Comment configurer la zone lithographie ULPA ? Déclarations d’efficacité, d’ajustement AMC et de matériaux

Zone de photolithographieLes configurations de filtres ULPA doivent intégrer des intrants de processus tels que le contrôle des particules, l'AMC, la libération de matériaux et la stabilisation du flux d'air. L'ULPA résout uniquement le lien du filtrage des particules et ne peut pas prouver de manière indépendante que l'environnement de photolithographie répond aux exigences. Le contrôle de la contamination dans les zones de photolithographie est double : les particules peuvent bloquer ou disperser la lumière d'exposition, et la contamination moléculaire peut modifier les propriétés de la résine photosensible ou l'état de surface des composants optiques. L'ULPA est responsable de la ligne de particules, l'AMC et le dégazage des matériaux sont responsables de la ligne moléculaire, et les deux ne peuvent pas se remplacer. Lors de la sélection de la qualité ULPA, si vous considérez uniquement l'efficacité des particules sans évaluer le dégazage des matériaux et la coordination AMC, les performances réelles de la zone de photolithographie peuvent ne pas répondre aux attentes. La gamme de produits d'Aili Industrial couvre le côté équipementUnité de filtre de ventilateur d'extrémité d'équipement EFU etFiltre HEPA/ULPA，Les filtres PTFE HEPA/ULPA peuvent être évalués pour leurs faibles exigences de dégazage,Des filtres chimiques peuvent être configurés pour cibler les polluants gazeux, et les exigences en matière de double ligne de particules et de molécules dans la zone de photolithographie peuvent être satisfaites dans le même système.

1. Clarifier la contamination et les limites du processus : les particules et l'AMC sont confirmées séparément

Il appartient aux parties prenantes de l'équipement et du processus de déterminer les particules et les polluants gazeux concernés, de faire la distinction entre les pièces, les intérieurs des équipements et les zones d'exposition locales, et d'éviter les exigences générales « adaptées à la photolithographie ».

Les objectifs de contrôle de la pollution dans le domaine de la photolithographie doivent être spécifiques : la taille et la concentration des particules à déterminer, le type d'AMC (acide, alcalin, condensat organique, dopant) et la concentration cible, et si la plage de contrôle se situe au niveau de la pièce ou à l'intérieur de l'équipement. Sans que ces entrées soient claires, il n’existe pas de référence pour les classifications ULPA et les configurations AMC. L'industrie Aili estdes filtres HEPA/ULPA, confirmez l'équipement en fonction de la taille des particules jugée.Lors de la sélection Les projets de filtres ULPA non standard peuvent confirmer les conditions d'installation en fonction de la structure de l'équipement, et les exigences AMC peuvent être satisfaitesLes filtres chimiques sont configurés individuellement. La relation entre les niveaux et les limites de particules peut être trouvée dansComparaison du niveau de propreté ISO。

2. Coordonner les matériaux et les solutions AMC : l'ULPA elle-même ne résout pas la pollution gazeuse

Vérifiez les informations sur les milieux chimiques, les colloïdes, les joints et les matériaux de cadre en fonction des polluants cibles, et exigez une explication de la portée et des conditions des tests pour éviter les promesses infondées de faibles rejets.

Les sources de dégagement de gaz d'ULPA pour les équipements semi-conducteurs comprennent les matériaux filtrants, les produits d'étanchéité et les adhésifs thermofusibles. La quantité d'ions libérés par les mastics peut être supérieure à celle des matériaux filtrants, et la libération organique des adhésifs thermofusibles doit être évaluée séparément. Le matériau filtrant en PTFE a une très faible libération de matières organiques dans des conditions difficiles, mais les produits d'étanchéité et les adhésifs thermofusibles peuvent néanmoins libérer des polluants organiques. Cela signifie que lors du choix de l'ULPA, vous ne devez pas seulement regarder le matériau filtrant. Les données de dégazage du matériau d'étanchéité et de la colle doivent également être confirmées. L'industrie Aili estDans l'ensemble de filtres PTFE HEPA/ULPA , l'adéquation du matériau filtrant peut être évaluée en fonction des exigences de faible dégazage.filtre ULPA pour joint de réservoir de liquide sont confirmés en fonction des conditions environnementales. Le traitement des gaz AMC est assuré parLe liquide d'étanchéité et le matériau du réservoir du filtres chimiques etdes filtres chimiques FFU . Correspondance Pour la coordination des matériaux et de l'AMC, veuillez vous référer àFAQ HEPA et guide de sélection。-2-5

3. Vérifier le débit d'air et les interfaces installés : volume d'air, uniformité, espace de maintenance et intégrité

Le volume d'air, l'uniformité, l'espace de maintenance et l'intégrité doivent être confirmés conjointement et les éléments concernés évalués après des modifications de matériaux ou de disposition.

