Anzahl der Aufrufe: 5020 Autor: Aili Industry Veröffentlichungszeit: 10.08.2027 Quelle: Ai Li Industrial
Der chemische Filter des Wafer-Zwischenlagerschranks sollte entsprechend den Schutzanforderungen, dem Zielgas, der Umluftmenge und der Materialfreisetzung im Schrank ausgewählt werden. Das Aussehen des Schranks oder die Sauberkeit des Raums können die Gas- und Luftströmungsbedingungen der Mikroumgebung nicht ersetzen. Der temporäre Lagerschrank ist ein kleiner Raum und seine Filterlogik entspricht nicht genau der Konfiguration auf Raumebene.
Das Filterziel des Wafer-Zwischenlagerschranks hängt davon ab, was im Schrank platziert wird, wie lange es aufbewahrt wird und wie die Schranktür geöffnet wird. Der temporäre Lagerschrank kann für einen kurzen Aufenthalt zwischen Prozessen oder für die Lagerung von mehreren Stunden oder sogar länger verwendet werden; Im Schrank können nur Waferboxen oder sowohl Träger als auch Verpackungsmaterialien aufbewahrt werden. Diese Unterschiede wirken sich auf die Zielgasvorräte und Kapazitätsanforderungen aus. Das Schutzobjekt sollte klar definiert werden als Waferoberfläche, die Umgebung innerhalb der Box oder die Luft im Schrank, und dann sollten die Erkennungspunkte und Filterpositionen bestimmt werden. Wenn wir nur pauschal sagen „das Innere des Schrankes muss sauber sein“, gibt es keine vergleichbare Auswahlgrundlage.
Der Zirkulationsluftpfad des Zwischenlagerschranks ist normalerweise kürzer als der des Klimakastens, und die Position des Filterabschnitts hat einen direkteren Einfluss auf die Luftstromabdeckung. Zu den üblichen Anordnungen gehören Zirkulation an der Oberseite des Schranks, Rückluftrückführung, seitliche Luftzufuhr usw. Der Filterabschnitt sollte dort platziert werden, wo der Luftstrom den Wafer-Lagerbereich abdecken kann, und nicht nur auf eine bestimmte Ecke des Schranks. Bei häufigem Öffnen der Schranktür hängt es auch von der Luftzufuhrrichtung und der Luftmenge ab, ob die Außenluft nach dem Betreten rechtzeitig vom Umluftfilterabschnitt bearbeitet werden kann. Informationen zum Unterschied zwischen Mikroumgebung und Raumbedingungen finden Sie unterWelche molekularen Verunreinigungen müssen für FOUP-Lagerbereiche bewertet werden?。
Das Umluftvolumen im Schrank ist in der Regel begrenzt und der Widerstand des Filterabschnitts beeinflusst direkt die Zirkulationswirkung. Bei geringem Luftvolumen reicht die Anzahl der Luftwechsel im Schrank nicht aus und es kann zu einer lokalen Anreicherung von Schadstoffen kommen; Wenn der Widerstand des Filterabschnitts hoch ist, reicht die Ventilatorleistung nicht aus, sodass das tatsächliche Zirkulationsvolumen unter dem Auslegungswert liegt. Bei der Auswahl eines Modells sollten Sie auf das zirkulierende Luftvolumen im Schrank, den Widerstand des Filterabschnitts unter diesem Luftvolumen und darauf achten, ob der Ventilator ausreichend statischen Druck bereitstellen kann. Die V-förmige Struktur bietet eine große Filterfläche auf begrenztem Raum und hilft dabei, die Oberflächengeschwindigkeit und den Widerstand bei geringen Luftmengen zu kontrollieren. Informationen zum Strukturvergleich im kompakten Raum finden Sie unterMAU wählen Sie einen chemischen Filter vom Kastentyp oder vom V-Typ?。
