반도체 FFU는 AMC 제어와 어떻게 협력합니까? 입자 여과와 화학적 여과의 작업을 구분하는 방법
반도체 클린룸에서 미세먼지와 AMC는 같은 것이 아닙니다
반도체 클린룸의 공기 요구 사항을 종종 '청정도'라고 합니다. 그러나 실제 공정 환경에서 공기 중 오염물질은 적어도 두 가지 범주로 나뉩니다. 하나는 먼지, 섬유, 금속 입자, 미생물 운반체 등을 포함하는 부유 입자상 물질입니다. 다른 하나는 산성 가스, 알칼리성 가스, 유기 가스, 도핑 가스 등을 포함하는 기체 분자 오염 물질, 즉 AMC(공기 분자 오염)입니다.
이 두 가지 유형의 오염물질의 출처, 위험 경로 및 제어 방법은 서로 다릅니다. 입자상 물질은 주로 HEPA 또는 ULPA 필터에 의해 차단되는 반면 AMC는 화학 필터 재료에 의한 흡착 또는 반응 제거가 필요합니다. FFU는 클린룸 순환 여과 및 공기 공급의 핵심 장비로서 주로 입자상 물질 제어 작업을 담당합니다. 그러나 프로젝트에 AMC 제어 요구 사항이 있는 경우 단순히 HEPA 수준을 높이는 것이 아니라 FFU와 화학 여과 시스템을 함께 고려해야 합니다.
반도체 FFU 지원 프로젝트에서 Aili Industries는 일반적으로 두 가지 유형의 문제가 혼합되는 것을 피하기 위해 FFU와 화학 여과 간의 작업 분담을 결정하기 전에 오염 물질 유형과 목표 농도를 명확히 할 것을 권장합니다. FFU 기계의 기본 구조에 대해서는 다음을 참조하십시오.Aili 산업용 FFU 팬 필터 장치。
입자 여과와 화학적 여과 사이의 노동 경계 구분
입자 여과는 '공기 중의 부유 고체 또는 액체 방울' 문제를 해결합니다. HEPA 필터는 0.3 미크론 입자에 대해 명확한 여과 효율을 가지며, ULPA 필터는 더 작은 입자에 대해 더 높은 효율을 갖습니다. FFU는 팬을 사용하여 고효율 필터를 통해 공기를 구동하고 입자상 물질을 필터 재료에 가둔 다음 청정 구역으로 보냅니다. 입자 여과의 효과는 필터 효율성, 밀봉 무결성, 공급 공기 범위 및 실내 공기 흐름 구성과 관련이 있습니다.
화학적 여과는 '공기 중의 기체 분자' 문제를 해결합니다. AMC 분자의 입자 크기는 입자상 물질보다 훨씬 작으며 HEPA 또는 ULPA에 의해 효과적으로 차단될 수 없습니다. 화학 필터는 일반적으로 활성탄, 함침 활성탄, 이온 교환 물질 또는 기타 흡착 매체를 사용하여 흡착 또는 화학 반응을 통해 대상 가스를 제거합니다. 화학적 여과의 효과는 대상 가스 유형, 농도, 필터 재료 선택, 접촉 시간 및 교체 주기와 관련이 있습니다.
둘의 평가 대상은 다르다. 입자 여과는 입자 수와 여과 효율성을 살펴보는 반면, 화학적 여과는 목표 가스 농도와 제거율을 살펴봅니다. H13에서 U15로 HEPA 수준을 높이더라도 AMC 문제가 자동으로 개선되지 않으며 화학적 여과를 대체하지도 않습니다.
AMC 제어에서 FFU의 역할
FFU 자체는 일반적으로 AMC 처리 작업을 수행하지 않지만 화학적 여과의 운반체 중 하나가 될 수 있습니다. 일부 반도체 클린룸 솔루션에서는 FFU에 화학 필터를 장착하여 '입자 여과 + 화학 여과'의 결합된 공기 공급 장치를 형성할 수 있습니다. 이 구성의 장점은 공기 공급단이 입자상 물질과 기체 오염물질을 동시에 처리한다는 점이며, 이는 AMC에 대한 국지적 제어 요구 사항이 있는 지역에 적합합니다.
그러나 FFU에 화학적 여과 장치가 장착된 경우 몇 가지 추가적인 문제에 주의해야 합니다. 화학 필터 재료의 저항은 일반적으로 일반 HEPA의 저항보다 높습니다. 중첩되면 FFU의 작동 지점에 영향을 미치며 팬 정압과 풍량을 다시 확인해야 합니다. 케미컬 필터 재질의 두께, 설치 방법, 교체 주기가 HEPA와 다르기 때문에 FFU의 유지 관리 공간과 교체 경로에 영향을 미칩니다. 케미컬필터 소재의 수명은 대상가스 농도 및 작동시간에 영향을 받으며, HEPA 교체 논리에 따라 처리할 수 없습니다.
프로젝트에 화학 여과를 지원하는 FFU가 필요한 경우 다음을 참조할 수 있습니다.FFU 화학 필터는 어댑터 구조를 이해합니다. Aili Industrial은 또한 화학 여과 및 AMC 분자 오염 제어 분야의 완전한 제품 라인을 보유하고 있습니다.화학 필터 및 AMC 분자 오염 제어 다양한 대상 가스에 대한 여과 옵션에 대해 알아보세요.
