ULPA는 AMC 및 가스 오염물질을 제거할 수 있습니까?

이 질문은 반도체 및 정밀 제조 프로젝트에서 많이 제기되지만 대답 자체는 분명합니다. 아니요, 이것은 ULPA의 목적이 아닙니다.

ULPA는 입자상 물질을 제어합니다. AMC(Airborne Molecular Contamination, 기체분자오염)은 기체상태의 오염물질로 입자에 비해 분자량이 훨씬 작고 여과 메커니즘이 전혀 다릅니다. AMC 문제를 해결하기 위해 ULPA 등급을 개선할 것으로 기대하는 것은 처음부터 잘못된 것입니다.

그러나 이것이 ULPA가 AMC 제어에 참여할 수 없다는 의미는 아닙니다. 둘 사이의 관계는 대체가 아닌 분업이다.

AMC란 무엇이며, 별도로 관리해야 하는 이유

AMC는 공기 중에 기체 형태로 존재하는 오염 물질을 말하며 그 특성에 따라 대략 여러 범주로 나눌 수 있습니다.

산성 가스 : 불화수소, 염화수소, 산화황 등은 특정 공정과 재료를 부식시킬 수 있습니다.

알칼리성 가스 : 암모니아 등 포토리소그래피 공정 중 노광 효과에 영향을 미칠 수 있습니다.

유기오염물질 : 휘발성 유기화합물, 가소제 등이 웨이퍼 표면에 얇은 막을 형성할 수 있습니다.

도펀트 : 붕소, 인과 같은 화합물, 미량의 존재는 반도체 장치의 전기적 특성에 영향을 미칠 수 있습니다.

이들 물질의 공통점은 입자가 아니며 ULPA로 차단할 수 없다는 점이다. 이를 제어하려면 공기 흐름에서 표적 종을 제거하기 위해 흡착, 중화 또는 기타 화학 반응에 의존하는 화학적 여과가 필요합니다. 구체적인 구성은 표적종의 종류와 농도에 따라 선택되어야 합니다. 하나의 재료가 모든 것에 적합하지는 않습니다.

효율성 등급이 AMC 지표를 대체할 수 없는 이유

ULPA 등급은 U15, U16, U17로 특정 조건에서 입자의 침투율을 나타냅니다.

화학적 여과는 특정 오염물질의 제거 효율, 흡착 용량, 침투 시간, 적용 가능한 온도 및 습도 범위 등 다양한 지표에 중점을 둡니다.

이 두 지표 세트는 동일한 차원에 있지 않습니다. U16 등급은 제품의 입자 필터링 능력을 나타내지만 암모니아, 산성 가스 또는 유기물 처리에 대한 효율성을 나타내지는 않습니다. 조달 문서에 'ULPA 필요'라고만 적혀 있으면 AMC 문제가 해결되지 않습니다. 반대로, 케미컬 필터의 사양은 입자 제어 수준을 나타낼 수 없습니다.

결합 시스템에서 확인해야 할 사항

실제 프로젝트에서는 입자 여과와 화학적 여과를 함께 사용해야 하는 경우가 많습니다. 현재 특히 확인해야 할 몇 가지 장소가 있습니다.

저항이 쌓입니다. 화학 여과 섹션은 전체 시스템 저항을 증가시킵니다. 구성 시 각 구간의 저항을 누적하여 팬 동작점이 설계 풍량을 만족하는지 확인해야 합니다. 지원 FFU 팬 필터 장치 시스템의 경우 필터 섹션을 추가한 후 장치의 성능도 확인해야 합니다.

설치 순서. 어떤 미립자 여과 또는 화학적 여과가 먼저 수행되는지는 각각의 부하 및 유지 관리 주기에 영향을 미칩니다. 사전 입자 여과를 통해 케미컬 필터 섹션의 먼지 오염 가능성을 줄일 수 있습니다. 결과적으로, 케미컬 필터 섹션의 위치는 입자 필터의 교체 공간에도 영향을 미칠 수 있습니다.

