데이터 센터 화학 필터는 신선한 공기를 처리해야 합니까, 아니면 재활용 공기를 처리해야 합니까?

컴퓨터실의 가스 부식 오염은 두 방향에서 발생할 수 있습니다. 하나는 외부의 신선한 공기에 의해 유입되고 다른 하나는 내부에서 자체적으로 방출됩니다. 처리 위치를 신선한 공기 구역에 놓을 것인지, 순환 공기 구역에 둘 것인지는 본질적으로 어느 방향이 주 공급원인지를 결정하는 것입니다.

판단이 틀리면 아무리 필터재를 잘 선택해도 효과가 이상적이지 않을 수 있습니다. 외부 입력이 지배적이지만 여과는 환기 구간에서만 수행되며 이는 지속적으로 새로운 오염 물질이 유입되는 것과 동일하며 순환 여과는 이를 추적할 수만 있습니다. 내부 방출이 지배적이지만 신선한 공기 섹션에서만 처리되며 실내 농도는 여전히 천천히 축적됩니다. 구체적인 출처 조사는 다음을 참조하세요. 데이터 센터에서 가스 부식 오염을 평가해야 하는 이유 에 대한 논의 .

먼저 기본 소스를 확인하세요.

신선한 공기인지 순환 공기인지를 결정하는 첫 번째 단계는 오염이 어디서 오는지 파악하는 것입니다.

신선한 공기 입구를 둘러보세요. 컴퓨터실이 산업 지역, 교통 동맥, 하수 처리 시설 또는 농업 지역에 가까운 경우 신선한 공기로 인해 황화물, 질소 산화물, 염화물 또는 암모니아가 운반될 수 있습니다. 이러한 구성 요소는 신선한 공기와 함께 컴퓨터실로 들어가며 외부 입력 장치입니다.

전산실 내부자료를 살펴보세요. 배터리, 포장재, 세제 및 전자 부품 포장재는 온도의 영향으로 미량의 부식성 구성 요소를 방출할 수 있습니다. 이러한 유형의 소스는 신선한 공기를 통과하지 못하고 컴퓨터실에 직접 축적됩니다.

다양한 위치의 감지 데이터를 비교하세요. 신선한 공기 유입구, 컴퓨터실의 환기 구역 및 주요 장비 근처에서 샘플을 채취하면 오염이 신선한 공기에 의해 유입되는지 아니면 내부에서 생성되는지 확인할 수 있습니다. 입구에서의 농도는 실내에 비해 현저히 높으며, 외부 입력이 주요 원인입니다. 입구보다 실내 농도가 더 높고, 내부 방출도 더 주목할 만하다. 구체적인 샘플링 방법은 다음을 참조하세요. 화학 필터 성능 검증을 위한 샘플링 지점에 대한 논의 .

근무 조건의 변화를 기록합니다. 신선한 공기의 비율, 계절 변화, 장비 가동 및 종료에 대한 조정은 모두 오염원의 상대적 기여도에 영향을 미칩니다. 한 번만 측정된 데이터가 반드시 일년 내내 상황을 대변하는 것은 아닙니다.

외부 입력이 확실한 경우 신선한 공기 섹션에 집중

테스트 결과 외부 입력이 주요 원인인 것으로 확인되면 신선한 공기 구역에서 처리 위치를 우선적으로 지정해야 합니다.

신선한 공기 섹션 처리의 장점. 전산실로 유입되기 전 오염물질을 차단하여 전산실 내 오염물질 축적을 방지하고, 후속 사이클 여과 부담을 줄여줍니다. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. MAU가 화학적 여과 섹션을 구성해야 하는 이유에 대한 논의 .

