin, eine zirkulierende gefilterte Luftversorgung bereitzustellen. Es kann mit chemischer Filterung zusammenarbeiten, um die AMC-Konzentration in der Zuluft zu reduzieren, es kann jedoch keine Quellenkontrolle, Abgaskonstruktion und Systemüberwachung ersetzen.
Bei Halbleiterprojekten wird empfohlen, die AMC-Ziele, Standorte der Verschmutzungsquellen, Überwachungspunkte und Kontrollstrategien während der Entwurfsphase zu klären und dann zu bestimmen, ob die FFU eine unterstützende chemische Filterung erfordert und ob die chemische Filterung innerhalb der FFU, am Ende der AHU oder in einer unabhängigen chemischen Filtereinheit installiert ist.
Probleme, die im Rahmen der Projektkommunikation vorab bestätigt werden sollten
Bei Halbleiter-FFU- und AMC-Kontrollprojekten wird empfohlen, Folgendes mit dem FFU-Hersteller und dem Lieferanten der chemischen Filterung zu bestätigen: Zielgastyp und Konzentrationsbereich; AMC-Kontrollziele und empfohlene Filtermaterialien; Widerstandseigenschaften und Austauschzyklen chemischer Filter; Luftvolumen und statische Druckleistung von FFU nach überlagerter chemischer Filterung; Installationsort und Austauschraum chemischer Filter; Nachweismethoden der Partikelfiltration und chemischen Filtration; Überwachungs- und Ersatzbeurteilungsbedingungen nach dem Systembetrieb.
Diese Fragen müssen in der Auswahlphase geklärt werden, um spätere Anpassungen des Plans aufgrund nicht übereinstimmender Widerstände oder unzureichender Ersatzflächen zu vermeiden.
abschließend
HEPA oder ULPA in Halbleiter-FFU kontrolliert hauptsächlich Feinstaub, und die gasförmige AMC-Verschmutzung erfordert eine separate chemische Filterlösung. Die beiden Arten von Filteraufgaben sind unterschiedlich und können sich nicht gegenseitig ersetzen. FFU kann als einer der Träger der chemischen Filterung verwendet werden, allerdings müssen der Widerstand, das Luftvolumen, der statische Druck und die Wartungsbedingungen erneut überprüft werden.
Aili Industrial verfügt über umfassende Produktionskapazitäten für FFU-Komplettmaschinen, HEPA/ULPA-Filter und chemische Filter. Es kann unterstützende Lösungen für die Partikelfiltration und chemische Filtration für Halbleiterprojekte bereitstellen und Projekte dabei unterstützen, die Systemaufteilung der FFU- und AMC-Kontrolle unter der Prämisse der Klärung der Art der Verschmutzung abzuschließen. Wenn Sie eine AMC-Steuerungslösung für einen Halbleiter-Reinraum planen, können Sie damit beginnenAili Industrial FFU-Lüfterfiltereinheit, um mehr über die komplette Maschinenkonfiguration zu erfahren, können Sie auch ansehenHEPA- und ULPA-Filter undChemische Filter und AMC Molecular Contamination Control Erfahren Sie mehr über Ideen zur Auswahl von Filtermaterialien.