Die Dichtungsbänder, Beschichtungen, Kunststoffteile und Etikettenmaterialien im Zwischenlagerschrank können ihrerseits organische oder saure Bestandteile abgeben. Der Innenraum des Schranks ist klein und die Anzahl der Luftwechsel gering. Der von diesen Materialien ausgehende kumulative Effekt ist möglicherweise deutlicher als die Raumumgebung. Bei der Auswahl eines Modells sollten Sie nicht nur auf externe Einflüsse achten, sondern auch die Ausgasungssituation des Gehäusematerials verstehen. Kontrollieren Sie es bei Bedarf durch Umwälzfiltration oder Materialaustausch im Schrank. Bei Problemen mit Materialien mit geringer Ausgasung wenden Sie sich bitte anWelche Auswirkungen haben ausgasungsarme chemische Filtermedien auf sensible Prozesse?。
Bei Mikroumgebungsprojekten wie temporären Wafer-Lagerschränken überprüfen wir in der Regel zunächst das zirkulierende Luftvolumen im Schrank, den Installationsraum des Filterabschnitts und der Schutzobjekte und vergleichen dann die Filterelementform und die Medienkonfiguration. Aili Industry kann Auswahlpakete für chemische Filterprodukte vom Kasten-, Flachplatten- und V-Typ anbieten. Informationen zu kastenförmigen MAU-Paketen finden Sie unterMAU chemischer Kastenfilter , Produktserien können besichtigt werdenProduktpalette chemischer Filter . Geräteseitige Anwendungen können verwendet werdenChemischer Filter Typ FFU, integrierte chemische Adsorptionsschicht mitDie HEPA/ULPA-Filterpartikelfiltration , bei der zunächst Chemikalien und dann Partikel aufgebaut sind, eignet sich für Mikroumgebungen wie temporäre Lagerschränke, die sowohl AMC als auch Partikel erfordern. Das kompakte Filterelement kann je nach Schrankraum und Umluftmenge individuell angepasst werden. Der Fertigungsbereich umfasst die unabhängige Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Motoren und Lüftern, Steuerungssystemen, Blechen und der kompletten Maschinenmontage. Die Schnittstelle und die Luftmengenanpassung zwischen dem Filterabschnitt und dem Schrankzirkulationsventilator können im selben Paket überprüft werden. Der spezifische Gaseffekt, die anwendbare Umgebung und der Austauschzyklus müssen noch anhand der entsprechenden Konfigurationsdaten und Arbeitsbedingungen vor Ort überprüft werden. Die tatsächlichen Ergebnisse unterliegen der Leckerkennung und den Gaserkennungsergebnissen vor Ort.
Das Umluftvolumen im Zwischenlagerschrank ist gering, kann der Chemiefilter trotzdem funktionieren?
Ja, aber der Widerstand des Filterabschnitts und die Lüfterkapazität müssen übereinstimmen. Wenn das Luftvolumen klein ist, sollte eine Struktur mit geringer Oberflächengeschwindigkeit und mäßigem Widerstand ausgewählt werden, und die Anzahl der Luftaustausche im Schrank sollte überprüft werden, um den Anforderungen gerecht zu werden.
Es gibt keinen offensichtlichen Geruch im Schrank. Muss ich trotzdem einen chemischen Filter installieren?
Der Geruch ist nicht die einzige Grundlage für die Beurteilung. Auch die sehr geringe Konzentration einiger empfindlicher Komponenten kann Auswirkungen auf den Wafer haben. Dies sollte anhand der Prozessanforderungen und der Gasfreisetzungsbedingungen der Materialien im Schrank beurteilt werden.
Kann Aili Industrial je nach temporärem Lagerschrankraum nicht standardmäßige Filterelemente herstellen?
Die kompakte Filterelementstruktur kann je nach Schrankgröße und Umluftvolumen überprüft werden, und die FFU-Form des chemischen Filters kann chemische und Partikelfiltration integrieren. Die spezifische Konfiguration muss anhand der Produktinformationen und Standortbedingungen bestätigt werden.
Wie soll verhindert werden, dass gasförmige Verunreinigungen in den Wafertransferbereich gelangen?
Erfordert die Aufbewahrungsumgebung der Maske eine chemische Filterung?
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