Как полупроводниковый ФФУ взаимодействует с управлением АМС? Как разделить работу между фильтрацией частиц и химической фильтрацией

В чистых полупроводниковых помещениях твердые частицы и AMC — это не одно и то же.

Требования к воздуху в чистых помещениях полупроводников часто называют «чистотой». Однако в реальных технологических средах загрязняющие вещества в воздухе делятся как минимум на две категории: одна — взвешенные твердые частицы, включая пыль, волокна, металлические частицы, микробные переносчики и т. д.; другой - газообразные молекулярные загрязнители, а именно AMC (молекулярное загрязнение воздуха), включая кислые газы, щелочные газы, органические газы, легированные газы и т. д.

Источники, пути распространения опасностей и методы борьбы с этими двумя типами загрязнителей различны. Твердые частицы в основном улавливаются фильтрами HEPA или ULPA, тогда как AMC требует адсорбции или реакционного удаления с помощью химических фильтрующих материалов. Являясь основным оборудованием для циркуляционной фильтрации и подачи воздуха в чистых помещениях, FFU в основном отвечает за задачи по контролю твердых частиц. Однако, если в проекте предусмотрены требования по контролю AMC, FFU и систему химической фильтрации необходимо рассматривать вместе, а не просто повышать уровень HEPA.

В проектах по поддержке полупроводниковых FFU компания Aili Industries обычно рекомендует уточнять типы загрязняющих веществ и целевые концентрации, прежде чем принимать решение о разделении труда между FFU и химической фильтрацией, чтобы избежать смешивания двух типов проблем. Базовую структуру машины FFU вы можете найти вФильтрующий вентилятор Aili Industrial FFU。

Разделение трудовых границ между фильтрацией частиц и химической фильтрацией

Фильтрация частиц решает проблему «взвешенных твердых частиц или капель жидкости в воздухе». Фильтры HEPA имеют четкую эффективность фильтрации для частиц размером 0,3 микрона, а фильтры ULPA имеют более высокую эффективность для более мелких частиц. FFU использует вентилятор, который прогоняет воздух через высокоэффективный фильтр, улавливает твердые частицы на фильтрующем материале и затем отправляет их в чистую зону. Эффективность фильтрации частиц связана с эффективностью фильтра, целостностью уплотнений, охватом приточного воздуха и организацией воздушного потока в помещении.

Химическая фильтрация решает проблему «газообразных молекул в воздухе». Размер частиц молекул AMC намного меньше, чем твердых частиц, и их невозможно эффективно перехватить с помощью HEPA или ULPA. В химических фильтрах обычно используется активированный уголь, пропитанный активированный уголь, ионообменные материалы или другие адсорбционные материалы для удаления целевых газов посредством адсорбции или химических реакций. Эффект химической фильтрации зависит от типа целевого газа, концентрации, выбора фильтрующего материала, времени контакта и цикла замены.

Объекты оценки у них разные. При фильтрации частиц учитывается количество частиц и эффективность фильтрации, тогда как при химической фильтрации учитывается целевая концентрация газа и скорость удаления. Повышение уровня HEPA с H13 до U15 не улучшит автоматически проблемы AMC и не заменит химическую фильтрацию.

Роль ФФУ в контроле КУА

Сама ФФУ обычно не берет на себя задачу очистки АМК, но может стать одним из носителей химической фильтрации. В некоторых решениях для чистых помещений с полупроводниками FFU может быть оснащен химическими фильтрами, образующими комбинированный блок подачи воздуха «фильтрация частиц плюс химическая фильтрация». Преимущество этой конфигурации заключается в том, что со стороны подачи воздуха одновременно обрабатываются твердые частицы и газообразные загрязняющие вещества, что подходит для зон с требованиями местного контроля AMC.

Однако, когда FFU оснащен химической фильтрацией, необходимо обратить внимание на несколько дополнительных вопросов. Сопротивление материалов химических фильтров обычно выше, чем у обычных HEPA. При наложении это повлияет на рабочую точку ФФУ, поэтому необходимо перепроверить статическое давление вентилятора и объем воздуха. Толщина, метод установки и цикл замены материалов химических фильтров отличаются от HEPA, что повлияет на пространство для обслуживания и путь замены FFU. Срок службы материалов химических фильтров зависит от целевой концентрации газа и времени работы, и их нельзя обрабатывать в соответствии с логикой замены HEPA.

Если проект требует FFU, поддерживающего химическую фильтрацию, вы можете обратиться кХимические фильтры FFU понимают структуру адаптера. Aili Industrial также предлагает полную линейку продуктов в области химической фильтрации и контроля молекулярного загрязнения AMC, которую можно просмотреть.Химические фильтры и молекулярный контроль загрязнения AMC Узнайте о вариантах фильтрации для различных целевых газов.