신선한 공기 섹션의 화학 여과 섹션의 위치입니다. 일반적으로 공기 조화 장치 내에 위치하며 사전 여과 후, 표면 냉각기 전 또는 후에 위치할 수도 있습니다. 구체적인 위치는 온도와 습도 조건, 필터 재질의 적합성을 바탕으로 확인해야 합니다. 표면 냉각기 뒤에 물방울이 맺힐 위험이 있는 경우 먼저 물방울을 처리해야 합니다. 구체적인 비교는 다음을 참조하세요. MAU 케미컬 필터를 표면 냉각기 이전에 설치해야 하는지, 아니면 이후에 설치해야 하는지에 대한 논의 .

공기량과 저항을 계산해야 합니다. 데이터 센터의 신선한 공기 시스템의 공기량은 일반적으로 크며, 화학 여과 섹션을 추가하면 시스템 저항이 증가합니다. 공기 공급량이 영향을 받지 않는지 확인하려면 팬 마진을 확인해야 합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

신선한 공기 섹션 여과는 내부 배출을 커버할 수 없습니다. 컴퓨터실 내부에도 재료가 방출되는 경우 신선한 공기 처리로 외부 입력의 기여도를 줄일 수 있으며 실내 농도는 점차 누적될 수 있습니다.

내부 축적 또는 국소 보호를 위해 순환 공기 또는 구역 처리를 고려하십시오.

주요 소스가 컴퓨터실 내부에 있거나 외부 입력이 신선한 공기 섹션에서 처리되어 여전히 남아 있는 경우 순환 공기 또는 지역 처리가 더 직접적입니다.

리턴 에어 섹션 처리. 순환 공기 중 부식성 성분을 처리하기 위해 컴퓨터실의 환기 경로에 화학 필터 섹션을 설치합니다. 이 방법은 내부 방출이 연속적이고 농도가 높지 않지만 장기간 축적되는 상황에 적합합니다. 구체적인 구성은 다음을 참조하세요. 에 화학 필터를 설치하는 데 적합한 공기 처리 시스템 에 대해 논의합니다 .

지역 처리. 일부 캐비닛이나 장비만 부식성 가스에 민감한 경우 전체 컴퓨터실을 처리하는 대신 로컬 공기 공급 경로에 화학 여과 섹션을 설정하는 것을 평가할 수 있습니다. 이 방법은 공기량이 적고 저항 효과를 제어할 수 있지만 국부적인 공기 흐름 경로가 대상 장치를 덮고 있는지 확인해야 합니다. 구체적인 아이디어는 다음을 참조하세요. FFU와 화학 필터를 함께 사용하면 어떤 국지적 오염을 처리할 수 있는지 에 대한 논의 .

재순환 여과는 고농도 외부 입력을 보상할 수 없습니다. 신선한 공기에 의해 유입되는 오염물질의 농도가 매우 높을 경우 순환여과를 통해 이를 희석할 수 있을 뿐 지속적인 유입을 막을 수는 없습니다. 이 경우에도 신선한 공기 구간 처리가 필요합니다.

조합 구성이 더 일반적입니다. 많은 전산실의 실제 계획은 외부공기 구역에서 1차 처리를 하고, 환기 구역이나 국소 구역에서 이를 보충하는 것입니다. 어느 부분이 얼마나 많은 부분을 차지하는지는 감지 데이터와 시스템 상태에 따라 다릅니다.

시스템 매칭 및 운영 검증

신선한 공기를 처리하든 재활용 공기를 처리하든 시스템 수준의 조건을 확인해야 합니다.

저항 중첩을 명확하게 계산해야 합니다. 신선한 공기 부분과 순환 공기 부분 모두에 케미컬 필터 부분을 추가하면 전체 저항이 중첩됩니다. 팬을 선택하거나 기존 팬의 마진을 계산할 때 각 섹션의 저항을 고려해야 합니다. 구체적인 방법은 다음을 참조하세요. 케미컬 필터의 저항을 추가하면 팬의 전력 소비가 얼마나 증가하는지 에 대한 논의 .

