Ob die Restluftfreisetzung nach der Reinigung der Waferbox durch Umgebungsfiltration kontrolliert werden kann, erfordert eine Unterscheidung zwischen der Quelle in der Box und der Luft im Raum. Die chemische Umweltfiltration kann nur den Luftstrom verarbeiten, der tatsächlich durch den Filterabschnitt strömt, und kann Rückstände und alle anhaltenden Freisetzungen im Behälter nicht automatisch beseitigen. Das Problem in der Box kann durch den Raumfilter nicht gelöst werden.

Kommt es innerhalb oder außerhalb der Box zu Ausgasungen?

Die Restausgasung nach der Reinigung der Waferkassette tritt hauptsächlich an zwei Stellen auf. Ausgasungen innerhalb der Box entstehen durch Spuren von Chemikalien, die nach der Reinigung auf dem Boxkörper, der Auskleidung oder der Waferoberfläche zurückbleiben. Nach dem Verschließen der Box verdunsten sie allmählich und die Konzentration kann sich im Inneren der Box ansammeln. Ausgasungen außerhalb der Box treten auf, wenn die Box geöffnet wird, Wafer aufgenommen werden oder die Box offen gelassen wird und restliche flüchtige Stoffe in die Umgebungsluft gelangen. Die Umweltfiltration verarbeitet den Teil der Luft, der durch den Filterabschnitt strömt, in diesem und hat kaum Einfluss auf die Ansammlung in der geschlossenen Box. Um festzustellen, ob eine Umgebungsfiltration helfen kann, stellt sich zunächst die Frage: Wo kommt es hauptsächlich zu Ausgasungen und in welchem ​​Zustand bleibt die Box am längsten?

Der Umfang der Umgebungsfilterung hat Grenzen

Eine Raumzirkulation oder eine geräteseitige chemische Filterung kann nur die vom Ventilator in den Filterbereich geleitete Luft verarbeiten. Wenn die Box geschlossen und gelagert ist, zirkuliert die Luft in der Box nicht mit der Außenwelt, und egal wie groß der Filterabschnitt ist, er kann die flüchtigen Stoffe in der Box nicht verarbeiten; Wenn die Luft im Kasten beim Öffnen des Kastens in die Mikroumgebung des Geräts gelangt und dieser Teil der Luft zufällig durch den örtlichen Filterabschnitt strömt, kann die Filterung wirksam sein. Daher hängt die Wirksamkeit der Umgebungsfiltration bei der Ausgasung von Waferkassetten davon ab, ob der Luftweg die Stelle abdeckt, an der die Ausgasung auftritt, und nicht von der Fähigkeit des Filtermaterials selbst. Zur Arbeitsteilung zwischen Ortsfiltration und Raumfiltration siehe bitteKann ein chemischer Filter allein in einem Raum verwendet werden?。

Es lohnt sich eher, zuerst die Links zum Reinigen und Trocknen zu prüfen.

Die Quelle der Restausgasung aus der Waferbox liegt im Reinigungs- und Trocknungsprozess, und auch hier sollte die Kontrollposition Vorrang haben. Die Wahl des Reinigungsmittels, die Anzahl der Spülgänge, die Trocknungsmethode und die Standzeit nach dem Trocknen haben Einfluss auf die Rückstandsmenge. Wenn die Rückstände nach der Reinigung zu hoch sind, führt die Verwendung einer hinteren Umgebungsfiltration zur „Abdeckung des Bodens“ oft zur Hälfte des Aufwands. Eine sinnvollere Reihenfolge ist: Überprüfen Sie zunächst, ob der Reinigungsprozess und die Trocknungsbedingungen stabil sind, und bewerten Sie dann die örtlichen Filteranforderungen für die Lagerung und das Öffnen der Kartons. Ideen, wie Reinigungsmitteldaten zur Erkennung von Verunreinigungen genutzt werden können, finden Sie unterKönnen Reinigungsmittel-Sicherheitsdatenblätter für die Auswahl chemischer Filter verwendet werden?。