매체는 먼지를 잃습니다. 일부 화학 필터 소재는 작동 중에 소량의 먼지를 생성할 수 있습니다. ULPA 하류에 설치하면 이 먼지 부분이 청정면으로 직접 유입되므로 그 뒤에 보호 구역을 설치할 필요가 있는지 평가해야 합니다.

유지 관리 주기가 동기화되지 않았습니다. 케미컬필터는 흡착능력과 침투력에 따라 교체되며, 파티클필터는 압력차와 누출감지에 따라 교체됩니다. 둘의 유지관리 리듬은 다릅니다. 원장은 별도로 기록해야 하며 통일된 주기로 처리할 수 없습니다.

상류 부하와 온도 및 습도 조건. 화학 여과의 효율성은 온도와 습도의 영향을 받습니다. 공기 흡입 조건이 적용 범위를 초과할 경우 처리 효과가 감소할 수 있습니다. 선정시 이러한 조건을 함께 기재하여야 합니다.

조달정보는 별도로 작성해야 함

AMC 프로젝트에서 가장 문제가 되는 점은 두 가지 요구 사항이 기술 문서에 혼합되어 있다는 것입니다.

합리적인 접근 방식은 이를 범주로 구분하는 것입니다. 입자 제어 요구 사항에는 ULPA 수준, 테스트 표준 및 공기량이 포함됩니다. AMC 관리 요건에는 대상 오염물질 유형, 흡기 농도, 허용 침투 농도, 온습도 조건, 판정 방법 등이 포함됩니다.

이 두 가지 요구 사항 세트는 서로 다른 제품, 서로 다른 테스트 및 서로 다른 승인 방법에 해당합니다. 혼합되어 공급업체가 정확하게 견적을 내기 어렵고, 승인 중에 어떤 지표가 표준에 부합하지 않는지 확인하기가 어렵습니다.

관련된 HEPA/ULPA 공기 필터 선택은 입자 제어 열에서 판단해야 합니다. 기체상 오염물질에 대한 처리계획은 별도로 논의할 필요가 있다.

프로젝트 판단 예

특정 포토리소그래피 영역은 입자와 산성 가스 모두와 관련이 있습니다.

합리적인 구성 아이디어는 마지막에 ULPA를 사용하여 입자를 제어하고 산성 가스를 처리하기 위해 적절한 위치에 화학 여과 섹션을 설정하는 것입니다. 두 구간의 사양, 저항, 유지보수 주기를 별도로 확인하고 전체 시스템 저항과 팬 동작점을 통일적으로 확인한다.

ULPA만 설치하면 입자 지수는 표준을 충족할 수 있지만 산성 가스 문제는 여전히 존재합니다. 화학적 여과만 설치하면 입자 제어를 보장할 수 없습니다. 둘은 협력관계에 있고 하나는 없어서는 안 될 존재이다. 다음과 같은 장치측 애플리케이션 EFU 장비단 팬 필터 장치는 내부 공간이 컴팩트합니다. 2단계 여과 배치 방법과 유지보수 채널 유지 방법은 장비 구조 설계 단계에서 고려해야 합니다.

선택 및 승인 체크리스트

Aili Industrial의 조합 구성 지원 정보

AMC 프로젝트 구성의 어려움은 종종 단일 제품에 있는 것이 아니라 입자 여과 섹션과 화학 여과 섹션을 조정하는 방법, 저항의 균형을 맞추는 방법 및 유지 관리를 준비하는 방법에 있습니다.

Aili Industrial의 제조 시스템은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 전체 기계 조립을 포괄하며 다음을 제공할 수 있습니다. ULPA 초고효율 필터 및 보조 공기 공급 장치입니다. 미립자 및 기체 오염 제어를 모두 포함하는 프로젝트의 경우 각 처리 섹션의 위치, 저항 및 인터페이스를 별도로 구매하여 현장에서 조정하는 대신 계획 단계에서 함께 확인할 수 있습니다.

적절한 구성 조합을 확인하는 데 도움이 되도록 조사 중에 입자 제어 대상 및 AMC 대상 목록이 제공됩니다. 구체적인 계획은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과를 따릅니다.