¿Cómo configurar el área de litografía ULPA? Eficiencia, ajuste AMC y declaraciones de materiales.

Área de fotolitografíaLas configuraciones de filtros ULPA deben incorporar entradas de proceso como control de partículas, AMC, liberación de material y estabilización del flujo de aire. ULPA solo resuelve el enlace de filtrado de partículas y no puede probar de forma independiente que el entorno de fotolitografía cumpla con los requisitos. El control de la contaminación en áreas de fotolitografía es doble: las partículas pueden bloquear o dispersar la luz de exposición, y la contaminación molecular puede cambiar las propiedades del fotorresistente o las condiciones de la superficie de los componentes ópticos. ULPA es responsable de la línea de partículas, AMC y la desgasificación de materiales son responsables de la línea molecular y los dos no pueden reemplazarse entre sí. Al seleccionar el grado ULPA, si solo considera la eficiencia de las partículas sin evaluar la desgasificación del material y la coordinación AMC, es posible que el rendimiento real del área de fotolitografía no cumpla con las expectativas. La línea de productos de Aili Industrial cubre el lado de los equipos.Unidad de filtrado del ventilador del extremo del equipo EFU yFiltro HEPA/ULPA，Los filtros PTFE HEPA/ULPA se pueden evaluar para requisitos de baja desgasificación,Los filtros químicos se pueden configurar para los contaminantes gaseosos objetivo y los requisitos de línea dual de partículas y moléculas en el área de fotolitografía se pueden abordar en el mismo sistema.

1. Aclarar la contaminación y los límites del proceso: las partículas y el AMC se confirman por separado

Corresponde a las partes del equipo y del proceso determinar las partículas y los contaminantes gaseosos de interés, distinguir entre habitaciones, interiores de equipos y áreas de exposición local, y evitar requisitos generales 'adecuados para fotolitografía'.

Los objetivos de control de la contaminación en el área de la fotolitografía deben ser específicos: el tamaño y la concentración de las partículas, el tipo de AMC (ácido, alcalino, condensado orgánico, dopante) y la concentración objetivo, y si el rango de control está a nivel de la habitación o dentro del equipo. Sin que estos aportes sean claros, no existe una línea de base para las clasificaciones ULPA y las configuraciones AMC. La industria Aili esfiltros HEPA/ULPA, confirme el engranaje de acuerdo con el tamaño de partícula evaluado.Al seleccionar Los proyectos de filtros ULPA no estándar pueden confirmar las condiciones de instalación de acuerdo con la estructura del equipo y se pueden cumplir los requisitos de AMC.Los filtros químicos se configuran individualmente. La relación entre niveles y límites de partículas se puede encontrar enComparación del nivel de limpieza ISO。

2. Coordinar materiales y soluciones AMC: ULPA por sí sola no soluciona la contaminación por gases

Verifique la información sobre medios químicos, coloides, sellos y materiales de marco según los contaminantes objetivo, y solicite una explicación del alcance y las condiciones de la prueba para evitar promesas infundadas de bajas emisiones.

Las fuentes de liberación de gas de ULPA para equipos semiconductores incluyen materiales filtrantes, selladores y adhesivos termofusibles. La cantidad de liberación de iones de los selladores puede ser mayor que la de los materiales filtrantes, y la liberación orgánica de los adhesivos termofusibles debe evaluarse por separado. El material filtrante de PTFE tiene una liberación orgánica muy baja en condiciones difíciles, pero los selladores y adhesivos termofusibles aún pueden liberar contaminantes orgánicos. Esto significa que a la hora de elegir ULPA no hay que fijarse únicamente en el material filtrante. También se deben confirmar los datos de desgasificación del material de sellado y del adhesivo. La industria Aili esEn el paquete de filtro PTFE HEPA/ULPA , la idoneidad del material filtrante se puede evaluar de acuerdo con los requisitos de baja desgasificación.filtro ULPA con sello de tanque de líquido se confirman de acuerdo con las condiciones ambientales. El tratamiento de gas AMC es proporcionado porEl líquido de sellado y el material del tanque del filtros químicos yCorrespondencia del filtro químico FFU . Para la coordinación de materiales y AMC, consultePreguntas frecuentes sobre HEPA y guía de selección。-2-5

3. Verificar el flujo de aire instalado y las interfaces: volumen de aire, uniformidad, espacio de mantenimiento e integridad.

El volumen de aire, la uniformidad, el espacio de mantenimiento y la integridad deben confirmarse conjuntamente y los elementos afectados deben evaluarse después de cambios de material o diseño.

