Wie sollte das Filterziel bestimmt werden, wenn der Fotolack gegenüber alkalischen Gasen empfindlich ist?

Wenn der Fotolack gegenüber alkalischen Gasen empfindlich ist, sollte das Filterziel auf der Grundlage des spezifischen Fotolithographieprozesses sowie der Material- und Geräteanforderungen bestimmt werden. Allgemeine Desodorierungsnormen oder einige universelle AMC-Werte können nicht direkt als Anforderungen für den gesamten Fotolithografiebereich angesehen werden. Es gibt einen klaren chemischen Mechanismus für die Wirkung von alkalischem Gas auf Fotolack, und die Filtrationsziele sollten auf der Grundlage dieses Mechanismus und der Prozessempfindlichkeit festgelegt werden.

1. Klären Sie sensible Objekte und Erkennungskaliber

Es ist notwendig, Ammoniak, Amin und andere verwandte Komponenten zu unterscheiden und die Konzentrationseinheit, die Probenahmezeit und die Nachweisfähigkeit der Methode zu bestätigen. Eine alleinige Beschreibung der Gesamtmenge oder des Geruchs reicht in der Regel nicht aus, um Bekämpfungsziele festzulegen.

Das chemische Verstärkungssystem des Fotolacks reagiert empfindlich auf alkalische Substanzen. Ammoniak und Amine neutralisieren die Photosäure im Photoresist und beeinträchtigen die Mustergenauigkeit. Unterschiedliche Komponenten haben unterschiedlich starken Einfluss. Beim Testen ist es notwendig, die spezifischen Konzentrationen von Ammoniak und Aminen separat zu bestätigen und nicht nur die TVOC-Gesamtmenge anzugeben. Aili Industry istBestätigen Sie eines chemischen Filters die Medienkonfiguration entsprechend dem Zielgas.bei der Auswahl Der chemische FFU-Filter kann mit FFU zur Umluftbehandlung im Fotolithografiebereich verwendet werden. Die Beziehung zwischen Ebenen und Filteranforderungen finden Sie inVergleich der ISO-Reinheitsgrade。

2. Ordnen Sie Ziele tatsächlichen Schutzstandorten zu

Frischluft, Raumzirkulation und Mikroumgebungen der Geräte haben unterschiedliche Verantwortlichkeiten und Eingaben im Vergleich zu internen Freisetzungen sollten untersucht werden. Nur weil der Filterelementauslass bestimmte Anforderungen erfüllt, heißt das nicht unbedingt, dass der Ort, an dem der Fotolack verwendet wird, geschützt ist.

Das alkalische Gas im Fotolithografiebereich kann aus der Frischluft, dem Fotolack selbst, Reinigungsmaterialien und umgebenden Prozessen stammen. Die Frischluftaufbereitung, die Raumumwälzung und die Innenfiltration der Geräte sind jeweils für unterschiedliche Aufgabenbereiche zuständig. Der Akzeptanzpunkt sollte an der tatsächlichen Stelle festgelegt werden, an der der Fotolack verwendet wird, und nicht nur am Test des Filterauslasses. Aili Industry istDas kastenförmige chemische Filterpaket ist entsprechend der MAU-Frischluftaufbereitung konfiguriert.Chemische Filter vom V-Typ eignen sich für Filterabschnitte mit begrenztem Platzangebot. Informationen zur Entsprechung zwischen Gassteuerungs- und Schutzpositionen finden Sie unterHEPA-FAQs und Auswahlhilfe。

3. Beispiele für Projektbeurteilungen

Überprüfen Sie vor dem Einbringen neuer Reinigungsmaterialien die relevanten alkalischen Bestandteile und veranlassen Sie eine repräsentative Luftprüfung im Bereich, in dem der Fotolack verwendet wird.

Die Einführung neuer Materialien kann neue Quellen für alkalische Gase bringen. Es ist aussagekräftiger, die Inhaltsstoffe vor dem Import zu bestätigen und am tatsächlichen Einsatzort zu testen, als sie anschließend am Auslass des Filterelements zu testen.

4. Anwendungskontrollpunkte

5. Überprüfung und anschließende Verwendung

Prozessbereiche, Geräteeingänge und geschützte Orte können unterschiedliche Luftbedingungen aufweisen. Rund um den tatsächlichen Einsatzort des Produkts oder der Ausrüstung sollten Inspektionspunkte eingerichtet und Aufzeichnungen über den normalen Betrieb geführt werden. Die Umweltfiltration kann mit Quellen-, Material- und Luftströmungsmaßnahmen arbeiten, kann aber Kontaminationen in ungefilterten Abschnitten nicht automatisch abdecken.

Aili Industry istBestätigen Sie mit chemischen Filtern die Medienkonfiguration entsprechend der alkalischen Zielkomponente.im Bereichsplan für die Fotolithografie Flache chemische Filter eignen sich für Geräte oder platzbeschränkte Szenarien. Die konkrete Wirkung unterliegt der Prüfung vor Ort am Einsatzort des Fotolacks.

6. Verwandte Fragen und Antworten

Ist es in Ordnung, allgemeine Desodorierungsstandards für alkalische Gase im Bereich der Fotolithographie anzuwenden?
nicht genug. Konzentrationsziele müssen für bestimmte Komponenten wie Ammoniak und Amine festgelegt werden. Allgemeine Desodorierungsnormen können Prozessschutzindikatoren nicht ersetzen.

Kann nur die Messung der Gesamtmenge an TVOC den Effekt der alkalischen Gaskontrolle bestimmen?
kann nicht. TVOC ist ein umfassender Indikator, der die spezifischen Konzentrationen von Ammoniak und Aminen nicht widerspiegeln kann und spezielle Tests erfordert.

Bedeutet die Tatsache, dass der Filterelementauslass der Norm entspricht, dass die Position des Fotolacks sicher ist?
unsicher. Zwischen dem Auslass des Filterelements und dem Ort, an dem der Fotolack verwendet wird, kann es zu einer internen Freisetzung kommen, und die Annahmestelle sollte an einer geschützten Stelle angebracht werden.

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