¿Cómo coopera la FFU de semiconductores con el control AMC? Cómo dividir el trabajo entre filtración de partículas y filtración química
En las salas blancas de semiconductores, las partículas y el AMC no son lo mismo
Los requisitos de aire de las salas blancas de semiconductores a menudo se denominan 'limpieza'. Sin embargo, en entornos de proceso reales, los contaminantes en el aire se dividen al menos en dos categorías: una son las partículas suspendidas, que incluyen polvo, fibras, partículas metálicas, portadores microbianos, etc.; el otro son los contaminantes moleculares gaseosos, a saber, AMC (contaminación molecular transportada por el aire), incluidos gases ácidos, gases alcalinos, gases orgánicos, gases dopados, etc.
Las fuentes, las vías de peligro y los métodos de control de estos dos tipos de contaminantes son diferentes. Las partículas son interceptadas principalmente por filtros HEPA o ULPA, mientras que el AMC requiere adsorción o eliminación de reacción mediante materiales filtrantes químicos. Como equipo principal de filtración por circulación de sala limpia y suministro de aire, FFU es el principal responsable de las tareas de control de partículas. Sin embargo, si el proyecto tiene requisitos de control de AMC, la FFU y el sistema de filtración química deben considerarse juntos en lugar de simplemente aumentar el nivel de HEPA.
En los proyectos de apoyo a FFU de semiconductores, Aili Industries generalmente recomienda aclarar los tipos de contaminantes y las concentraciones objetivo antes de decidir sobre la división del trabajo entre FFU y filtración química para evitar mezclar los dos tipos de problemas. Para conocer la estructura básica de la máquina FFU, puede consultarUnidad de filtrado de ventilador Aili Industrial FFU。
División de los límites laborales entre la filtración de partículas y la filtración química
La filtración de partículas resuelve el problema de los 'sólidos en suspensión o gotas de líquido en el aire'. Los filtros HEPA tienen una clara eficiencia de filtración para partículas de 0,3 micrones y los filtros ULPA tienen una mayor eficiencia para partículas más pequeñas. La FFU utiliza un ventilador para impulsar el aire a través del filtro de alta eficiencia, atrapar las partículas en el material del filtro y luego enviarlas al área limpia. La eficacia de la filtración de partículas está relacionada con la eficiencia del filtro, la integridad del sello, la cobertura del suministro de aire y la organización del flujo de aire de la habitación.
La filtración química resuelve el problema de las 'moléculas gaseosas en el aire'. El tamaño de las partículas de las moléculas de AMC es mucho más pequeño que el de las partículas y no puede ser interceptado eficazmente por HEPA o ULPA. Los filtros químicos suelen utilizar carbón activado, carbón activado impregnado, materiales de intercambio iónico u otros medios de adsorción para eliminar los gases objetivo mediante adsorción o reacciones químicas. El efecto de la filtración química está relacionado con el tipo de gas objetivo, la concentración, la selección del material del filtro, el tiempo de contacto y el ciclo de reemplazo.
Los objetos de evaluación de los dos son diferentes. La filtración de partículas analiza el recuento de partículas y la eficiencia de la filtración, mientras que la filtración química analiza la concentración de gas objetivo y la tasa de eliminación. Aumentar el nivel de HEPA de H13 a U15 no mejorará automáticamente los problemas de AMC ni reemplazará la filtración química.
El papel de la FFU en el control del AMC
La propia FFU no suele encargarse de la tarea de tratamiento del AMC, pero puede convertirse en uno de los portadores de la filtración química. En algunas soluciones de sala limpia de semiconductores, las FFU pueden equiparse con filtros químicos para formar una unidad de suministro de aire combinada de 'filtración de partículas más filtración química'. La ventaja de esta configuración es que el extremo del suministro de aire maneja partículas y contaminantes gaseosos al mismo tiempo, lo que es adecuado para áreas con requisitos de control local para AMC.
Sin embargo, cuando la FFU está equipada con filtración química, es necesario prestar atención a varias cuestiones adicionales. La resistencia de los materiales filtrantes químicos suele ser mayor que la de los HEPA ordinarios. Cuando se superpone, afectará el punto de trabajo de la FFU y será necesario volver a verificar la presión estática del ventilador y el volumen de aire. El espesor, el método de instalación y el ciclo de reemplazo de los materiales de filtro químicos son diferentes de los HEPA, lo que afectará el espacio de mantenimiento y la ruta de reemplazo de FFU. La vida útil de los materiales de los filtros químicos se ve afectada por la concentración de gas objetivo y el tiempo de funcionamiento, y no pueden procesarse según la lógica de reemplazo HEPA.
Si el proyecto requiere FFU que respalde la filtración química, puede consultarLos filtros químicos FFU comprenden la estructura del adaptador. Aili Industrial también tiene una línea completa de productos en filtración química y control de contaminación molecular AMC, que se puede verFiltros químicos y control de contaminación molecular AMC Conozca las opciones de filtración para diferentes gases objetivo.
