Số lượt xem: 5625 Tác giả: Aili Industry Thời gian phát hành: 11-11-2027 Nguồn: Công nghiệp Ái Lý
Làm thế nào để cấu hình khu vực in thạch bản ULPA? Tuyên bố về hiệu quả, sự phù hợp của AMC và vật liệu
Khu vực quang khắcCấu hình bộ lọc ULPA nên kết hợp các yếu tố đầu vào của quy trình như kiểm soát hạt, AMC, giải phóng vật liệu và ổn định luồng khí. ULPA chỉ giải quyết liên kết lọc hạt và không thể chứng minh độc lập rằng môi trường quang khắc đáp ứng yêu cầu. Việc kiểm soát ô nhiễm trong các khu vực quang khắc gồm hai phần: các hạt có thể chặn hoặc phân tán ánh sáng tiếp xúc và ô nhiễm phân tử có thể làm thay đổi đặc tính quang điện hoặc điều kiện bề mặt thành phần quang học. ULPA chịu trách nhiệm về dòng hạt, AMC và quá trình thoát khí vật liệu chịu trách nhiệm về dòng phân tử và cả hai không thể thay thế lẫn nhau. Khi chọn loại ULPA, nếu bạn chỉ xem xét hiệu suất hạt mà không đánh giá sự thoát khí của vật liệu và sự phối hợp AMC, thì hiệu suất thực tế của khu vực quang khắc có thể không đáp ứng được mong đợi. Dòng sản phẩm của Aili Industrial bao gồm mặt thiết bịBộ lọc quạt cuối thiết bị EFU vàBộ lọc HEPA/ULPA,Bộ lọc PTFE HEPA/ULPA có thể được đánh giá theo yêu cầu thoát khí thấp,Các bộ lọc hóa học có thể được cấu hình cho các chất gây ô nhiễm dạng khí mục tiêu và các yêu cầu về dòng kép của các hạt và phân tử trong khu vực quang khắc có thể được giải quyết trong cùng một hệ thống.
1. Làm rõ ranh giới ô nhiễm và quy trình: các hạt và AMC được xác nhận riêng biệt
Tùy thuộc vào thiết bị và các bên xử lý để xác định các hạt và chất gây ô nhiễm khí cần quan tâm, phân biệt giữa các phòng, bên trong thiết bị và khu vực tiếp xúc cục bộ, đồng thời tránh các yêu cầu chung 'phù hợp với kỹ thuật quang khắc'.
Các mục tiêu kiểm soát ô nhiễm trong khu vực quang khắc cần phải cụ thể: kích thước và nồng độ hạt cần xác định, loại AMC (ngưng tụ axit, kiềm, hữu cơ, tạp chất) và nồng độ mục tiêu cũng như phạm vi kiểm soát ở cấp độ phòng hay bên trong thiết bị. Nếu những thông tin đầu vào này không rõ ràng thì sẽ không có cơ sở cho xếp hạng ULPA và cấu hình AMC. Công nghiệp Aili làbộ lọc HEPA/ULPA, hãy xác nhận thiết bị theo kích thước hạt đã đánh giá.Khi chọn Các dự án bộ lọc ULPA không chuẩn có thể xác nhận các điều kiện lắp đặt theo cấu trúc thiết bị và các yêu cầu AMC có thể được thông quaBộ lọc hóa học được cấu hình riêng. Mối quan hệ giữa mức độ và giới hạn hạt có thể được tìm thấy trongSo sánh mức độ sạch ISO。
2. Phối hợp vật liệu và giải pháp AMC: Bản thân ULPA không giải quyết được ô nhiễm khí
Kiểm tra thông tin trên môi trường hóa học, chất keo, chất bịt kín và vật liệu khung theo các chất gây ô nhiễm mục tiêu, đồng thời yêu cầu giải thích về phạm vi và điều kiện thử nghiệm để tránh những lời hứa vô căn cứ về lượng phát hành thấp.