Влияние суперпозиции сопротивления на выбор FFU

Когда FFU оснащен фильтром твердых частиц и химическим фильтром, сопротивление системы значительно возрастает. Вентилятору необходимо поддерживать целевой объем воздуха при более высоком сопротивлении, что предъявляет более высокие требования к статическому давлению FFU. Если химическая фильтрация установлена ​​непосредственно в соответствии с конфигурацией обычного HEPA FFU, может возникнуть недостаточный объем воздуха, повышенная скорость, повышенный шум или повышенная нагрузка на двигатель.

Таким образом, в проекте управления AMC при выборе FFU следует не только учитывать уровень эффективности HEPA, но также подтверждать характеристики сопротивления, место установки и ожидаемый цикл замены химического фильтра. Для помещений, где необходимо обрабатывать как твердые частицы, так и АМС, рекомендуется учитывать FFU, химический фильтр и систему подачи воздуха в помещении в целом, а не выбирать их по отдельности.

Aili Industrial располагает полными производственными мощностями по производству комплектных машин FFU, химических фильтров и системных аксессуаров. Он может производить общий учет соответствия вентиляторов, фильтров и контроллеров, помогая проектам поддерживать стабильную производительность подачи воздуха после добавления химической фильтрации. Относительно характеристик статического давления и объема воздуха в различных конструкциях ФФУ см.блока фильтра вентилятора постоянного тока .Узнайте о конкретной конфигурации

Управление AMC – это не просто проблема с фильтром

Контроль AMC включает в себя источники загрязнения, пути воздушного потока, фильтрующие материалы и методы мониторинга и не может быть решен с помощью одного фильтра. В чистых полупроводниковых помещениях АМС может поступать из наружного свежего воздуха, выхлопов технологического оборудования, складов химикатов, операций персонала, выбросов строительных материалов и т. д. Если источник загрязнения не идентифицирован, добавление химической фильтрации только в конце FFU может не решить проблему высоких локальных концентраций.

В реальной эксплуатации управление AMC обычно необходимо координировать с обработкой свежего воздуха, технологическими выхлопами, организацией возвратного воздуха и региональной изоляцией. Функция ФФУ – обеспечить подачу циркулирующего фильтрованного воздуха. Он может взаимодействовать с химической фильтрацией для снижения концентрации АМС в приточном воздухе, но не может заменить контроль источника, конструкцию выхлопа и мониторинг системы.

Для проектов полупроводников рекомендуется уточнить цели AMC, расположение источников загрязнения, точки мониторинга и стратегии контроля на этапе проектирования, а затем определить, требует ли FFU поддерживающей химической фильтрации и установлена ​​ли химическая фильтрация внутри FFU, в конце AHU или в независимом блоке химической фильтрации.

Проблемы, которые должны быть подтверждены заранее во время обсуждения проекта

В проектах управления полупроводниковыми ФФУ и АМК рекомендуется уточнить у производителя ФФУ и поставщика химической фильтрации: тип целевого газа и диапазон концентраций; Целевые показатели контроля AMC и рекомендуемые фильтрующие материалы; характеристики сопротивления и цикличность замены химических фильтров; производительность воздушного объема и статического давления ФФУ после наложения химической фильтрации; место установки и место замены химических фильтров; методы обнаружения фильтрации частиц и химической фильтрации; мониторинг и замена условий после эксплуатации системы.

Эти вопросы необходимо уточнить на этапе выбора, чтобы избежать последующих корректировок плана из-за несоответствующего сопротивления или недостаточного места для замены.

в заключение

HEPA или ULPA в полупроводниковых FFU в основном контролируют твердые частицы, а газовое загрязнение AMC требует отдельного решения для химической фильтрации. Два типа задач фильтрации различны и не могут заменить друг друга. ФФУ можно использовать как один из носителей химической фильтрации, однако необходимо перепроверить сопротивление, объем воздуха, статическое давление и условия эксплуатации.

Компания Aili Industrial располагает полными производственными мощностями по производству комплектных машин FFU, фильтров HEPA/ULPA и химических фильтров. Он может предоставить вспомогательные решения для фильтрации частиц и химической фильтрации для проектов по производству полупроводников, помогая проектам завершить системное разделение контроля FFU и AMC с целью выяснения типа загрязнения. Если вы планируете использовать решение AMC для чистой комнаты с полупроводниками, вы можете начать сБлок фильтра вентилятора Aili Industrial FFU , чтобы узнать о полной конфигурации машины, вы также можете просмотретьHEPA и ULPA фильтры иХимические фильтры и контроль молекулярного загрязнения AMC Узнайте об идеях выбора фильтрующего материала.