FFU 선택에 대한 저항 중첩의 영향
FFU에 입자 필터와 화학 필터가 모두 장착되어 있으면 시스템 저항이 크게 증가합니다. 팬은 더 높은 저항 하에서 목표 풍량을 유지해야 하므로 FFU의 정압 기능에 대한 요구 사항이 더 높아집니다. 일반 HEPA FFU의 구성에 따라 화학적 여과장치를 직접 설치할 경우 풍량 부족, 속도 증가, 소음 증가, 모터 부하 증가 등이 발생할 수 있습니다.
따라서 AMC 제어사업에 있어서 FFU 선정은 HEPA의 효율수준뿐만 아니라 케미컬필터의 저항특성, 설치위치, 예상 교체주기 등을 함께 확인하여야 한다. 입자상 물질과 AMC를 모두 처리해야 하는 분야의 경우 FFU, 케미컬 필터, 실내 공기 공급 시스템을 별도로 선택하기보다는 전체적으로 고려하는 것이 좋습니다.
Aili Industrial은 FFU 전체 기계, 화학 필터 및 시스템 액세서리 분야에서 완전한 생산 능력을 보유하고 있습니다. 팬, 필터 및 컨트롤러의 일치에 대한 전반적인 회계를 작성하여 프로젝트가 화학적 여과를 추가한 후 안정적인 공기 공급 성능을 유지할 수 있도록 돕습니다. 다양한 FFU 구조의 정압 및 풍량 특성에 대해서는 다음을 참조하십시오.DC 팬 필터 장치의 특정 구성에 대해 알아봅니다 .
AMC 제어는 단순한 필터 문제가 아닙니다
AMC 제어에는 오염원, 기류 경로, 필터 재료 및 모니터링 방법이 포함되며 필터 하나만으로 해결할 수 없습니다. 반도체 클린룸에서 AMC는 실외의 신선한 공기, 공정 장비 배기, 화학 물질 보관, 인력 작업, 건축 자재 배출 등에서 발생할 수 있습니다. 오염 원인이 확인되지 않은 경우 FFU 끝 부분에만 화학 물질 여과를 추가하면 국부적으로 높은 농도 문제가 해결되지 않을 수 있습니다.
실제 작동에서 AMC 제어는 일반적으로 신선한 공기 처리, 공정 배기, 환기 구성 및 지역적 격리와 조화를 이루어야 합니다. FFU의 기능은 순환하는 필터링된 공기 공급을 제공하는 것입니다. 이는 공급 공기의 AMC 농도를 줄이기 위해 화학적 여과와 협력할 수 있지만 소스 제어, 배기 설계 및 시스템 모니터링을 대체할 수는 없습니다.
반도체 프로젝트의 경우 설계 단계에서 AMC 목표, 오염원 위치, 모니터링 지점 및 제어 전략을 명확히 한 다음 FFU에 화학 여과 지원이 필요한지 여부, 화학 여과가 FFU 내부, AHU 끝 또는 독립적인 화학 여과 장치에 설치되는지 여부를 결정하는 것이 좋습니다.
프로젝트 커뮤니케이션 시 사전에 확인해야 할 사항
반도체 FFU 및 AMC 제어 프로젝트에서는 FFU 제조업체 및 화학 여과 공급업체에 다음 사항을 확인하는 것이 좋습니다: 대상 가스 유형 및 농도 범위; AMC 제어 대상 및 권장 필터 재료; 화학필터의 저항특성 및 교체주기; 화학 여과를 중첩한 후 FFU의 풍량 및 정압 성능; 화학필터의 설치 위치 및 교체 공간; 입자 여과 및 화학적 여과의 검출 방법; 시스템 운영 후 모니터링 및 교체 판단 조건.
저항 불일치 또는 교체 공간 부족으로 인해 나중에 계획이 조정되는 것을 방지하려면 선택 단계에서 이러한 문제를 명확히 해야 합니다.
결론적으로
반도체 FFU의 HEPA 또는 ULPA는 주로 입자상 물질을 제어하며 AMC 가스 오염은 별도의 화학 여과 솔루션이 필요합니다. 두 가지 유형의 필터링 작업은 서로 다르며 서로 대체할 수 없습니다. FFU는 화학적 여과의 매개체 중 하나로 사용될 수 있지만 저항, 공기량, 정압 및 유지 관리 조건을 다시 확인해야 합니다.
Aili Industrial은 FFU 전체 기계, HEPA/ULPA 필터 및 화학 필터 분야에서 완벽한 생산 능력을 보유하고 있습니다. 반도체 프로젝트의 입자 여과 및 화학 여과에 대한 지원 솔루션을 제공하여 프로젝트가 오염 유형을 명확히 하는 것을 전제로 FFU 및 AMC 제어의 시스템 분할을 완료하도록 돕습니다. 반도체 클린룸을 위한 AMC 제어 솔루션을 계획하고 계시다면,Aili Industrial FFU 팬 필터 장치를 통해 전체 기계 구성에 대해 알아볼 수도 있습니다.HEPA 및 ULPA 필터 와화학 필터 및 AMC 분자 오염 제어 필터 재료 선택 아이디어에 대해 알아보세요.