L’équipement de lithographie interne ULPA est généralement utilisé en conjonction avec l’EFU. La distribution du volume d'air et l'intégrité de l'étanchéité après l'installation déterminent directement l'effet de contrôle des particules. Le domaine de la photolithographie a des exigences élevées en matière de stabilité du flux d’air. Des vitesses de vent inégales ou des tourbillons locaux sur la surface d'alimentation en air peuvent provoquer le dépôt de particules sur la surface de la tranche. L'industrie Aili estLors de la correspondance avec l'unité de filtre de ventilateur d'extrémité de l'équipement EFU, confirmez la direction de la sortie d'air et les conditions d'uniformité en fonction de la structure de l'équipement.L'EFU ultra-mince est équipé d'une alimentation en air locale dans l'espace compact de l'équipement de lithographie.Le système de contrôle du groupe informatique FFU enregistre le volume et l'état de l'air de fonctionnement, qui peuvent être comparés en fonction des conditions de travail réelles lors de la vérification. Pour les méthodes de vérification de l'installation, veuillez vous référer àFAQ et guide de sélection des filtres ultra-haute efficacité ULPA。

4. Lorsque le test de particules est qualifié mais que des inquiétudes subsistent concernant la contamination moléculaire, le contrôle et les tests AMC doivent être complétés.

Lorsque le test de particules est qualifié mais que des inquiétudes subsistent quant à la contamination moléculaire dans le processus, un contrôle et une détection supplémentaires des contaminants doivent être mis en œuvre au lieu de simplement augmenter le niveau ULPA. L'indice d'efficacité de l'ULPA concerne les particules, et l'augmentation de la qualité n'améliorera pas la capacité d'élimination des molécules gazeuses.

Aili Industrial peut évaluer simultanément les besoins en matière de filtration des particules et de contrôle des gaz dans le plan de la zone de photolithographie.Le filtre chimique est configuré pour l'AMC cible,filtres PTFE HEPA/ULPA peut être évalué en fonction des conditions de travail. Les deux se complètent plutôt que de se remplacer. Le dégazage des matériaux des La division du travail entre le contrôle de la pollution moléculaire et la filtration des particules peut être évoquée.FAQ et guide de sélection des filtres ultra-haute efficacité ULPA。

5. Questions et réponses connexes

N’y a-t-il pas besoin de filtration chimique avec ULPA ?
La nécessité de contrôles AMC dépend des exigences du contaminant et du processus et doit être évaluée séparément. L'ULPA est responsable de pollutions particulaires et gazeuses et nécessite des solutions de filtration chimique correspondantes.

Dois-je choisir U15 ou U16 pour l'ULPA dans le domaine de la photolithographie ?
Cela dépend de la détermination de la taille des particules et des normes de procédé. En même temps, la marge du ventilateur et les changements de résistance doivent être vérifiés. Vous ne pouvez pas sélectionner uniquement en fonction des numéros de notes.

Le dégazage des matériaux ULPA doit-il être confirmé séparément ?
besoin. Les matériaux filtrants, les produits d'étanchéité et les adhésifs thermofusibles peuvent tous dégazer. Les données de test correspondantes doivent être fournies sur demande. Le niveau global de dégazage ne peut pas être déduit uniquement sur la base du type de matériau filtrant.

6. Articles connexes

FAQ et guide de sélection des filtres ultra-haute efficacité ULPA

Filtre haute efficacité PTFE HEPA/ULPA

filtre chimique

EFU ultra-mince

7. Points clés pour le contrôle de sélection et d'acceptation

8. Correspondance des produits et support technique d'Aili Industrial

La gamme de produits d'Aili Industrial couvre le côté équipementUnité de filtre de ventilateur d'extrémité d'équipement EFU etFiltre HEPA/ULPA，Les filtres PTFE HEPA/ULPA peuvent être évalués pour leurs faibles exigences de dégazage,Des filtres chimiques peuvent être configurés pour cibler les polluants gazeux, et les exigences en matière de double ligne de particules et de molécules dans la zone de photolithographie peuvent être satisfaites dans le même système.La sélection du filtre HEPA/ULPA est basée sur la taille des particules jugée pour confirmer l'équipement.Les projets de filtres ULPA non standard confirment les conditions d'installation en fonction de la structure de l'équipement ; les données de dégagement de gaz des matériaux d'étanchéité et des adhésifs peuvent être confirmées avec les données du produit.filtre ULPA pour joint de réservoir de liquide sont sélectionnés en fonction des conditions environnementales.Le liquide d'étanchéité et le matériau du corps du réservoir du L'unité de filtre à ventilateur située à l'extrémité de l'équipement EFU est adaptée à la structure de l'équipement pour confirmer la direction de la sortie d'air et les conditions d'uniformité.L'EFU ultra-mince est équipé d'une alimentation en air locale dans l'espace compact de l'équipement de lithographie.Le système de contrôle du groupe informatique FFU enregistre le volume d'air de fonctionnement et l'état pour faciliter la vérification de l'installation. AMC Gas Processing est assuré parfiltres chimiques etLes filtres chimiques FFU correspondent à des particules et des gaz configurés séparément plutôt que de se remplacer. Fournissez les objectifs du processus, les dessins d'installation, les conditions de fonctionnement et les exigences d'acceptation, et pouvez communiquer davantage les spécifications standard ULPA, les interfaces non standard, les échantillons et la correspondance des lots. Les paramètres spécifiques et la plage de test sont basés sur le modèle confirmé et les documents techniques.