샘플링 지점은 치료 전후를 포함해야 합니다. 출구 농도 변화를 쉽게 추적할 수 있도록 여과 섹션 전후에 샘플링 포트가 제공됩니다. 신선공기 구간과 순환공기 구간을 별도로 설정해야 하며, 함께 판단해서는 안 됩니다. 특정 포인트 선택에 대해서는 다음을 참조하십시오. 화학 필터 성능 검증을 위한 샘플링 지점에 대한 논의 .

냉각 요구 사항은 무시할 수 없습니다. 데이터 센터에는 공기 공급량에 대한 요구 사항이 높습니다. 필터 섹션을 추가한 후에는 공기량이 여전히 열 방출 요구 사항을 충족할 수 있는지 확인해야 합니다. 가스 처리를 위해 냉각 성능을 희생할 수는 없습니다.

유지 관리 채널을 예약해야 합니다. 케미컬필터부의 교체주기는 입자필터의 교체주기와 다르며, 설계단계에서 유지보수 접근 및 작동공간을 확인해야 합니다. 관련된 MAU 상자 화학 필터 또는 FFU를 지원하는 케미컬 필터 의 시스템, 인터페이스, 저항 등은 계획 단계에서 함께 점검해야 합니다.

프로젝트 판단 예

데이터센터 전산실에 회로기판 부식 문제가 발생해 초기 계획은 외부 공기 구역에 화학 여과 구역을 추가하는 것이었습니다.

일정 기간 동안 작동한 후 부식 경향이 완화되었지만 완전히 제거되지는 않은 것으로 나타났습니다. 추가 테스트를 통해 컴퓨터실의 일부 배터리 및 포장재에서 방출된 미량의 황화물이 실내에 축적되었으며 신선한 공기 섹션 여과가 이러한 소스를 처리할 수 없는 것으로 나타났습니다.

조정 계획: 신선한 공기 구역에 화학 여과 구역을 유지하고 내부 방출을 처리하기 위해 장비실의 환기 경로에 황화물에 대한 화학 여과 구역을 추가합니다. 2단계 필터의 저항을 다시 계산한 후에도 팬 작동 지점은 여전히 ​​허용 범위 내에 있습니다. 조정 후 실내 황화물 농도가 감소하고 부식 경향이 제어되었습니다.

이 사례는 신선한 공기 또는 순환 공기가 오염원에 따라 다르다는 것을 보여줍니다. 두 가지를 함께 사용해야 하는 경우도 있습니다. 관련된 케미컬 필터 제품 시리즈를 선택할 때 확인을 위해 공급업체에 신선한 공기 테스트 데이터, 실내 테스트 결과 및 시스템 조건을 제공하는 것이 좋습니다.

선정 및 합격심사 핵심사항

Aili Industrial의 데이터센터 화학 여과 패키지 소개

데이터센터의 신선한 공기와 순환 공기의 화학적 여과의 핵심은 오염원, 공기 경로 및 방열 조건을 일치시킨 다음 일치하는 처리 위치와 매체를 선택하는 것입니다.

Aili Industrial은 필터, 모터, 팬, 제어 시스템 및 판금 가공 분야에서 독립적인 제조 능력을 보유하고 있으며 화학 필터 제품 시리즈 및 지원 공기 공급 장비를 제공할 수 있습니다. 데이터 센터 프로젝트의 경우 신선한 공기 감지 데이터, 실내 농도, 공기량 및 설치 공간을 결합하여 신선한 공기 섹션 또는 순환 공기 섹션의 여과 구성을 확인하는 데 도움을 줄 수 있습니다. 필터가 MAU, FFU, EFU 및 기타 장비와 일치하면 저항, 인터페이스 및 유지 관리 방법을 균일하게 확인할 수 있습니다.

관련 제품:케미컬 필터 제품 시리즈、MAU 박스 화학 필터、FFU에는 화학 필터가 함께 제공됩니다 . 문의 시 오염원 판단, 시스템 조건 및 열 방출 요구 사항을 제공하면 적절한 여과 솔루션을 확인하는 데 도움이 됩니다. 구체적인 선택은 프로젝트에서 확인한 기술 문서 및 테스트 결과에 따라 달라집니다.