Eine Teilfiltration sollte das Öffnen und Lagern des Kartons abdecken

Kommt es nach der Reinigung immer noch zu einer erheblichen Luftfreisetzung, sollte sich die Anordnung der lokalen Filterung auf den Auspack- und Lagerungsprozess konzentrieren und nicht auf die allgemeine Aufbereitung der Raumluft. Die Zirkulation im Lagerschrank, die lokale Luftzufuhr an der Boxöffnungsstation und die interne Zirkulation im EFEM sind Konfigurationspunkte, die näher an der Stelle liegen, an der die Ausgasung auftritt. Die gemeinsamen Merkmale dieser Standorte sind der geringe Platzbedarf und das begrenzte Luftvolumen. Die Übereinstimmung von Filterelementform und Luftvolumen muss entsprechend der tatsächlichen Struktur überprüft werden. Informationen zur Filterkonfiguration des Speicherlinks finden Sie unterWie wählt man chemische Filter für Wafer-Lagerschränke aus?。

Aili industrielle unterstützende Ausrüstung

Bei Problemen wie dem Ausgasen von Wafer-Boxen klären wir in der Regel mit dem Kunden ab, ob die Ausgasung hauptsächlich im geschlossenen Zustand der Box oder während des Box-Öffnungsvorgangs auftritt, und legen dann fest, ob der lokale Filter im Lagerschrank, der Box-Öffnungsstation oder dem EFEM-Zirkulationsabschnitt platziert werden soll. Aili Industry kann Auswahlpakete für chemische Filterprodukte vom Kasten-, Flachplatten- und V-Typ anbieten. Informationen zu kastenförmigen MAU-Paketen finden Sie unterMAU chemischer Kastenfilter , Produktserien können besichtigt werdenProduktpalette chemischer Filter . Geräteseitige Anwendungen können die Form der chemischen Filterung FFU annehmen, die eine chemische Adsorptionsschicht und eine HEPA/ULPA-Partikelfiltration integriert. Die Chemical-First-Partikel-Struktur eignet sich für Mikroumgebungen wie Lagerschränke und EFEM. Das kompakte Filterelement kann je nach Schrankraum und Umluftmenge individuell angepasst werden. Die Fertigungsseite umfasst Motoren, Lüfter, Steuerungen, Bleche und die komplette Maschinenmontage. Die Schnittstellen zwischen Filterteil und Schrankumwälzventilator können im gleichen Paket ausgerichtet werden. Der spezifische Gaseffekt, die anwendbare Umgebung und der Austauschzyklus müssen noch anhand der entsprechenden Konfigurationsdaten und Arbeitsbedingungen vor Ort überprüft werden. Die tatsächlichen Ergebnisse unterliegen der Leckerkennung und den Gaserkennungsergebnissen vor Ort.

Verwandte Fragen und Antworten

Der Raum ist mit einem chemischen Filter ausgestattet. Muss das aus der Wafer-Box freigesetzte Gas separat behandelt werden?
Hängt davon ab, ob die Box zur Aufbewahrung geschlossen ist. Wenn die Luft in der Box nicht mit dem Raum zirkuliert, kann der Raumfilter die Ansammlung in der Box nicht bewältigen und eine Umwälzung im Lagerschrank oder eine lokale Filterung an der Boxöffnungsstation kann erforderlich sein.

Der Restinhalt der Waferkassette ist nach der Reinigung hoch. Sollte es zuerst gereinigt oder zuerst gefiltert werden?
In den meisten Fällen prüfen Sie zunächst das Reinigungsmittel, die Spül- und Trocknungsbedingungen. Wenn die Rückstandsquelle kontrolliert wird, wird der Druck bei der Hinterfiltration viel geringer sein.

Kann Aili Industrial bei der Überprüfung der Filterung während der Waferkassettenlagerung helfen?
Der lokale Filtermodus kann anhand der Lagerschrankstruktur, der Umluftmenge und der Luftaustrittsposition überprüft werden. Die spezifische Konfiguration muss anhand der Produktinformationen und Standortbedingungen bestätigt werden.

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