Nguồn giải phóng khí của ULPA dùng cho thiết bị bán dẫn bao gồm vật liệu lọc, chất bịt kín và chất kết dính nóng chảy. Lượng chất bịt kín giải phóng ion có thể cao hơn lượng vật liệu lọc và lượng giải phóng hữu cơ của chất kết dính nóng chảy cần được đánh giá riêng. Vật liệu lọc PTFE có khả năng giải phóng hữu cơ rất thấp trong điều kiện khắc nghiệt, nhưng chất bịt kín và chất kết dính nóng chảy vẫn có thể giải phóng các chất ô nhiễm hữu cơ. Điều này có nghĩa là khi chọn ULPA, bạn không nên chỉ nhìn vào vật liệu lọc. Dữ liệu thoát khí của vật liệu bịt kín và chất kết dính cũng phải được xác nhận. Công nghiệp Aili làTrong gói bộ lọc PTFE HEPA/ULPA , sự phù hợp của vật liệu lọc có thể được đánh giá theo yêu cầu thoát khí thấp.bộ lọc ULPA bịt kín bể chứa chất lỏng được xác nhận theo các điều kiện môi trường. Xử lý khí AMC được cung cấp bởiChất lỏng bịt kín và vật liệu bể chứa của bộ lọc hóa học vàSự tương ứng của bộ lọc hóa học FFU . Để phối hợp tài liệu và AMC, vui lòng tham khảoCác câu hỏi thường gặp và hướng dẫn lựa chọn về HEPA。-2-5
3. Xác minh luồng không khí được cài đặt và các giao diện: thể tích không khí, tính đồng nhất, không gian bảo trì và tính toàn vẹn
Thể tích không khí, tính đồng nhất, không gian bảo trì và tính toàn vẹn phải được xác nhận chung và các hạng mục bị ảnh hưởng phải được đánh giá sau khi thay đổi vật liệu hoặc bố cục.
Thiết bị in thạch bản bên trong ULPA thường được sử dụng kết hợp với EFU. Sự phân bố thể tích không khí và tính nguyên vẹn của lớp bịt kín sau khi lắp đặt quyết định trực tiếp đến hiệu quả kiểm soát hạt. Khu vực quang khắc có yêu cầu cao về độ ổn định của luồng không khí. Tốc độ gió không đồng đều hoặc các dòng xoáy cục bộ trên bề mặt cấp không khí có thể khiến các hạt lắng đọng trên bề mặt tấm bán dẫn. Công nghiệp Aili làKhi khớp bộ lọc quạt cuối thiết bị EFU, hãy xác nhận hướng thoát khí và điều kiện đồng nhất theo cấu trúc thiết bị.EFU siêu mỏng được trang bị nguồn cung cấp không khí cục bộ trong không gian nhỏ gọn của thiết bị in thạch bản.Hệ thống điều khiển nhóm máy tính FFU ghi lại lượng và trạng thái không khí vận hành, có thể so sánh theo điều kiện làm việc thực tế trong quá trình xác minh. Để biết các phương pháp xác minh cài đặt, vui lòng tham khảoCâu hỏi thường gặp và hướng dẫn lựa chọn bộ lọc hiệu suất cực cao ULPA。
4. Khi thử nghiệm hạt đạt tiêu chuẩn nhưng vẫn còn lo ngại về ô nhiễm phân tử, cần bổ sung kiểm soát và thử nghiệm AMC
Khi thử nghiệm hạt đạt tiêu chuẩn nhưng vẫn còn lo ngại về ô nhiễm phân tử trong quy trình, cần thực hiện kiểm soát và phát hiện bổ sung các chất gây ô nhiễm thay vì chỉ tăng mức ULPA. Chỉ số hiệu quả của ULPA dành cho các hạt và việc tăng cấp độ sẽ không nâng cao khả năng loại bỏ của các phân tử khí.
Aili Industrial có thể đánh giá đồng thời nhu cầu lọc hạt và kiểm soát khí trong sơ đồ khu vực quang khắc.Bộ lọc hóa học được cấu hình cho AMC mục tiêu,bộ lọc PTFE HEPA/ULPA có thể được đánh giá theo điều kiện làm việc. Cả hai bổ sung cho nhau chứ không phải thay thế nhau. Sự thoát khí của vật liệu của Sự phân công lao động giữa kiểm soát ô nhiễm phân tử và lọc hạt có thể được đề cập đếnCâu hỏi thường gặp và hướng dẫn lựa chọn bộ lọc hiệu suất cực cao ULPA。
5. Hỏi đáp liên quan
Có cần lọc hóa chất bằng ULPA không?