Los equipos de litografía interior ULPA se suelen utilizar junto con EFU. La distribución del volumen de aire y la integridad del sellado después de la instalación determinan directamente el efecto de control de partículas. El área de fotolitografía tiene altos requisitos de estabilidad del flujo de aire. Las velocidades desiguales del viento o los remolinos locales en la superficie del suministro de aire pueden provocar que se depositen partículas en la superficie de la oblea. La industria Aili esAl combinar la unidad de filtro del ventilador del extremo del equipo EFU, confirme la dirección de salida de aire y las condiciones de uniformidad de acuerdo con la estructura del equipo.La EFU ultradelgada está equipada con suministro de aire local en el espacio compacto del equipo de litografía.El sistema de control del grupo informático FFU registra el volumen y el estado del aire de funcionamiento, que se pueden comparar según las condiciones de trabajo reales durante la verificación. Para conocer los métodos de verificación de la instalación, consultePreguntas frecuentes y guía de selección del filtro de ultra alta eficiencia ULPA。

4. Cuando la prueba de partículas está calificada pero aún existen preocupaciones sobre la contaminación molecular, se deben complementar el control y las pruebas de AMC.

Cuando la prueba de partículas está calificada pero aún existen preocupaciones sobre la contaminación molecular en el proceso, se debe implementar control y detección de contaminantes adicionales en lugar de simplemente aumentar el nivel ULPA. El índice de eficiencia de ULPA es para partículas y aumentar el grado no mejorará la capacidad de eliminación de moléculas gaseosas.

Aili Industrial puede evaluar simultáneamente las necesidades de filtración de partículas y control de gases en el plano del área de fotolitografía.El filtro químico está configurado para el AMC objetivo,los filtros PTFE HEPA/ULPA se puede evaluar según las condiciones de trabajo. Los dos se complementan en lugar de reemplazarse. La desgasificación del material de La división del trabajo entre el control de la contaminación molecular y la filtración de partículas puede denominarsePreguntas frecuentes y guía de selección del filtro de ultra alta eficiencia ULPA。

5. Preguntas y respuestas relacionadas

¿No es necesaria la filtración química con ULPA?
La necesidad de controles AMC depende de los requisitos del proceso y del contaminante y debe evaluarse por separado. ULPA es responsable de la contaminación por partículas y gases y requiere las correspondientes soluciones de filtración química.

¿Debo elegir U15 o U16 para ULPA en el área de fotolitografía?
Depende de la determinación del tamaño de las partículas y de los estándares del proceso. Al mismo tiempo se debe comprobar el margen del ventilador y los cambios de resistencia. No puede seleccionar basándose únicamente en los números de grado.

¿Es necesario confirmar por separado la desgasificación de materiales ULPA?
necesidad. Los materiales filtrantes, los selladores y los adhesivos termofusibles pueden desgasificarse. Los datos de prueba correspondientes deben proporcionarse a pedido. El nivel general de desgasificación no se puede inferir basándose únicamente en el tipo de material filtrante.

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7. Puntos clave para la inspección de selección y aceptación.

8. Emparejamiento de productos y soporte técnico de Aili Industrial

La línea de productos de Aili Industrial cubre el lado de los equipos.Unidad de filtrado del ventilador del extremo del equipo EFU yFiltro HEPA/ULPA，Los filtros PTFE HEPA/ULPA se pueden evaluar para requisitos de baja desgasificación,Los filtros químicos se pueden configurar para los contaminantes gaseosos objetivo y los requisitos de línea dual de partículas y moléculas en el área de fotolitografía se pueden abordar en el mismo sistema.La selección del filtro HEPA/ULPA se basa en el tamaño de partícula evaluado para confirmar el engranaje.Los proyectos de filtros ULPA no estándar confirman las condiciones de instalación de acuerdo con la estructura del equipo; Los datos de liberación de gas de los materiales de sellado y adhesivos se pueden confirmar con los datos del producto.filtro ULPA con sello de tanque de líquido se seleccionan de acuerdo con las condiciones ambientales.El líquido de sellado y el material del cuerpo del tanque del La unidad de filtro del ventilador en el extremo del equipo EFU coincide con la estructura del equipo para confirmar la dirección de salida del aire y las condiciones de uniformidad.La EFU ultradelgada está equipada con suministro de aire local en el espacio compacto del equipo de litografía.El sistema de control del grupo informático FFU registra el volumen de aire de funcionamiento y el estado para facilitar la verificación de la instalación. AMC Gas Processing es proporcionado porfiltros químicos yLos filtros químicos FFU corresponden a partículas y gases que se configuran por separado en lugar de reemplazarse entre sí. Proporciona objetivos de proceso, planos de instalación, condiciones operativas y requisitos de aceptación, y puede comunicar aún más las especificaciones estándar ULPA, interfaces no estándar, muestras y coincidencia de lotes. Los parámetros específicos y el rango de prueba se basan en el modelo confirmado y los documentos técnicos.