El impacto de la superposición de resistencias en la selección de FFU.
Cuando la FFU está equipada con un filtro de partículas y un filtro químico, la resistencia del sistema aumentará significativamente. El ventilador necesita mantener el volumen de aire objetivo bajo una mayor resistencia, lo que impone mayores requisitos a la capacidad de presión estática de la FFU. Si la filtración química se instala directamente de acuerdo con la configuración de HEPA FFU ordinaria, puede producirse un volumen de aire insuficiente, mayor velocidad, mayor ruido o mayor carga del motor.
Por lo tanto, en el proyecto de control de AMC, la selección de FFU no solo debe considerar el nivel de eficiencia de HEPA, sino también confirmar las características de resistencia, la ubicación de instalación y el ciclo de reemplazo esperado del filtro químico. Para áreas que necesitan manejar tanto partículas como AMC, se recomienda tener en cuenta la FFU, el filtro químico y el sistema de suministro de aire ambiental como un todo, en lugar de seleccionarlos por separado.
Aili Industrial tiene capacidades de producción completas en máquinas completas FFU, filtros químicos y accesorios de sistemas. Puede realizar una contabilidad general de la combinación de ventiladores, filtros y controladores, lo que ayuda a los proyectos a mantener un rendimiento estable del suministro de aire después de agregar filtración química. Con respecto a las características de presión estática y volumen de aire de diferentes estructuras FFU, consultede la unidad de filtro de ventilador de CC .Conozca la configuración específica
El control de AMC no es sólo una cuestión de filtro
El control de AMC involucra fuentes de contaminación, rutas de flujo de aire, materiales de filtrado y métodos de monitoreo, y no puede resolverse con un solo filtro. En las salas limpias de semiconductores, el AMC puede provenir del aire fresco del exterior, escapes de equipos de proceso, almacenamiento de químicos, operaciones del personal, liberación de materiales de construcción, etc. Si no se identifica la fuente de contaminación, agregar filtración química solo al final de la FFU puede no resolver el problema de las altas concentraciones locales.
En la operación real, el control del AMC generalmente debe coordinarse con el tratamiento del aire fresco, el escape del proceso, la organización del aire de retorno y el aislamiento regional. La función de FFU es proporcionar suministro de aire filtrado circulante. Puede cooperar con la filtración química para reducir la concentración de AMC en el aire de suministro, pero no puede reemplazar el control de fuente, el diseño de escape y el monitoreo del sistema.
Para proyectos de semiconductores, se recomienda aclarar los objetivos del AMC, las ubicaciones de las fuentes de contaminación, los puntos de monitoreo y las estrategias de control durante la etapa de diseño, y luego determinar si la FFU requiere filtración química de soporte y si la filtración química se instala dentro de la FFU, al final de la AHU o en una unidad de filtración química independiente.
Cuestiones que deben confirmarse con antelación durante la comunicación del proyecto
En proyectos de control de semiconductores FFU y AMC, se recomienda confirmar lo siguiente con el fabricante de FFU y el proveedor de filtración química: tipo de gas objetivo y rango de concentración; objetivos de control de AMC y materiales de filtrado recomendados; características de resistencia y ciclos de sustitución de filtros químicos; rendimiento del volumen de aire y presión estática de las FFU después de superponer la filtración química; ubicación de instalación y espacio de reemplazo de filtros químicos; métodos de detección de filtración de partículas y filtración química; condiciones de juicio de monitoreo y reemplazo después de la operación del sistema.
Estas cuestiones deben aclararse en la etapa de selección para evitar ajustes posteriores al plan debido a resistencias no coincidentes o espacio de reemplazo insuficiente.
en conclusión
HEPA o ULPA en semiconductores FFU controlan principalmente las partículas, y la contaminación gaseosa AMC requiere una solución de filtración química separada. Los dos tipos de tareas de filtrado son diferentes y no pueden reemplazarse entre sí. FFU se puede utilizar como uno de los portadores de filtración química, pero es necesario volver a verificar la resistencia, el volumen de aire, la presión estática y las condiciones de mantenimiento.
Aili Industrial tiene capacidades de producción completas en máquinas completas FFU, filtros HEPA/ULPA y filtros químicos. Puede proporcionar soluciones de soporte para filtración de partículas y filtración química para proyectos de semiconductores, ayudando a los proyectos a completar la división de sistemas de control FFU y AMC con la premisa de aclarar el tipo de contaminación. Si está planificando una solución de control AMC para una sala limpia de semiconductores, puede comenzar conUnidad de filtro de ventilador Aili Industrial FFU para conocer la configuración completa de la máquina, también puede verFiltros HEPA y ULPA yFiltros químicos y control de contaminación molecular AMC Conozca ideas para la selección de materiales de filtro.