Nhu cầu kiểm soát AMC phụ thuộc vào chất gây ô nhiễm và yêu cầu của quy trình và cần được đánh giá riêng. ULPA chịu trách nhiệm về ô nhiễm hạt và khí và yêu cầu các giải pháp lọc hóa học tương ứng.
Tôi nên chọn U15 hay U16 cho ULPA trong lĩnh vực quang khắc?
Nó phụ thuộc vào việc xác định kích thước hạt và tiêu chuẩn quy trình. Đồng thời, phải kiểm tra sự thay đổi biên độ và điện trở của quạt. Bạn không thể chọn chỉ dựa trên số lớp.
Việc thoát khí của vật liệu ULPA có cần được xác nhận riêng không?
nhu cầu. Vật liệu lọc, chất bịt kín và chất kết dính nóng chảy đều có thể thoát ra ngoài. Dữ liệu thử nghiệm tương ứng phải được cung cấp theo yêu cầu. Mức thoát khí tổng thể không thể được suy ra chỉ dựa vào loại vật liệu lọc.
6. Các bài viết liên quan
Câu hỏi thường gặp và hướng dẫn lựa chọn bộ lọc hiệu suất cực cao ULPA
Bộ lọc hiệu suất cao PTFE HEPA/ULPA
7. Những điểm chính trong việc lựa chọn và nghiệm thu
Kiểm tra các mục |
Kiểm tra những điểm chính |
|---|---|
ranh giới ô nhiễm |
Xác định kích thước hạt và loại mục tiêu AMC |
Thoát khí vật liệu |
Vật liệu lọc, chất bịt kín và chất kết dính nóng chảy được xác nhận riêng. |
Hợp tác AMC |
Bộ lọc hóa học phù hợp với chất gây ô nhiễm mục tiêu |
Luồng khí được cài đặt |
Khối lượng không khí, tính đồng nhất và tính toàn vẹn của con dấu |
Đánh giá thay đổi |
Các mục bị ảnh hưởng sau khi thay đổi vật liệu hoặc bố cục |
8. Hỗ trợ kỹ thuật và kết hợp sản phẩm từ Aili Industrial
Dòng sản phẩm của Aili Industrial bao gồm mặt thiết bịBộ lọc quạt cuối thiết bị EFU vàBộ lọc HEPA/ULPA,Bộ lọc PTFE HEPA/ULPA có thể được đánh giá theo yêu cầu thoát khí thấp,Các bộ lọc hóa học có thể được cấu hình cho các chất gây ô nhiễm dạng khí mục tiêu và các yêu cầu về dòng kép của các hạt và phân tử trong khu vực quang khắc có thể được giải quyết trong cùng một hệ thống.Lựa chọn bộ lọc HEPA/ULPA dựa trên kích thước hạt được đánh giá để xác nhận thiết bị.Các dự án lọc ULPA phi tiêu chuẩn xác nhận điều kiện lắp đặt theo kết cấu thiết bị; dữ liệu giải phóng khí của vật liệu bịt kín và chất kết dính có thể được xác nhận bằng dữ liệu sản phẩm.bộ lọc ULPA bịt kín bình chứa chất lỏng được lựa chọn theo điều kiện môi trường.Chất lỏng bịt kín và vật liệu thân bình của Bộ lọc quạt ở đầu thiết bị EFU được khớp với cấu trúc thiết bị để xác nhận hướng thoát khí và điều kiện đồng nhất.EFU siêu mỏng được trang bị nguồn cung cấp không khí cục bộ trong không gian nhỏ gọn của thiết bị in thạch bản.Hệ thống điều khiển nhóm máy tính FFU ghi lại lượng và trạng thái không khí vận hành để tạo điều kiện xác minh cài đặt. Hệ thống xử lý khí AMC được cung cấp bởibộ lọc hóa học vàBộ lọc hóa học FFU tương ứng với các hạt và khí được cấu hình riêng biệt thay vì thay thế lẫn nhau. Cung cấp các mục tiêu quy trình, bản vẽ lắp đặt, điều kiện vận hành và yêu cầu chấp nhận, đồng thời có thể truyền đạt thêm các thông số kỹ thuật tiêu chuẩn ULPA, giao diện phi tiêu chuẩn, mẫu và khớp lô. Các thông số cụ thể và phạm vi thử nghiệm dựa trên mô hình và tài liệu kỹ thuật đã được xác nhận.